ODMセリウムオキシド ポリシング複合粉末
製品詳細
| 粒子サイズ: | 2.0±02 | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂%: | 63~68% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 配合: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
ODM セリウムオキシド ポーリング 化合物,OLEDセリウムオキシドの磨き化合物,ODMセリウムオキシド ガラスの擦り傷のために |
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製品の説明
OLEDスクリーン製造用の磨き粉
記述
2026年までのディスプレイ生産を最適化します 高純度セリウム酸化物 (CeO2) ポリシング粉末で OLED製造の厳しい要求に応えるように設計されていますOLED技術がピクセル密度や柔軟性のある基板に 移行するにつれて表面の平らさや 欠陥のない品質の必要性は かつてないほど重要でした
私たちの粉末は 先進的な化学機械磨き (CMP) を利用して 純正な最先端のスマートフォンやウェアラブルディスプレイで使用される薄膜トランジスタ (TFT) のバックプレーンとエンカプスレーショングラスに必要な超滑らかな表面.
主要なパフォーマンスメリット
サブナノメートル精度:表面粗さ (Ra) の値を0.5nm未満にするように設計されている.有機層と電極の最適な接触を確保し,キャリア注射と装置の効率を向上させる.
欠陥ゼロの信頼性: 超高純度セリア (>99%) を用いて,敏感なディスプレイ基板に霧,微小の擦り傷,または光学異常を引き起こす微小汚染物質を排除する.
強化された平面化:我々の配列は,ピクセル均一性を維持するために不可欠な大格式ガラス全体に優れたグローバル平面化を提供する狭い粒子のサイズ分布を特徴としています.
持続可能で簡単に清掃できます.天然に無毒で簡単に洗浄できる粉末は,有害な化学薬品の環境に優しい代替品であり,磨き後の超音波清掃時間を短縮するのに役立ちます.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 63~68 | 2.0±02 | 白い粉末 | ディスプレイ |
粒子の大きさの分布
Q&A
1セリウムオキシドの磨き粉とは?
答え:
セリウム酸化物磨き粉は,光学部品,半導体ウェーファー,ガラスやレンズなどの他の繊細な表面を磨くために広く使用される高純度化合物です.細い粒子 と 優れた 化学 特性 を 備える 材料 に よっ て,磨き られ て いる 表面 に 損傷 を 及ぼさ ず に 高い 透明 性 と 滑らかさ を 得る の に 理想 的 に なり ます.
2適切なセリウムオキシドの磨き粉を どのようにして選べますか?
答え:
適正 な 磨き粉 を 選べる の は,磨く 材料 と 望ま れ て いる 仕上げ に 依存 し て い ます.粒子 の 大きさ,純度,そして,あなたの磨きプロセスの特定の要求は,あなたの選択を導くべきです販売チームは,あなたのニーズに最適な製品を選択するのにあなたを助けることができます.
3セリウムオキシドの磨き粉をどのように保管すべきですか?
答え:
セリウム オキシド の 磨き粉 は,直接 の 日光 や 湿度 から 遠ざかっ て,涼しく 乾燥 し た 場所 に 保管 し,汚染 を 防止 する ため,密閉 し た 防空 容器 に 保管 し て ください.適切な保管は,製品が時間とともに品質と有効性を維持することを保証します正しく保管された場合,セリウム酸化物磨き粉は通常1〜2年の保存期間があります.
4セリウムオキシドの製剤を 提供していますか?
ええ,我々は特定の性能要件を満たす パーソナライズドセリウムオキシド磨き粉末とスラージーを提供します.またはスローリングの一貫性あなたのニーズに最も適した配合を作ることができます.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
はい,我々は評価のために我々のセリウムオキシド磨き粉とスラージーのサンプルを提供します. サンプルを依頼するために私達に連絡してください,そして私たちのチームは出荷を整理します.
6. どうやって注文できますか?セリウム酸化物製品の典型的な配達時間は?
販売チームに連絡して注文することができます. プロセスを通して案内し,製品選択に助け,お客様のニーズに基づいて価格を提示します. 注文が確認されたら,推定配送スケジュールを提供します.配送時間は,注文のサイズ,場所,および商品が在庫かどうかによって異なります.
製品 ハイライト
OLEDスクリーン製造用の磨き粉 記述 2026年までのディスプレイ生産を最適化します 高純度セリウム酸化物 (CeO2) ポリシング粉末で OLED製造の厳しい要求に応えるように設計されていますOLED技術がピクセル密度や柔軟性のある基板に 移行するにつれて表面の平らさや 欠陥のない品質の必要性は かつてないほど重要でした 私たちの粉末は 先進的な化学機械磨き (CMP) を利用して 純正な最先端のスマートフォンやウェアラブルディスプレイで使用される薄膜トランジスタ (TFT) のバックプレーンとエンカプスレーショングラスに必要な超滑らかな表面. 主要なパフォーマンスメリット サブナノメート...
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