レーザークリスタルポリシング セリウム酸化物 超精密セリウムポリシングパウダー 光子と光学製造用
製品詳細
| 純度: | ≥ 99.9% | レアアース不純物: | ≤0.1％ |
|---|---|---|---|
| 中央粒子径: | 0.3～1.0μm | 分散安定性: | 素晴らしい |
| 外観: | 明るい黄色の微粉末 | 粒度分布: | 狭いところ |
| ハイライト |
セリウムの酸化物の磨く粉,超精密のセリア・ポーリング,光学製造用磨き化合物 |
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製品の説明
レーザークリスタルポリシング セリウム酸化物 超精密セリウムポリシングパウダー 光子と光学製造用
製品概要
高純度セリウムオキシッドのポリシング粉末は,壊れやすいレーザー結晶と精密光学材料のポリシングのために特別に設計されています.
粒子のサイズ分布,形状,表面反応性を最適化することで:
- 超滑らかな光学表面
- 安定した物質除去率
- 優れた分散性能
- 最小のスケッチ生成
- 高度なプロセスの繰り返し性
主要な 技術 的 利点
1制御された化学・機械的な磨き機
2超低表面損傷
3安定したスラム性能
4高出力製造業
粒子の大きさの分布について
申請
- レーザー結晶製造
- フォトニクスと光学部品
- 先進的な光学産業
なぜ 世界 的 な 供給 者 と し て リーチェン を 選ぶ の か
- 専用のセリア&アルミナポリシングメーカー
- 安定した稀土原材料の供給チェーン
- パーソナライズされた粒子工学能力
- 連続的なバッチ対バッチ品質管理
- 磨きプロセスの最適化のための技術支援
製品 ハイライト
レーザークリスタルポリシング セリウム酸化物 超精密セリウムポリシングパウダー 光子と光学製造用 製品概要 高純度セリウムオキシッドのポリシング粉末は,壊れやすいレーザー結晶と精密光学材料のポリシングのために特別に設計されています. 粒子のサイズ分布,形状,表面反応性を最適化することで: 超滑らかな光学表面 安定した物質除去率 優れた分散性能 最小のスケッチ生成 高度なプロセスの繰り返し性 主要な 技術 的 利点 1制御された化学・機械的な磨き機 2超低表面損傷 3安定したスラム性能 4高出力製造業 粒子の大きさの分布について 申請 レーザー結晶製造 フォトニクスと光学部品 先進的な光学産業 ...
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