품질 0.8μM 세리움 산화질소 희토류 닦는 매립물 적외선 IR 광학 닦기용 가시제 공장
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0.8μM 세리움 산화질소 희토류 닦는 매립물 적외선 IR 광학 닦기용 가시제

브랜드 이름: LICHEN
모델 번호: DS650
원산지: 중국
인증: ISO9001
최소 주문 수량: 20KGS
가격: CONNECT OUR SALES TEAM FOR QUOTATION
공급 능력: 3000MT/year

제품 상세정보


입자 크기: 0.4-0.8μm CAS 번호: 1306-38-3
Ph 범위: 7-10 애플리케이션: 적외선(IR) 광학
강조하다

00.8μM 희토류 닦기 매일

,

광학 희토류 가루 가루

,

0.8μM 세리움 산화물 가러기

제품 설명

고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 세리움 산화물

설명

고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 리첸 세리움 산화물은 고인덱스 적외선 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 설계된 고순도 세리움 기반의 닦기 재료입니다.세리움 산화질소의 독특한 화학적/기계적 닦기 특성을 활용함이 제품은 효율적인 물질 제거, 낮은 표면 거칠성 및 까다로운 IR 기판에 탁월한 표면 균일성을 제공합니다.

첨단 IR 광학 제조를 위해 설계되었으며, 낮은 산란, 높은 전송 및 엄격한 표면 품질 통제가 필요한 응용 프로그램에 적합합니다.

 

주요 특징 및 장점

고순도 세리움 산화물 가러기
낮은 불순물 수준은 안정적인 닦기 동작과 광학 수준의 표면 품질을 보장합니다.

고인덱스 IR 재료에 최적화
균형 잡힌 기계적 작용과 화학적 상호 작용은 과도한 표면 손상을 입지 않고 효율적으로 닦을 수 있습니다.

낮은 산란 표면 성능
빛의 산란을 줄이고 IR 전송을 향상시키는 부드러운 표면을 생성합니다.

균일한 입자 크기 분포
일관성 있는 물질 제거를 보장하고 미세한 스크래치와 표면 결함을 최소화합니다.

프로세스 유연성
다양한 IR 닦기 방법과 장비에 맞게 분말 또는 매일 형태로 제공됩니다.

 

기술 데이터

분자 공식 CAS 번호 pH D50 (μm) 외모 적용
CeO2 1306-38-3 7~10 00.4-0.8μm 백색 매물 적외선 (IR) 광학

 

입자 크기 분포의정

0.8μM 세리움 산화질소 희토류 닦는 매립물 적외선 IR 광학 닦기용 가시제 0

질문 및 답변

1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?

희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.

2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?

이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.

3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?

시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..

4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?

예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.

5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?

절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.

6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?

주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.

 

제품 하이라이트

고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 세리움 산화물 설명에 고인덱스 적외선 (IR) 광학을 닦기 위한 리첸 세리움 산화물은 고인덱스 적외선 광학적 구성 요소의 정밀 완화를 위해 설계된 고순도 세리움 기반의 닦기 재료입니다.세리움 산화질소의 독특한 화학적/기계적 닦기 특성을 활용함이 제품은 효율적인 물질 제거, 낮은 표면 거칠성 및 까다로운 IR 기판에 탁월한 표면 균일성을 제공합니다. 첨단 IR 광학 제조를 위해 설계되었으며, 낮은 산란, 높은 전송 및 엄격한 표면 품질 통제가 필요한 응용 프로그램에 적합합니다. 주요 특징 및 ...

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