정밀 광학 및 광학 유리 마감용 고순도 산화세륨(CeO₂) 연마 분말
제품 상세정보
| 재료: | 산화세륨(CeO₂) | 입자 크기(D50): | 맞춤형 |
|---|---|---|---|
| 입자 분포: | 좁은 PSD | 제거 속도: | 높음 및 제어 가능 |
| 표면 마감: | 나노미터 수준의 거칠기 | 분산 성능: | 훌륭한 |
| 강조하다 |
고순도 산화세륨 연마 분말,광학 유리용 산화세륨 분말,정밀 광학 연마 분말 CeO₂ |
||
제품 설명
고순도 산화세륨(CeO₂) 연마 분말 - 정밀 광학 및 광학 유리 마감용
설명고급 광학 제조용 산화세륨(CeO₂) 연마 분말은 광학 부품의 초정밀 표면 마감을 위해 설계된 고성능 희토류 연마재입니다. 화학적 활성과 제어된 기계적 연마 작용을 결합한 산화세륨은 탁월한 표면 평활도와 광학적 선명도를 달성하면서 효율적인 재료 제거를 가능하게 합니다.
산화세륨의 연마 메커니즘은 유리 표면과의 독특한 화학-기계적 상호 작용을 포함하여, 표면 아래 손상을 유발하지 않으면서 미세한 표면 불규칙성을 선택적으로 제거합니다. 이는 나노미터 수준의 표면 품질을 요구하는 고부가가치 광학 부품에 이상적인 연마재입니다.
현대적인 광학 생산 환경을 위해 설계된 이 분말은 배치 및 대량 생산 공정 전반에 걸쳐 안정적인 연마 성능, 우수한 현탁 거동 및 일관된 마감 결과를 제공합니다.
주요 특징 및 장점
안정적인 연마 성능
제어된 입자 엔지니어링은 연속 생산 환경에서 반복 가능한 결과를 보장합니다.
광범위한 공정 호환성
수동 연마 및 완전 자동화된 광학 연마 시스템 모두에 적합합니다.
입자 크기 분포
광학 연마에서 산화세륨의 기술적 장점기존 연마재와 비교하여 산화세륨은 다음을 제공합니다:
낮은 긁힘 발생
높은 연마 효율
- 개선된 표면 정확도
- 감소된 표면 아래 손상
- 우수한 광학 표면 품질
- 유리 재료와의 화학적 친화력은 세리아를 고급 광학 제조의 업계 표준 연마재로 만듭니다.
제품 하이라이트
고순도 산화세륨(CeO₂) 연마 분말 - 정밀 광학 및 광학 유리 마감용 설명고급 광학 제조용 산화세륨(CeO₂) 연마 분말은 광학 부품의 초정밀 표면 마감을 위해 설계된 고성능 희토류 연마재입니다. 화학적 활성과 제어된 기계적 연마 작용을 결합한 산화세륨은 탁월한 표면 평활도와 광학적 선명도를 달성하면서 효율적인 재료 제거를 가능하게 합니다. 산화세륨의 연마 메커니즘은 유리 표면과의 독특한 화학-기계적 상호 작용을 포함하여, 표면 아래 손상을 유발하지 않으면서 미세한 표면 불규칙성을 선택적으로 제거합니다. 이는 나노미터 수준의 표...
AR 광학, 마이크로 렌즈 배열 및 착용 가능한 광학 센서용 CMP-그라드 세리아 롤링 파우더
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
스마트 웨어러블 커버 글래스 및 마이크로 광학 마무리용 초미세 세리아 산화물 닦기 분말
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
AR波导玻璃和光学镜头制造用高纯度氧化铈抛光粉
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
세륨 옥살산염 분말 화학 시약 원소
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
아래의 온라인 문의 연락 양식을 사용하시기 바랍니다. 질문이 있으시면 저희 팀이 가능한 한 빨리 연락합니다.
