高純度セリウム酸化物 (CeO2) 精密光学および光学ガラス仕上げ用 磨き粉
製品詳細
| 材料: | 酸化セリウム (CeO₂) | 粒径(D50): | カスタマイズ可能 |
|---|---|---|---|
| 粒子分布: | 狭い PSD | 取り外し率: | ハイ＆コントロール可能 |
| 表面仕上げ: | ナノメートルレベルの粗さ | 分散性能: | 素晴らしい |
| ハイライト |
高純度セリウムオキシドの磨き粉,光学用ガラス用セリウムオキシド粉末,精密光学磨き粉 CeO2 |
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製品の説明
高純度酸化セリウム（CeO₂）研磨粉末、精密光学・光学ガラス仕上げ用
説明酸化セリウム（CeO₂）研磨粉末、先進光学製造用は、光学部品の超精密表面仕上げのために設計された高性能希土類研磨材です。化学的活性と制御された機械的研磨作用を組み合わせることで、酸化セリウムは効率的な材料除去を可能にし、同時に卓越した表面平滑性と光学的な透明度を実現します。
酸化セリウムの研磨メカニズムは、ガラス表面とのユニークな化学機械的相互作用を含み、サブサーフェスダメージを導入することなく、微細な表面の不規則性を選択的に除去することを可能にします。これにより、ナノメートルレベルの表面品質を必要とする高価値光学部品に理想的な研磨材となります。
最新の光学製造環境向けに設計されたこの粉末は、バッチおよび大量生産プロセス全体で安定した研磨性能、優れた懸濁性、および一貫した仕上げ結果を提供します。
主な特徴と利点
安定した研磨性能
制御された粒子エンジニアリングにより、連続生産環境での再現性の高い結果が得られます。
幅広いプロセス互換性
手動研磨および全自動光学研磨システムのいずれにも適しています。
粒子サイズ分布
光学研磨における酸化セリウムの技術的利点従来の研磨材と比較して、酸化セリウムは以下を提供します：
低い傷の発生
高い研磨効率
- 改善された表面精度
- サブサーフェスダメージの低減
- 優れた光学表面品質
- ガラス材料との化学的親和性により、セリアは先進光学製造における業界標準の研磨材となっています。
製品 ハイライト
高純度酸化セリウム（CeO₂）研磨粉末、精密光学・光学ガラス仕上げ用 説明酸化セリウム（CeO₂）研磨粉末、先進光学製造用は、光学部品の超精密表面仕上げのために設計された高性能希土類研磨材です。化学的活性と制御された機械的研磨作用を組み合わせることで、酸化セリウムは効率的な材料除去を可能にし、同時に卓越した表面平滑性と光学的な透明度を実現します。 酸化セリウムの研磨メカニズムは、ガラス表面とのユニークな化学機械的相互作用を含み、サブサーフェスダメージを導入することなく、微細な表面の不規則性を選択的に除去することを可能にします。これにより、ナノメートルレベルの表面品質を必要とする高価値光学部品に...
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