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"rare earth metal"

Qualidade ISO9001 Poluição de óxido de cério de terras raras Slurry de poluição para vidro de semicondutores eletrônicos Fábrica

ISO9001 Poluição de óxido de cério de terras raras Slurry de poluição para vidro de semicondutores eletrônicos

Slurry de polimento de alta pureza para ecrãs OLED Descriçõesem O Lichen High-Purity Polishing Slurry for OLED Displays é uma lama avançada à base de óxido de cério concebida para satisfazer os exigentes requisitos da produção de ecrãs OLED.Projetados para acabamentos ultra- suaves, a nossa lama ...

Qualidade Óxido de terras raras Gadolínio Gd2O3 TREO 99% Neodímio em pó metálico Fábrica

Óxido de terras raras Gadolínio Gd2O3 TREO 99% Neodímio em pó metálico

Óxido de terras raras Óxido de gadolínio (Gd2O3) Visão geral: O óxido de liquen gadolínio (Gd2O3) é um óxido de terras raras de qualidade industrial com um teor total de óxido de terras raras (TREO) ≥ 99%, fornecido em embalagens a granel de 20 kg para utilização industrial estável e rentável...

Qualidade Polissagem de Zircônio em Pó Metálico Slurry Compostos de Terras Raras Fábrica

Polissagem de Zircônio em Pó Metálico Slurry Compostos de Terras Raras

Polissagem em pó para acabamento de superfícies ópticas Descrição Os pós de polimento à base de cério são compostos de terras raras de alto desempenho especificamente concebidos para o acabamento de alta precisão de vidro óptico e substratos eletrónicos.Estes pós continuam a ser o padrão da ind...

Qualidade Metal sólido de terras raras Cério acetato hidratado em pó para catalisador Fábrica

Metal sólido de terras raras Cério acetato hidratado em pó para catalisador

Acetato de cério Fórmula molecular: Ce ((AC) 3·xH2O Aparência: O acetato de cério é um sólido branco semelhante a um floco de neve Aplicação: Utilizado como matéria-prima para outros sais de cério e óxido de cério, bem como aditivos do petróleo, etc. Ponto Especificações Padrão de ensaio Ponto Ce ((...

Qualidade LaCl3 Cloreto de Lantano metálico Areia para catalisador de petróleo Fábrica

LaCl3 Cloreto de Lantano metálico Areia para catalisador de petróleo

A melhor fábrica de vendas diretas Cloreto de Lantânio Profissional (SANDY) Cloreto de lantano (areia) Fórmula molecular: LaCl3·6H2O Aparência: cristal arenoso Aplicação: Utilizado como catalisador de petróleo, e também para a produção de lantano metálico Ponto GrauEspecificação LaCl3-3N5A LaCl3...

Qualidade CMP Cerium Oxide Slurry para polir vidro de pré-revestimento Fábrica

CMP Cerium Oxide Slurry para polir vidro de pré-revestimento

Lâmina de óxido de cério para polir vidro com pré-revestimento Descriçõesem A lama de óxido de cério de líquen para polir vidro pré-revestimento é uma lama de alto desempenho à base de óxido de cério projetada especificamente para polir vidro pré-revestimento.Ideal para utilização nas indústrias de ...

Qualidade Dysprosium anhidro em pó Cloreto de neodímio matéria-prima Fábrica

Dysprosium anhidro em pó Cloreto de neodímio matéria-prima

Cloreto de neodímio anidro Fórmula molecular: NdCl3 Aparência: Cloreto de neodímio anidro é um cristal em pó rosa. Aplicação: Utilizado para a produção de neodímio metálico, como matéria-prima no campo da catálise farmacêutica ou do crescimento de cristal único. Ponto Especificações Padrão de ...

Qualidade CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor Fábrica

CMP Cerium Oxide Polishing Powder para Wafer de Vidro Semicondutor

Polvilhador de óxido de cério para wafers de semicondutores Descriçõesem O pó de polimento de óxido de líquen de cério para wafers de semicondutores é um abrasivo de alta pureza e engenharia de precisão projetado para processos de acabamento e planarização da superfície da wafer.Com distribuição de ...

Qualidade CMP Cerium Polish Powder Cerium Oxide For Glass Polishing Wafer de Silício Fábrica

CMP Cerium Polish Powder Cerium Oxide For Glass Polishing Wafer de Silício

Polissagem em pó para wafer de silício CMP Descrição Alcançar a extrema planaridade necessária para os nós de semicondutores com os nossos Polissadores Avançados de Óxido de Cério (CeO2).Os nossos pós são concebidos para a fabricação em grande volume de wafers de silício, fornecendo a suavidade de n...

Qualidade Odm Pós e compostos abrasivos à base de óxido de cério para polir, polir ou polir Fábrica

Odm Pós e compostos abrasivos à base de óxido de cério para polir, polir ou polir

Lâmina de polimento para superfícies eletrónicas ultrafinas Visão geral: A nossa lama de polimento para superfícies eletrónicas ultrafinas é meticulosamente concebida para proporcionar acabamentos precisos e de alta qualidade para as aplicações eletrónicas mais delicadas.Com tecnologia avançada à ...

Qualidade Slurry de óxido de cério de planarização fina para vidro semicondutor Fábrica

Slurry de óxido de cério de planarização fina para vidro semicondutor

Esparguete para planarização fina de vidro semicondutor Descriçõesem A lama de polimento à base de líquen-cério para planarização fina de vidro semicondutor é de alta pureza,Laminhas prontas para uso, concebidas para processos avançados de planarização do vidro na fabricação de semicondutoresFormula...

Qualidade Pasta de pó de polimento de cério personalizada para polimento de wafer de semicondutor Fábrica

Pasta de pó de polimento de cério personalizada para polimento de wafer de semicondutor

Pó de polimento para polimento de wafers ultrafinos Descriçõesem A lama de polimento à base de líquen-cério para planarização fina de vidro semicondutor é de alta pureza,Laminhas prontas para uso, concebidas para processos avançados de planarização do vidro na fabricação de semicondutoresFormulado ...