高純度セリウムオキシドのポリシング粉末,ガラス基板のポリシング用
製品詳細
| 化学式: | CeO₂ | 純度: | ≥99.9% |
|---|---|---|---|
| 粒径(D50): | 0.5～2.5μm（カスタマイズ可能） | 色: | 淡黄色の粉末 |
| pH: | 6.5-8.5 | 包装: | 20kgカートン/袋 |
| ハイライト |
高純度酸化セリウム粉末、酸化セリウムガラス研磨粉末、希土類ガラス基板研磨,cerium oxide glass polishing powder,rare earth glass substrate polish |
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製品の説明
ガラス基板研磨用高純度酸化セリウム研磨粉
製品概要
Lichen 高純度酸化セリウム研磨粉は、電子ディスプレイ、半導体処理、光学部品、および高度な産業用途で使用されるガラス基板の精密研磨用に設計されています。高品質のレアアース材料を使用し、厳格な品質管理のもとで製造されており、優れた研磨効率、優れた表面仕上げ、安定したスラリー性能を実現します。
最適化された粒度分布により、傷や表面欠陥を最小限に抑えながら材料を迅速に除去できるため、手動および自動の両方の研磨システムに適しています。。
主な特長
- 化学組成が安定した高純度酸化セリウム
- 優れた研磨速度と高い生産効率
- 非常に滑らかで欠陥のないガラス表面を生成します
- 傷の発生が少なく、表面下の損傷が軽減されます。
- 均一な粒度分布で安定した研磨性能を実現
- 優れたスラリー分散性と懸濁安定性
- 各種研磨機、パッド材質に対応
- 連続的な工業生産に適しています
粒度分布ション
アプリケーション
- 液晶ガラス基板研磨
- 表示パネルのガラス仕上げ
- カバーガラス研磨
- 光学ガラス研磨
- 薄板ガラス基板加工
- タッチパネルガラスの製造
- 精密電子ガラス研磨
- 実験室用ガラス研磨
- 特殊工業用ガラス仕上げ
よくある質問
Q1.粒子サイズはカスタマイズできますか?
はい。さまざまな研磨装置や表面仕上げの要件に合わせて、さまざまな粒子サイズをご用意しています。
Q2.自動研磨装置に適した粉末ですか？
はい。この材料は、自動研磨ラインと手動研磨プロセスの両方に適合するように設計されています。
Q3.傷は発生しますか？
最適化された粒子形態により、優れた材料除去率を維持しながら、傷が最小限に抑えられます。
Q4.研磨剤として供給できますか？
はい。 Lichenは、顧客の仕様に応じてすぐに使用できる酸化セリウム研磨スラリーを製造できます。
製品 ハイライト
ガラス基板研磨用高純度酸化セリウム研磨粉 製品概要 Lichen 高純度酸化セリウム研磨粉は、電子ディスプレイ、半導体処理、光学部品、および高度な産業用途で使用されるガラス基板の精密研磨用に設計されています。高品質のレアアース材料を使用し、厳格な品質管理のもとで製造されており、優れた研磨効率、優れた表面仕上げ、安定したスラリー性能を実現します。 最適化された粒度分布により、傷や表面欠陥を最小限に抑えながら材料を迅速に除去できるため、手動および自動の両方の研磨システムに適しています。。 主な特長 化学組成が安定した高純度酸化セリウム 優れた研磨速度と高い生産効率 非常に滑らかで欠陥のないガラス表...
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