ガラスの欠陥除去剤 セリウムオキシド 希少土の磨きスラム 低分散レーザー光学磨き用
製品詳細
| 粒子サイズ: | 1.0±0.2μm | CAS番号: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 73~78% | 停止率: | 高い |
| Ph 範囲: | 7-10 | 応用: | レーザー光学系 |
| ハイライト |
欠陥除去剤 希少土の磨きスラム,低分散性稀土の磨きスロー,セリウムオキシードでガラスを磨く |
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製品の説明
低散乱レーザー光学磨き用セリウム酸化物
記述について
低散乱レーザー光学磨き用リッヘンセリウム酸化物は,レーザーグレードの光学部品の精密仕上げのために設計された高純度セリウムベースの磨き粉である.現代のレーザーシステムの厳格な表面品質要件を満たすために開発この製品は微小の欠陥を最小限に抑え,光の散乱と光学損失を大幅に削減する超滑らかな表面を可能にします.
表面の整合性や散乱制御が不可欠なレーザー光学を磨くのに理想的です.
主要 な 特徴 と 利点
超高純度セリウム酸化物
極低の不純度で吸収センターやレーザーによる損傷の危険性が低下します
超細粒子サイズ制御
精密 に 制御 さ れ た 磨料 は,材料 を 滑らかに 除去 し,微小 な 傷 や 地下 の 損傷 を 最小限に 抑え ます.
低分散表面性能
表面の荒さや散る光の分散を最小限に抑える光学表面を製造する.
優れた 化学 機械 均衡
セリウム酸化物と光学ガラスの最適化された相互作用により,表面の劣化なく効率的な磨きが可能です.
高 の 一貫性 と 繰り返す 可能性
安定したバッチ対バッチ性能は,精密レーザー光学製造における信頼性の高い結果を提供します.
技術データ
| 分子式 | CAS番号 | CeO2 % | D50 (μm) | 外見 | 適用する |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78 | 1.0±0.2μm | 白いスラム | レーザー光学 |
粒子の大きさの分布について
Q&A
1稀土の磨き粉とは?
光学部品や半導体ウェーファーや ガラスやレンズなどの繊細な表面を 磨くのに使用される 高純度化合物です高透明度で材料を損傷することなく仕上げ.
2稀土の磨き粉を どう選べますか?
理想的な磨き粉を選ぶには,磨いている材料,必要な仕上げ,粒子の大きさや純度などの要素を考慮してください.あなたのニーズに最適な製品を選択するのに役立ちます..
3稀土の磨き粉を どうやって保管すればいいですか?
温かい乾燥した場所に保管し,湿度や日光から遠ざけます. 汚染を防止し有効性を維持するために,粉末を気密容器に保管します.通常は1〜2年続きます.
4稀土の製剤を 提供していますか?
はい,私たちは,あなたの特定のニーズを満たすために,細粒子のサイズ,化学的組成,またはスラムの一貫性調整を含む,カスタム稀土の磨き粉やスラムを提供しています.
5大量注文する前にサンプルを貰えますか?
絶対! 評価のためにサンプルを用意します. サンプルを依頼するためにチームに連絡してください. そして私たちは出荷を整理します.
6どうすれば注文できますか? 典型的な配達時間は?
注文をするには,単に販売チームと連絡してください. 彼らはプロセスを通してあなたを案内し,オートを提供します. 配達時間は,注文のサイズ,場所,および在庫の可用性によって異なります.オーダーが確認されたら 予定表を教えます.
製品 ハイライト
低散乱レーザー光学磨き用セリウム酸化物 記述について 低散乱レーザー光学磨き用リッヘンセリウム酸化物は,レーザーグレードの光学部品の精密仕上げのために設計された高純度セリウムベースの磨き粉である.現代のレーザーシステムの厳格な表面品質要件を満たすために開発この製品は微小の欠陥を最小限に抑え,光の散乱と光学損失を大幅に削減する超滑らかな表面を可能にします. 表面の整合性や散乱制御が不可欠なレーザー光学を磨くのに理想的です. 主要 な 特徴 と 利点 超高純度セリウム酸化物 極低の不純度で吸収センターやレーザーによる損傷の危険性が低下します 超細粒子サイズ制御 精密 に 制御 さ れ た 磨料 は...
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