سي إم بي الأرض النادرة البوليسينغ سلور كيميائية ميكانيكية التسطيح سلور للوافير نصف الموصل
تفاصيل المنتج
| حجم الجسيمات: | 2.0 ± 0.2 ميكرومتر | رقم كاس.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| الرئيس التنفيذي: | 99% | معدل التعليق: | عالي |
| نطاق الرقم الهيدروجيني: | 7-10 | صياغة: | حسب الطلب |
| إبراز |
السطحات الأرضية النادرة,سائل التلميع للأرض النادرة للشرائح,سماد التسطيح الكيميائي الميكانيكي CMP,Semiconductor Rare Earth Polishing Slurry,CMP chemical mechanical planarization slurries |
||
وصف المنتج
سمك التلميع المخصص CMP للكسارة نصف الموصلة
لمحة عامة:
صُمّمت سلّرة التلميع الخاصة بنا خصيصاً لتلبية متطلبات الدقة العالية في تلميع رقائق أشباه الموصلاتهذه السمادة توفر أداءً متفوقًا في تطبيقات التسطيح الميكانيكي الكيميائي (CMP)تقدم حلول مخصصة لمجموعة متنوعة من مواد أشباه الموصلات.
الخصائص الرئيسية:
صياغة مخصصة: تكوين السماد القابل للتخصيص لمواد أشباه الموصلات المختلفة ومتطلبات الوافر المحددة. سواء كان ذلك لملمع السيليكون أو آرسنيد الغاليوم (GaAs) أو مواد أخرى ،يمكن تكييف السماد الخاص بنا مع احتياجاتك.
أكسيد السيريوم عالي النقاء: تم تصميمه لتحقيق كفاءة التلميع المثلى ، مما يضمن الحد الأدنى من تلف السطح ومعدلات إزالة متفوقة لألواح أشباه الموصلات.
معدل العيوب المنخفض: مصمم للحد من العيوب مثل الخدوش والجحور والبقايا ، مما يضمن أن سطح الوافر سلس وخالي من العيوب.
أداء CMP المحسن: يوفر مسطحة استثنائية ، مما يساعد على تحقيق أسطح رقائق مسطحة ومتساوية ضرورية للكتابة الضوئية وتصنيع الأجهزة.
مستقر ومتسق: تم صياغته للحفاظ على أداء ثابت عبر دورات التلميع الممتدة ، مما يحسن من موثوقية العملية العامة والعائد.
فوائد المنتج:
التخصيص: يسمح صياغة قابلة للتكيف للدلو بالوفاء بالمتطلبات الدقيقة لمادة الوافر الخاصة بك وعملية التلميع ، مما يعزز كفاءة التلميع وتوحيدها.
السطوحية العالية: تضمن أداء CMP الأمثل ، مما يوفر أسطحًا مسطحة للغاية مع انخفاض الخام والحد الأدنى من العيوب.
حياة أدوات أطول: مصممة للعمل بكفاءة مع وسائد التلميع ، وتطويل عمر الأداة والسطح ، مما يساعد على خفض تكاليف الإنتاج الإجمالية.
تحكم عملية موثوق به: يحافظ على أداء مستقر ، مما يسهم في تحقيق نتائج يمكن التنبؤ بها ومراقبة أكبر لعملية التلميع.
البيانات التقنية
| الصيغة الجزيئية | رقم CAS | % CeO2 | D50 (μm) | مظهره | التطبيق |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99٪ | 2.0±02 | السماد الأبيض | رقائق أشباه الموصلات |
أسئلة وأجوبة
1ما هو مسحوق التلميع للأرض النادرة؟
مسحوق التلميع للأرض النادرة هو مركب عالي النقاء يستخدم لتلميع المكونات البصرية، وشرائح أشباه الموصلات، والأسطح الحساسة مثل الزجاج والعدسات.إكمال عالية الوضوح دون تدمير المادة.
2كيف أختار مسحوق التلميع الخاص بالأراضي النادرة المناسب لتطبيقي؟
لاختيار مسحوق التلميع المثالي، ضع في اعتبارك عوامل مثل المادة التي تقوم بتلميعها، والتشطيب المطلوب، والمواصفات مثل حجم الجسيمات والنقاء.فريق المبيعات لدينا متاح لمساعدتك في اختيار المنتج المثالي لاحتياجاتك.
3كيف يجب أن أخزن مسحوق التلميع للأرض النادرة؟
تخزين في مكان بارد وجاف، بعيدا عن الرطوبة وأشعة الشمس المباشرة.عادة ما تستمر لمدة 1-2 سنوات.
4هل تقدمون صيغ الأرض النادرة المخصصة؟
نعم، نحن نقدم مسحوقات وسلال الطلاء الخاصة بالأرض النادرة، مصممة لتلبية الاحتياجات الخاصة بك، بما في ذلك تعديلات في حجم الجسيمات، والتركيب الكيميائي، أو استمرارية السسل.
5هل يمكنني الحصول على عينة قبل أن أطلب بكميات كبيرة؟
بالتأكيد نحن نقدم عينات للتقييم اتصل بفريقنا لطلب عينة وسنرتب الشحن
6كيف يمكنني وضع طلب؟ ما هو وقت التسليم النموذجي؟
لوضع طلب، ببساطة اتصل بفريق المبيعات لدينا، الذين سوف يرشدونك خلال العملية وتوفير اقتباس.وسوف نعطيك جدول زمني متوقع بمجرد تأكيد الطلب.
أبرز المنتجات
سمك التلميع المخصص CMP للكسارة نصف الموصلة لمحة عامة: صُمّمت سلّرة التلميع الخاصة بنا خصيصاً لتلبية متطلبات الدقة العالية في تلميع رقائق أشباه الموصلاتهذه السمادة توفر أداءً متفوقًا في تطبيقات التسطيح الميكانيكي الكيميائي (CMP)تقدم حلول مخصصة لمجموعة متنوعة من مواد أشباه الموصلات. الخصائص الرئيسية: ...
مسحوق التلميع Ceria من الدرجة CMP لأجهزة AR Optics ومجموعات العدسات الصغيرة والمستشعرات البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
مسحوق البوليسة ذو أكسيد السريا فائق الدقة لغلاف الزجاج الذكي القابل للارتداء والتصليح البصري الدقيق
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
مسحوق تلميع أكسيد السيريوم عالي النقاء لتصنيع زجاج الدليل الموجي AR والعدسات البصرية
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
مسحوق أكسالات السيريوم عناصر المفاعل الكيميائي
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
يرجى استخدام نموذج الاتصال عبر الإنترنت في الأسفل إذا كان لديك أي أسئلة، وسوف يعود فريقنا إليك في أقرب وقت ممكن.
