Qualité CMP Slurry de polissage des terres rares Slurry de planarisation mécanique chimique Slurries pour plaquettes de semi-conducteurs Usine
<
Qualité CMP Slurry de polissage des terres rares Slurry de planarisation mécanique chimique Slurries pour plaquettes de semi-conducteurs Usine
Qualité CMP Slurry de polissage des terres rares Slurry de planarisation mécanique chimique Slurries pour plaquettes de semi-conducteurs Usine
>

CMP Slurry de polissage des terres rares Slurry de planarisation mécanique chimique Slurries pour plaquettes de semi-conducteurs

Nom de marque: LICHEN
Numéro de modèle: LCR0220
Lieu d'origine: Chine
Certification: ISO9001
Quantité de commande minimale: 20KGS
Prix: NEGOCIABLE
Capacité à fournir: 250MT/MOIS

Détails de produit


Taille des particules: 2,0 ± 0,2 μm N° CAS.: 1306-38-3
CeO2: 99% Taux de suspension: Haut
Plage de pH: 7-10 Formulation: Personnalisé
Mettre en évidence

Lumière de polissage de gaufres de terres rares

,

Slurry de polissage des terres rares pour les semi-conducteurs

,

Slurries de planarisation mécanique chimique par CMP

Description de produit

Slurry de polissage CMP personnalisé pour gaufre à semi-conducteurs

Résumé:

Notre Slurry de polissage CMP personnalisé est spécialement conçu pour répondre aux exigences de haute précision du polissage des plaquettes de semi-conducteurs.cette suspension offre des performances supérieures dans les applications de planarisation mécanique chimique (CMP), offrant une solution sur mesure pour une variété de matériaux semi-conducteurs.

 

Principales caractéristiques:

Formulation sur mesure: composition de lisier personnalisable pour différents matériaux semi-conducteurs et exigences spécifiques en matière de plaquettes.notre lisier peut être ajusté à vos besoins.

Oxyde de cérium de haute pureté: Conçu pour une efficacité de polissage optimale, garantissant un dommage de surface minimal et des taux d'élimination supérieurs pour les plaquettes semi-conducteurs.

Faible taux de défauts: Conçu pour réduire les défauts tels que les rayures, les fosses et les résidus, garantissant que la surface de la gaufre est lisse et exempte d'imperfections.

Performance CMP améliorée: offre une planéité exceptionnelle, aidant à obtenir des surfaces plates et uniformes essentielles à la photolithographie et à la fabrication de dispositifs.

Stable et cohérent: formulé pour maintenir des performances constantes sur des cycles de polissage prolongés, améliorant la fiabilité et le rendement globaux du processus.

  

Avantages du produit:

Personnalisation: La formulation adaptable permet à la limace de répondre aux exigences exactes de votre matériau de gaufre et de votre processus de polissage, ce qui améliore l'efficacité et l'uniformité du polissage.

Planéité supérieure: assure une performance optimale du CMP, offrant des surfaces très planes avec une rugosité réduite et des défauts minimaux.

Durée de vie plus longue de l'outil: conçu pour fonctionner efficacement avec les tampons de polissage, prolongeant la durée de vie de l'outil et du tampon, ce qui contribue à réduire les coûts de production globaux.

Contrôle fiable du processus: maintient des performances stables, contribuant à des résultats prévisibles et à un meilleur contrôle du processus de polissage.

 

Données techniques

Formule moléculaire Numéro CAS. CeO2 % D50 (μm) Apparence Application du projet
CeO2 1306-38-3 99% 2.0 ± 0.2 Slurry blanc Wafer à semi-conducteurs

 

Questions et réponses

1Qu'est-ce que la poudre de polissage des terres rares?

La poudre de polissage des terres rares est un composé de haute pureté utilisé pour polir des composants optiques, des plaquettes de semi-conducteurs et des surfaces délicates comme le verre et les lentilles.une finition de haute clarté sans endommager le matériau.

2Comment choisir la bonne poudre de polissage de terres rares pour mon application?

Pour choisir la poudre de polissage idéale, prenez en considération des facteurs tels que le matériau que vous polissez, la finition requise et des spécifications telles que la taille et la pureté des particules.Notre équipe de vente est disponible pour vous aider à choisir le produit parfait pour vos besoins.

3Comment dois-je stocker la poudre de polissage des terres rares?

Conserver dans un endroit frais et sec, à l'abri de l'humidité et de la lumière directe du soleil.il dure généralement 1 à 2 ans.

4Vous fournissez des formulations de terres rares sur mesure?

Oui, nous proposons des poudres et des lisières de polissage de terres rares sur mesure, adaptées à vos besoins spécifiques, y compris des ajustements de la taille des particules, de la composition chimique ou de la consistance de la lisière.

5Puis-je avoir un échantillon avant de faire une commande en vrac?

Nous fournissons des échantillons pour évaluation, contactez notre équipe pour demander un échantillon, et nous organiserons l'expédition.

6Comment puis-je passer une commande? Quel est le délai de livraison typique?

Pour passer une commande, contactez simplement notre équipe de vente, qui vous guidera tout au long du processus et vous fournira un devis.et nous vous donnerons un calendrier estimé une fois la commande confirmée.

Points forts du produit

Slurry de polissage CMP personnalisé pour gaufre à semi-conducteurs Résumé: Notre Slurry de polissage CMP personnalisé est spécialement conçu pour répondre aux exigences de haute précision du polissage des plaquettes de semi-conducteurs.cette suspension offre des performances supérieures dans les ...

Produits connexes
Qualité Poudre de polissage Ceria de qualité CMP pour optique AR, séries de micro-lentilles et capteurs optiques portables Usine

Poudre de polissage Ceria de qualité CMP pour optique AR, séries de micro-lentilles et capteurs optiques portables

CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics

Qualité Poudre de polissage à l'oxyde de cérium ultra-fin pour les revêtements de verre et les finitions en micro-optique Usine

Poudre de polissage à l'oxyde de cérium ultra-fin pour les revêtements de verre et les finitions en micro-optique

Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in

Qualité Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour la fabrication de verre de guide d'ondes AR et de lentilles optiques Usine

Poudre de polissage à l'oxyde de cérium de haute pureté pour la fabrication de verre de guide d'ondes AR et de lentilles optiques

High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and

Qualité Poudre d'oxalate de cérium Éléments réactifs chimiques Usine

Poudre d'oxalate de cérium Éléments réactifs chimiques

Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically

Demandez une citation

Veuillez utiliser notre formulaire de contact en ligne ci-dessous si vous avez des questions, notre équipe vous contactera dès que possible.

Vous pouvez télécharger jusqu'à 5 fichiers et chaque fichier de 10M de taille max.