مسحوق عصير البوليسة الزجاجية المصممة خصيصًا 3 ميكرون للوافلات السيليكونية
تفاصيل المنتج
| حجم الجسيمات: | 1.0 ± 0.2 ميكرومتر | رقم كاس.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| الرئيس التنفيذي: | 99% | معدل التعليق: | عالي |
| نطاق الرقم الهيدروجيني: | 7-10 | طلب: | تصنيع رقائق السيليكون |
| إبراز |
معجون زجاجي مصمم خصيصاً,معجون لمصقولات الزجاج,معجون للفلفلفل 3 ميكرون,Wafer glass polishing paste,Wafer 3 micron polishing paste |
||
وصف المنتج
مسحوق التلميع المخصص لإنتاج رقائق السيليكون
الوصفعلى
Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingمصممة لتلبية المتطلبات الصارمة لصناعة أشباه الموصلات، هذا المسحوق يوفر سيطرة لا مثيل لها على معدل إزالة المواد، مسطحة السطح، وتقليل العيوب،التأكد من أن كل رقاقة تحقق المستوى المطلوب من السلاسة والدقة.
سواء كنت تعمل على المعالجة الأمامية، المعالجة الخلفية، أو إعداد أسطح الوافرات لتخزين فيلم رقيق، يمكن تخصيص مسحوقنا للاحتياجات الخاصة بك،تقدم خصائص قابلة للتخصيص لعمليات التصنيع عالية الإنتاجية.
الميزات الرئيسية والمزايا
صياغات مخصصة
يمكن تخصيص مسحوق التلميع من Lichen® بناءً على أنواع رقائق السيليكون المحددة ، والسمك ومعدل إزالة المواد المطلوب (MRR) ،التأكد من أن السماد مناسب تماما لعملية التصنيع الخاصة بك.
أكسيد السيريوم عالي النقاء
خليطنا مصنوع من أكسيد السيريوم النقي جداً، مما يضمن أن سطح الوافر ملمع دون إدخال الملوثات.هذه النقاء حاسمة للحفاظ على سلامة رقائق أشباه الموصلات.
إزالة المواد الدقيقة
مصممة لبرمجة رقائق متقدمة، تقدم سمكنا إزالة المواد بشكل خاضع للسيطرة للغاية، لتحقيق سطح موحد خال من العيوب مع مسطحة عالية وخامة سطحية منخفضة.هذا أمر ضروري لتحسين الإنتاجية والأداء في أجهزة أشباه الموصلات.
معدل نقص منخفض
تتضمن الجزيئات الخشنة المعدلة خصيصاً الحد الأدنى من تكوين العيوب.مما يسمح بإنتاج رقائق السيليكون عالية الجودة مع تحسين تكافؤ السطح وخطر أقل من التشقق الدقيق.
فعالة و قابلة للتوسع
تم تحسينه للاستخدام في أنظمة طلاء رقائق عالية النفاذ، مسحوقنا يساعد المصنعين الحفاظ على كفاءة الإنتاج، تقليل أوقات العملية،وزيادة الإنتاج في إنتاج رقائق أشباه الموصلات على نطاق واسع.
البيانات التقنية
| الصيغة الجزيئية | رقم CAS | % CeO2 | D50 (μm) | مظهره | التطبيق |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99٪ | 1.0±0.2μm | مسحوق أبيض | تصنيع رقائق السيليكون |
توزيع حجم الجسيماتالوضع
أسئلة وأجوبة
1ما هو مسحوق التلميع للأرض النادرة؟
مسحوق التلميع للأرض النادرة هو مركب عالي النقاء يستخدم لتلميع المكونات البصرية، وشرائح أشباه الموصلات، والأسطح الحساسة مثل الزجاج والعدسات.إكمال عالية الوضوح دون تدمير المادة.
2كيف أختار مسحوق التلميع الخاص بالأراضي النادرة المناسب لتطبيقي؟
لاختيار مسحوق التلميع المثالي، ضع في اعتبارك عوامل مثل المادة التي تقوم بتلميعها، والتشطيب المطلوب، والمواصفات مثل حجم الجسيمات والنقاء.فريق المبيعات لدينا متاح لمساعدتك في اختيار المنتج المثالي لاحتياجاتك.
3كيف يجب أن أخزن مسحوق التلميع للأرض النادرة؟
تخزين في مكان بارد وجاف، بعيدا عن الرطوبة وأشعة الشمس المباشرة.عادة ما تستمر لمدة 1-2 سنوات.
4هل تقدمون صيغ الأرض النادرة المخصصة؟
نعم، نحن نقدم مسحوقات وسلال الطلاء الخاصة بالأرض النادرة، مصممة لتلبية الاحتياجات الخاصة بك، بما في ذلك تعديلات في حجم الجسيمات، والتركيب الكيميائي، أو استمرارية السسل.
5هل يمكنني الحصول على عينة قبل أن أطلب بكميات كبيرة؟
بالتأكيد نحن نقدم عينات للتقييم اتصل بفريقنا لطلب عينة وسنرتب الشحن
6كيف يمكنني وضع طلب؟ ما هو وقت التسليم النموذجي؟
لوضع طلب، ببساطة اتصل بفريق المبيعات لدينا، الذين سوف يرشدونك خلال العملية وتوفير اقتباس.وسوف نعطيك جدول زمني متوقع بمجرد تأكيد الطلب.
أبرز المنتجات
مسحوق التلميع المخصص لإنتاج رقائق السيليكون الوصفعلى Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingمصممة لتلبية المتطلبات الصا...
مسحوق التلميع Ceria من الدرجة CMP لأجهزة AR Optics ومجموعات العدسات الصغيرة والمستشعرات البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
مسحوق البوليسة ذو أكسيد السريا فائق الدقة لغلاف الزجاج الذكي القابل للارتداء والتصليح البصري الدقيق
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
مسحوق تلميع أكسيد السيريوم عالي النقاء لتصنيع زجاج الدليل الموجي AR والعدسات البصرية
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
مسحوق أكسالات السيريوم عناصر المفاعل الكيميائي
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
يرجى استخدام نموذج الاتصال عبر الإنترنت في الأسفل إذا كان لديك أي أسئلة، وسوف يعود فريقنا إليك في أقرب وقت ممكن.
