"rare earth metal"
ISO9001 ポリシング セリウムオキシド 電子半導体ガラス用稀土ポリシングスラー
OLEDディスプレイのための高純度磨きスラム 記述について OLEDディスプレイ用の高純度リッセン磨きスラーリーは,OLEDディスプレイ生産の厳しい要求を満たすために設計された先進的なセリウム酸化物ベースのスラーリです.超滑らかな仕上げのために設計されたOLEDパネルにとって極めて重要です 高性能の光学性能,色精度,長期的信頼性を保証します 高画質のOLEDディスプレイに 必要な表面特性を 精密に調整するのに最適です スマートフォンやテレビや他の電子機器製造者は優れた光伝達と均一性を達成し,OLED技術の全体的な品質を向上させることができます. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 ...
稀土酸化ガドリニウムGd2O3 TREO 99% ネオジム金属粉末
稀土酸化物 ガドリニウム酸化物 (Gd2O3) 概要: リッセンガドリニウム酸化物 (Gd2O3) は,産業用級の稀土酸化物で,総稀土酸化物 (TREO) 含有量は ≥99%で,安定かつ費用対効果の高い産業用に使用するために20kgの大量パッケージで供給されています.磁気で知られています電子材料,光学ガラス,セラミック,触媒,磁気アプリケーションに広く使用されています. 厳格な品質管理の下で製造されたこの製品は,一貫した化学組成,信頼性の高い性能,幅広い産業用用途で優れたプロセス互換性を提供します. 主要 な 特徴 と 利点 高いTREO含有量 (≥99%) 安定した性能と信頼性の高い材料の品...
シルコニウム金属粉を磨く スラム 稀土化合物
光学表面の仕上げのための磨き粉 記述 セリウムベースの磨き粉は,光学ガラスと電子基板の高精度仕上げのために特別に設計された高性能稀土化合物です.これらの粉末は,シリカと独特の化学機械的な相互作用のために,業界の標準のままです超滑らかで擦り傷のない表面を生成する一方で,素材をより速く取り除くことができます. 主要な性能特性 高度な除去率効率的なストック除去を可能にします これは眼鏡やフラットガラスなどの大量生産環境にとって重要です 精密仕上げ:先進的なレーザー光学と高解像度のカメラレンズに必要なアングストロムレベルの表面荒さと低散乱の仕上げを達成できる. 絶好の懸垂:現代製剤は,再循環性スラムシ...
固体稀金属セリウムアセタート水化粉末 触媒用
セリウムアセタート 分子式: Ce ((AC) 3·xH2O 外見:セリウムアセテート は 白い 雪花 の よう な 固体 です 適用:他のセリウム塩やセリウム酸化物,石油添加物などのための原材料として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント オーブン3-3N5 オーブン3-4N オーブン3-4N5 オーブン3-5N TREO ((wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 PR ...
金属 LaCl3 ランタン塩化砂 石油触媒用
最良の工場 直接販売 プロのランタン塩化物 (砂) ランタン塩化物 (砂) 分子式: LaCl3·6H2O外見:砂晶 用途: 石油催化剤として使用され,金属ランタンムの生産にも使用されます ポイント グレード 仕様 LaCl3-3N5A LaCl3-4N5A LaCl3-5NA 試験基準 TREO (Wt%) ≥420 ≥420 ≥420 稀土の相対純度 (Wt%) La2O3/TREO ≥9995 ≥99995 ≥99999 GB/T 18115を参照してください.1 CeO2/TREO ≤0.01 ≤0.003 ≤0.0005 Pr6O11/TREO ≤0.01 ≤0.0005 ≤0...
紫外線保護金属 CMP セリウムオキシドスラム プレコーティング ガラスポーリング
プレコーティング用ガラス磨き用セリウムオキシドスラム 記述について プレコーティング用ガラス磨き用リッヘンセリウムオキシドスラムは,プレコーティング用ガラス磨き用に特別に設計された高性能セリウムオキシドベースのスラムである.グラス製造およびコーティング産業で使用するのに最適グラスコーティングの最適な粘着と均一性のために不可欠です. 自動車ガラス,建築ガラス,消費電子機器のガラス粘土は高度に均質な仕上げを 提供し,ガラスの表面を 塗料処理に備えています リチェン・スローリーは,表面の滑らかさと光学的な透明性を向上させながら,制御された材料除去を実現し,コーティングが適切に粘着し,持続的な性能を提...
無水性ディスプロシウム粉末 ネオジミウム塩化物 原材料
無水性ネオジウム塩化物 分子式: NdCl3外見: 無水性ネオジウム塩化物は粉色の結晶である. 適用: 製薬催化や単結晶増殖の原材料として金属ネオジミウムを生産するために使用されます. ポイント 仕様 試験基準 グレード NdCl3-3N NdCl3-3N5 NdCl3-4N / TREO (Wt%) ≥660 ≥660 ≥660 / 稀土の相対純度 (Wt%) GB/T 18115を参照してください.1 La2O3/TREO ≤0.02 ≤0.01 ≤0.001 CeO2/TREO ≤0.02 ≤0.01 ≤0.001 Pr6O11/TREO ≤0.02 ≤0.005 ≤0.001 ...
CMPセリウムオキシド 半導体ガラスウエファーのための磨き粉
半導体ウェーフのためのセリウムオキシドの磨き粉 記述について 半導体ホイール用のリッセンセリウム酸化物磨き粉は,ホイール表面仕上げおよび平面化プロセスのために設計された高純度,精密設計の磨材である.細かく制御された粒子の大きさ分布と低金属性不純物この磨き粉末は,均質な材料除去,優れた表面の滑らかさと,欠陥密度が低く,現代の半導体製造の厳格な要件をサポートします. この製品はガラスのウエファー,オキシド層,および特殊半導体基板に適しており,CMPに関連するプロセスと精密機械的な磨き段階の両方で使用できます. 主要 な 特徴 と 利点 超高純度セリウム酸化物 低金属およびイオン不純性は,ウエファー...
CMP セリウム ポリッシュ 粉 玻璃 ポリッシュ ためのセリウム オキシード シリコン ウェーファー
シリコン・ウェーファーのための磨き粉 CMP 記述 半導体ノードに求められる 極度の平坦性を 達成する為に 先進的なセリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉を 開発しました私たちの粉末は,シリコンウエファの大量生産のために設計されています原子レベルのスムーズさを提供し,サブ7nm論理と3DNANDメモリアーキテクチャに不可欠です. 私たちの製剤は 精密に制御された粒子形状を活用し 化学機械的シネージを最大化し 表面の欠陥を最小限に抑えながら 高い物質除去率 (MRR) を確保します 業績基準 平面性: 0.2 nm 未満の表面荒さ値を達成するために設計され,多層薄膜堆積のための完全に平坦な基盤を提...
ODM セリウムオキシドベースの磨き粉末と化合物 磨き塗りスラム
超細かい電子表面のための磨きスラム 概要: 超細かい電子表面のための 磨きスラリーは 精密で高品質な仕上げを 提供するために 精密に設計されています先進的なセリウムオキシッドベースの技術でこのスローリーは,電子産業における超細表面の磨きのために設計されており,滑らかさ,透明性,最小限の欠陥を保証します. 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物: 最高級のセリウム酸化物で 製成されたスローリーは 超精細な磨きに 優れた性能を提供し鏡のような仕上げで,材料の除去効率が高い. 精密製法: 光学部品,半導体装置,その他の複雑な電子機器などの敏感な電子表面を磨くためにカスタム設計. 低汚染リスク:スローリー...
半導体ガラスのための精細平面化セリウム酸化物スラム
半導体ガラスの細い平面化のためのスラム 記述について 半導体ガラスの微細平面化のためのリッセンセリウムベースの磨きスラーリーは高純度で半導体製造における先進的なグラス平面化プロセスのために設計された使用準備済みのスラム精密に制御されたセリウムオキシド粒子で作られ,このスローリーは優れた表面平ら性,低粗さ,最小限の欠陥生成を提供します.現代の半導体およびマイクロ電子機器の生産の厳しい要求を満たす. これは,キャリアグラス,インターポーザーグラス,およびディスプレイ関連半導体グラスコンポーネントを含む幅広い半導体グラス基板を磨くのに適しています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウムオキシド磨...
半導体ウエファー磨き用のカスタマイズされたセリウム磨き粉末ペスト
超細いウエーファーを磨くための磨き粉 記述について 半導体ガラスの微細平面化のためのリッセンセリウムベースの磨きスラーリーは高純度で半導体製造における先進的なグラス平面化プロセスのために設計された使用準備済みのスラム精密に制御されたセリウムオキシド粒子で作られ,このスローリーは優れた表面平ら性,低粗さ,最小限の欠陥生成を提供します.現代の半導体およびマイクロ電子機器の生産の厳しい要求を満たす. これは,キャリアグラス,インターポーザーグラス,およびディスプレイ関連半導体グラスコンポーネントを含む幅広い半導体グラス基板を磨くのに適しています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウムオキシド磨材 ...
