レーザー結晶・精密光学研磨用高純度セリウム酸化物研磨粉
製品詳細
| 純度: | ≥ 99.9% | レアアース不純物: | ≤0.1% |
|---|---|---|---|
| D50: | 0.3~1.0μm | pH (10% スラリー): | 6.5 – 7.5 |
| 外観: | 明るい黄色の微粉末 | 分散性能: | 素晴らしい |
| ハイライト |
セリウムの酸化物の磨く粉,高純度光学研磨粉,レーザー結晶研磨コンパウンド |
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製品の説明
高純度セリウムオキシド磨き粉 レーザー結晶と精密光学磨き粉
記述について
高純度セリウムオキシドの磨き粉は レーザー結晶と先進的な光学部品の 高精度磨き粉のために 特別に設計されています優れた表面仕上げと制御された材料除去を可能にするように設計された製品では,高功率レーザーアプリケーションに必要な原子レベルの滑らかさを達成しながら,地下のダメージを最小限に保ちます.
Optimized 粒子の形状と狭い粒子のサイズ分布により,磨き粉は,Nd:YAG,YAG,サファイア線形ではない光学結晶
高い光学伝送,低散乱損失,卓越した表面品質を必要とするメーカーには理想的です
主要な 技術 的 利点
1制御された化学・機械的な磨き機
純磨材とは異なり,セリアは結晶表面と化学反応し,以下を可能にします.
- 低磨き圧
- マイクロクラッキングの減少
- 表面の整合性が高い
2安定したスラム性能
- 容易に分散する
- 低沉積度
- 泥沼の長寿
3高出力製造業
顧客は,通常,次のことを達成します.
- 高い光学通行率
- 短縮された磨きサイクル
- 生産効率の向上
粒子の大きさの分布について

申請
- レーザー・クリスタル・ポーリング
- 高功率レーザー光学
- 非線形光学結晶磨き
- 精密フォトニクス部品
- 光窓と共鳴器の磨き
なぜ 世界 的 な 供給 者 と し て リーチェン を 選ぶ の か
- 専用のセリア&アルミナポリシングメーカー
- 安定した稀土原材料の供給チェーン
- パーソナライズされた粒子工学能力
- 連続的なバッチ対バッチ品質管理
- 磨きプロセスの最適化のための技術支援
製品 ハイライト
高純度セリウムオキシド磨き粉 レーザー結晶と精密光学磨き粉 記述について 高純度セリウムオキシドの磨き粉は レーザー結晶と先進的な光学部品の 高精度磨き粉のために 特別に設計されています優れた表面仕上げと制御された材料除去を可能にするように設計された製品では,高功率レーザーアプリケーションに必要な原子レベルの滑らかさを達成しながら,地下のダメージを最小限に保ちます. Optimized 粒子の形状と狭い粒子のサイズ分布により,磨き粉は,Nd:YAG,YAG,サファイア線形ではない光学結晶 高い光学伝送,低散乱損失,卓越した表面品質を必要とするメーカーには理想的です 主要な 技術 的 利点 1制...
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Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
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