CMP Cerium-Oxid-Schleimpulver zur Polierung seltener Erden für Siliziumwafer
Produktdetails
| Partikelgröße: | 3,0 ± 0,2 μm | CAS-NR.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99 % | Aussetzungsrate: | Hoch |
| pH-Bereich: | 7-10 | Formulierung: | Maßgeschneidert |
| Hervorheben |
Anpassungs-Schleim für das Polieren seltener Erden,Siliziumwafer-Schleimstoff für das Polieren von Seltenen Erden,Ceriumpolierpulver für Siliziumwafer |
||
Produkt-Beschreibung
Cerium-Oxid-CMP-Polierschlamm für Siliziumwafer
Beschreibung
Erreichen Sie Planarität auf atomarer Ebene und überlegene Geräteerträge mit unseren Cerium-Oxid-Serie (CeO2) CMP-Schlamm.Speziell für die anspruchsvollsten chemisch-mechanischen Planarisierungsprozesse (CMP) in der Halbleiterherstellung entwickelt.
Im Jahr 2026, wenn die Wafergeometrie immer komplexer wird, bieten unsere Ceria-basierten Formulierungen die hohe Selektivität und die extrem geringe Defektivität.
Leistung Exzellenz
Hohe Selektivität und Entfernungsrate: Unsere Schlamme bietet ein einstellbares Selektivitätsverhältnis, während gleichzeitig eine hohe Materialentfernungsrate (MRR) beibehalten wird.
Nano-Defektkontrolle: Mit der Monodispersion, Sub-100nm-Partikel-Technologie eliminieren wir praktisch Mikro-Kratzer und Oberflächengrube und erhöhen die Wafer-Sortierungserträge erheblich.
Erweiterte Stabilität der Suspension: Unsere Formulierungen verfügen über proprietäre Stabilisatoren, die Partikelagglomerationen verhindern undGewährleistung einer gleichbleibenden Leistung von der ersten bis zur letzten Wafer in der Großserienproduktion.
Hohe Reinheit (>99%): Refiniert, um hohe Standards zu erfüllen und Verunreinigung durch Spurenmetalle und Ionen zu vermeiden.
Technische Daten
| Molekulare Formel | CAS Nr. | CeO2 % | D50 (μm) | Aussehen | Anwendung |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 Prozent | 3.0±0.2 | Weißes Schlamm | Siliziumwafer |
Fragen und Antworten
1- Was ist Seltenerdpolishingpulver?
Seltenerdpolster ist eine hochreine Verbindung, die zum Polieren optischer Komponenten, Halbleiterwafern und empfindlicher Oberflächen wie Glas und Linsen verwendet wird.mit einem hohen Durchsichtigkeitsgrad ohne Materialschädigung.
2Wie wähle ich das richtige Polarpulver für seltene Erden für meine Anwendung?
Um das ideale Polierpulver auszuwählen, sollten Sie Faktoren wie das zu polierende Material, das erforderliche Finish und Spezifikationen wie Partikelgröße und Reinheit berücksichtigen.Unser Verkaufsteam hilft Ihnen bei der Auswahl des perfekten Produkts für Ihre Bedürfnisse..
3Wie sollte ich das Polierpulver für seltene Erden aufbewahren?
Bewahren Sie das Pulver in luftdichten Behältern auf, um Kontamination zu vermeiden und seine Wirksamkeit zu erhalten.Es dauert in der Regel 1-2 Jahre.
4Liefern Sie maßgeschneiderte Seltenerdformulationen?
Ja, wir bieten spezielle Polarpulver und Schlamm für seltene Erden an, die auf Ihre spezifischen Bedürfnisse zugeschnitten sind, einschließlich der Anpassung der Partikelgröße, der chemischen Zusammensetzung oder der Konsistenz des Schlamms.
5Kann ich eine Probe bekommen, bevor ich eine Großbestellung mache?
Wir stellen Proben zur Auswertung zur Verfügung. Kontaktieren Sie unser Team, um eine Probe anzufordern, und wir arrangieren die Lieferung.
6Wie kann ich eine Bestellung aufgeben?
Um eine Bestellung zu platzieren, kontaktieren Sie einfach unser Verkaufsteam, das Sie durch den Prozess führt und Ihnen ein Angebot bietet.Und wir geben Ihnen einen geschätzten Zeitplan, sobald die Bestellung bestätigt ist..
Produkt-Highlights
Cerium-Oxid-CMP-Polierschlamm für Siliziumwafer Beschreibung Erreichen Sie Planarität auf atomarer Ebene und überlegene Geräteerträge mit unseren Cerium-Oxid-Serie (CeO2) CMP-Schlamm.Speziell für die anspruchsvollsten chemisch-mechanischen Planarisierungsprozesse (CMP) in der Halbleiterherstellung ...
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