유리 결함 제거제 세리움 산화질소 희토류 닦는 슬러리 낮은 산란 레이저 광학 닦기
제품 상세정보
| 입자 크기: | 1.0±0.2μm | CAS 번호: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 73~78% | 정지율: | 높은 |
| Ph 범위: | 7-10 | 애플리케이션: | 레이저 광학 |
| 강조하다 |
결함 제거제 희토류 닦기 매물,저분산성 희토류 가습물,세리움 산화로 유리 닦는 것 |
||
제품 설명
저분산 레이저 광학 닦기용 세리움 산화물
설명에
저분산 레이저 광학 닦기용 리첸 세리움 산화물은 레이저 등급 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 고순도, 세리움 기반의 닦기 분말입니다.현대 레이저 시스템의 엄격한 표면 품질 요구 사항을 충족시키기 위해 개발되었습니다., 이 제품은 미세 결함이 최소화 된 초 부드러운 표면을 가능하게하며 빛의 산란과 광적 손실을 크게 줄입니다.
그것은 고 전력 및 정밀 레이저 응용 프로그램을 포함하여 표면 무결성 및 산란 통제가 중요한 레이저 광학을 닦기 위해 이상적으로 적합합니다.
주요 특징 및 장점
초고정도의 세리움 산화물
매우 낮은 불순물 수준은 흡수 중심지 및 레이저로 인한 손상의 위험을 줄입니다.
초미세 입자 크기 제어
정밀하게 제어 된 가열제는 원활한 물질 제거를 가능하게하고 미세 경사 및 지하 손상을 최소화합니다.
낮은 산란 표면 성능
표면 거칠성 감소와 미미화된 방랑광 산란을 가진 광적 표면을 생성합니다.
훌륭 한 화학-기계 균형
세리움 산화물과 광 유리 사이의 최적화된 상호 작용은 표면 손상없이 효율적인 닦기를 지원합니다.
높은 일관성 과 반복성
안정적인 대량 성능은 정밀 레이저 광학 제조에서 신뢰할 수있는 결과를 보장합니다.
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | CeO2 % | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| CeO2 | 1306-38-3 | 73~78 | 10.0±0.2μm | 백색 매물 | 레이저 광학 |
입자 크기 분포의정

질문 및 답변
1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?
희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.
2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?
이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.
3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?
시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..
4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?
예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.
5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?
절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.
6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?
주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.
제품 하이라이트
저분산 레이저 광학 닦기용 세리움 산화물 설명에 저분산 레이저 광학 닦기용 리첸 세리움 산화물은 레이저 등급 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 고순도, 세리움 기반의 닦기 분말입니다.현대 레이저 시스템의 엄격한 표면 품질 요구 사항을 충족시키기 위해 개발되었습니다., 이 제품은 미세 결함이 최소화 된 초 부드러운 표면을 가능하게하며 빛의 산란과 광적 손실을 크게 줄입니다. 그것은 고 전력 및 정밀 레이저 응용 프로그램을 포함하여 표면 무결성 및 산란 통제가 중요한 레이저 광학을 닦기 위해 이상적으로 적합합니다. 주요 특징 및 장...
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