Calidad CMP Óxido de cerio de tierras raras Polvo de lodo de lodo para obleas de silicio personalizado Fábrica
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CMP Óxido de cerio de tierras raras Polvo de lodo de lodo para obleas de silicio personalizado

Nombre de la marca: LICHEN
Número de modelo: LCR0130
Lugar de origen: Porcelana
Certificación: ISO9001
Cantidad mínima de pedido: 20KGS
Precio: NEGOCIABLE
Capacidad de suministro: 250 TM/MES

Detalles del producto


Tamaño de partícula: 3,0 ± 0,2 μm NÚMERO DE CAS: 1306-38-3
CeO₂: 99% Tasa de suspensión: Alto
Rango de pH: 7-10 Formulación: Personalizado
Resaltar

Esparcimiento de tierra rara a medida

,

Sementes de limpieza de hojas de silicio de tierras raras

,

Polvillador de cerio de wafer de silicio

Descripción de producto

Sementes de pulido de óxido de cerio CMP para obleas de silicio

Descripción

Lograr la planitud a nivel atómico y rendimientos superiores del dispositivo con nuestra serie de óxido de cerio (CeO2) CMP Slurries.Diseñados específicamente para los procesos de planarización química mecánica (CMP) más exigentes en la fabricación de semiconductores.

En 2026, a medida que las geometrías de las obleas se vuelven cada vez más complejas, nuestras formulaciones basadas en ceria proporcionan la alta selectividad y la defectividad ultrabaja.

 

Excelencia en el rendimiento 

Alta selectividad y tasas de eliminación: diseñadas para un rendimiento preciso, nuestras suspensiones ofrecen proporciones de selectividad ajustables mientras mantienen altas tasas de eliminación de materiales (MRR).

Control de nano-defectos: Utilizando monodispersión, tecnología de partículas de menos de 100nm, eliminamos prácticamente los micro-rasguños y los agujeros superficiales, aumentando significativamente los rendimientos de clasificación de obleas.

Estabilidad avanzada de la suspensión: Nuestras formulaciones cuentan con estabilizadores patentados que previenen la aglomeración de partículas y,garantizar un rendimiento constante de la primera a la última oblea en la producción de gran volumen.

Alta pureza (>99%): Refinado para cumplir con estándares elevados, evitando la contaminación por metales traza y iones.

 

Datos técnicos

Fórmula molecular No CAS. CeO2 en % D50 (μm) Apariencia Aplicación
El CeO2 - ¿Por qué no? El 99% 3.0 ± 0.2 Esparcimiento blanco Wafer de silicio

 

Pregunta y respuesta

1¿Qué es polvo de pulido de tierras raras?

El polvo de pulir tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas semiconductoras y superficies delicadas como vidrio y lentes.acabado de alta claridad sin dañar el material.

2¿Cómo puedo elegir el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?

Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño y la pureza de las partículas.Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.

3¿Cómo debo almacenar polvo de pulir de tierras raras?

Conservar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa.suele durar 1-2 años.

4¿Proporciona formulaciones personalizadas de tierras raras?

Sí, ofrecemos polvos y suspensiones de tierra rara personalizadas, adaptadas a sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de las partículas, la composición química o la consistencia de la suspensión.

5¿Puedo obtener una muestra antes de hacer un pedido a granel?

Por supuesto, proporcionamos muestras para su evaluación, póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra, y organizaremos el envío.

6¿Cómo puedo hacer un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?

Para hacer un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará una cotización.Y le daremos un calendario estimado una vez que el pedido sea confirmado..

Lo más destacado del producto

Sementes de pulido de óxido de cerio CMP para obleas de silicio Descripción Lograr la planitud a nivel atómico y rendimientos superiores del dispositivo con nuestra serie de óxido de cerio (CeO2) CMP Slurries.Diseñados específicamente para los procesos de planarización química mecánica (CMP) más ...

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