CMP Oxyde de cérium Poussière de lisier de polissage des terres rares Pour la gaufre de silicium personnalisée
Détails de produit
| Taille des particules: | 3,0 ± 0,2 μm | N° CAS.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | Taux de suspension: | Haut |
| Plage de pH: | 7-10 | Formulation: | Personnalisé |
| Mettre en évidence |
Slurry de polissage de terres rares sur mesure,Lumière de polissage de gaufres de silicium,Poudre de polissage au cérium de gaufres de silicium |
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Description de produit
Cérum oxyde CMP Slurry de polissage pour la gaufre de silicium
Définition
Atteignez une planéité au niveau atomique et des rendements supérieurs avec nos boues CMP à l'oxyde de cérium (CeO2).Spécialement conçus pour les procédés de planarisation mécanique chimique (CMP) les plus exigeants dans la fabrication de semi-conducteurs.
En 2026, alors que les géométries des wafers deviennent de plus en plus complexes, nos formulations à base de ceria offrent une haute sélectivité et une défectuosité ultra-faible.
Excellence dans les performances
Haute sélectivité et taux d'élimination: Conçues pour des performances précises, nos boues offrent des ratios de sélectivité réglables tout en maintenant des taux d'élimination de matériaux élevés (MRR).
Contrôle des nano-défauts: en utilisant la technologie des particules monodisperses sous 100 nm, nous éliminons pratiquement les micro- rayures et les trous de surface, augmentant considérablement les rendements de tri des plaquettes.
Stabilité avancée de la suspension: nos formulations sont dotées de stabilisateurs exclusifs qui empêchent l'agglomération de particules et,assurer des performances constantes de la première à la dernière plaque dans la production à grande échelle.
Haute pureté (>99%): raffinée pour répondre à des normes élevées, évitant la contamination par les traces de métaux et les ions.
Données techniques
| Formule moléculaire | Numéro CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparence | Application du projet |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 3.0 ± 0.2 | Slurry blanc | Plaquettes de silicium |
Questions et réponses
1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?
La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.
2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?
Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.
3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?
Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.
4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?
Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.
5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?
Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.
6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?
Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.
Points forts du produit
Cérum oxyde CMP Slurry de polissage pour la gaufre de silicium Définition Atteignez une planéité au niveau atomique et des rendements supérieurs avec nos boues CMP à l'oxyde de cérium (CeO2).Spécialement conçus pour les procédés de planarisation mécanique chimique (CMP) les plus exigeants dans la ...
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