Qualidade CMP Óxido de cério de terras raras Poluição de escória de pó para wafer de silício Custom Fábrica
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CMP Óxido de cério de terras raras Poluição de escória de pó para wafer de silício Custom

Nome da marca: LICHEN
Número do modelo: LCR0130
Lugar de origem: China
Certificação: ISO9001
Quantidade mínima do pedido: 20kg
Preço: NEGOCIABLE
Capacidade de abastecimento: 250MT/MÊS

Detalhes do produto


Tamanho de partícula: 3,0±0,2μm Nº CAS.: 1306-38-3
CeO₂: 99% Taxa de Suspensão: Alto
Faixa de pH: 7-10 Formulação: Personalizado
Destacar

Solução de polir de terras raras sob medida

,

Molho de polimento de partículas de silicone

,

Polissagem em pó de cério de silicone

Descrição do produto

Lâmina de polimento de óxido de cério CMP para wafer de silício

Descrição

Obtenha planaridade a nível atómico e rendimentos superiores do dispositivo com as nossas Slurries CMP da série de Óxido de Cério (CeO2).Especificamente concebidos para os processos de planarização química mecânica (CMP) mais exigentes na fabricação de semicondutores.

Em 2026, à medida que as geometrias das placas se tornam cada vez mais complexas, as nossas formulações à base de ceria fornecem a alta seletividade e a ultra-baixa defectividade.

 

Excelência no desempenho 

Altas taxas de seletividade e remoção: projetadas para um desempenho preciso, as nossas lulas oferecem proporções de seletividade ajustáveis, mantendo altas taxas de remoção de materiais (MRR).

Controle de Nano-defeitos: Utilizando a tecnologia de partículas monodispersas, sub-100nm, eliminamos praticamente micro-arranhões e buracos na superfície, aumentando significativamente os rendimentos de triagem de wafer.

Estabilidade avançada da suspensão: as nossas formulações apresentam estabilizadores exclusivos que impedem a aglomeração de partículas e,assegurar um desempenho consistente da primeira à última bolacha na produção em grande volume.

Alta pureza (>99%): Refinado para cumprir padrões elevados, evitando a contaminação por traços de metais e iões.

 

Dados técnicos

Fórmula molecular Número CAS. CeO2 % D50 (μm) Aparência Aplicação
CeO2 1306-38-3 99% 3.0±0.2 Lâmina branca Wafer de silício

 

Perguntas e respostas

1O que é pó de polimento de terras raras?

O pó de polimento de terras raras é um composto de alta pureza usado para polir componentes ópticos, wafers de semicondutores e superfícies delicadas como vidro e lentes.acabamento de alta transparência sem danificar o material.

2Como escolho o pó de polimento de terras raras adequado para a minha aplicação?

Para escolher o pó de polimento ideal, considere fatores como o material que está a polir, o acabamento exigido e especificações como o tamanho e a pureza das partículas.A nossa equipa de vendas está disponível para ajudá-lo a escolher o produto perfeito para as suas necessidades.

3Como devo armazenar o pó de polir de terras raras?

Manter em local fresco e seco, longe da humidade e da luz solar direta.Normalmente dura 1-2 anos.

4Fornece formulações personalizadas de terras raras?

Sim, oferecemos pó e lodos de polir terras raras personalizados, adaptados às suas necessidades específicas, incluindo ajustes no tamanho das partículas, composição química ou consistência da lodo.

5Posso obter uma amostra antes de fazer uma encomenda em massa?

Nós fornecemos amostras para avaliação, entre em contacto com a nossa equipa para solicitar uma amostra e nós vamos organizar o envio.

6Como posso fazer uma encomenda? Qual é o prazo típico de entrega?

Para fazer um pedido, basta entrar em contato com a nossa equipe de vendas, que irá guiá-lo através do processo e fornecer uma cotação.E vamos dar-lhe um calendário estimado assim que a encomenda for confirmada..

Destaques do Produto

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