Wyroby szklane do polerowania, proszek 3 mikron dla płytek krzemowych
Szczegóły produktu
| Rozmiar cząstek: | 1,0 ± 0,2 μm | Nr CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | Stopień zawieszenia: | Wysoki |
| Zakres pH: | 7-10 | Aplikacja: | Produkcja płytek krzemowych |
| Podkreślić |
Pasty do polerowania szkła na miarę,Pasta do polerowania szkła płytkowego,Pasta polerowa dla płytek o pojemności 3 mikronów |
||
Opis produktu
Wyroby z tworzyw sztucznych (z wyłączeniem tworzyw sztucznych)
Opisna
Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingZaprojektowany w celu spełnienia rygorystycznych wymagań przemysłu półprzewodnikowego, ten proszek oferuje niezrównaną kontrolę nad szybkością usuwania materiału, płaskością powierzchni i redukcją wad.zapewnienie, aby każda płytka osiągnęła pożądany poziom gładkości i precyzji.
Niezależnie od tego, czy pracujesz przy przetwarzaniu front-end, back-end lub przygotowujesz powierzchnie płytek do osadzania cienkich folii, nasz proszek może być dostosowany do Twoich konkretnych potrzeb,oferowanie dostosowalnych właściwości dla procesów wytwarzania o wysokiej przepustowości.
Kluczowe cechy i zalety
Dostosowane do potrzeb
Proszek do polerowania Lichen® może być dostosowywany w oparciu o określone typy płytek krzemowych, grubości i pożądaną szybkość usuwania materiału (MRR),w celu zapewnienia, że obróbka jest idealnie odpowiednia do procesu produkcji.
Oksydy cerium o wysokiej czystości
Nasza susza jest wykonana z ultra-czystego tlenku sera, co zapewnia, że powierzchnia płytki jest polerowana bez wprowadzania zanieczyszczeń.Ta czystość ma kluczowe znaczenie dla zachowania integralności płyt półprzewodnikowych.
Usunięcie materiałów precyzyjnych
Zaprojektowany do zaawansowanego polerowania płytek, nasz obłok zapewnia ściśle kontrolowane usuwanie materiałów, osiągając jednolitą, bezbłędną powierzchnię o wysokiej płaskości i niskiej chropowitości powierzchni.Jest to niezbędne do poprawy wydajności i wydajności urządzeń półprzewodnikowych.
Niski wskaźnik wad
Środki ścierające specjalnie przygotowane w proszku zapewniają minimalne powstawanie wad.umożliwiające produkcję wysokiej jakości płytek krzemowych o lepszej jednolitości powierzchni i mniejszym ryzyku mikropękania.
Wydajny i skalowalny
Optymalizowany do stosowania w systemach polerowania płytek o wysokiej wydajności, nasz proszek pomaga producentom utrzymać wydajność produkcji, skrócić czas procesu,i zwiększenie wydajności w produkcji płyt półprzewodnikowych na dużą skalę.
Dane techniczne
| Formuła molekularna | Numer CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Wymiar | Zastosowanie |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 10,0 ± 0,2 μm | Biały proszek | Produkcja płytek krzemowych |
Rozkład wielkości cząstekWymagania
Pytania i odpowiedzi
1Co to jest proszek do polerowania rzadkich ziem?
Proszek do polerowania ziem rzadkich to wysokiej czystości związek używany do polerowania elementów optycznych, płyt półprzewodnikowych i delikatnych powierzchni, takich jak szkło i soczewki.wykończenie o wysokiej przejrzystości bez uszkodzenia materiału.
2Jak wybrać odpowiedni proszek do polerowania rzadkich ziem do mojej aplikacji?
Aby wybrać idealny proszek do polerowania, należy wziąć pod uwagę takie czynniki, jak materiał, który chcesz polerować, wymagany wykończenie oraz specyfikacje, takie jak wielkość i czystość cząstek.Nasz zespół sprzedaży jest do Państwa dyspozycji, aby pomóc Państwu w wyborze idealnego produktu dla Państwa potrzeb..
3Jak mam przechowywać proszek do polerowania rzadkich ziem?
Przechowywać w chłodnym, suchym miejscu, z dala od wilgoci i bezpośredniego światła słonecznego.zazwyczaj trwa 1-2 lata.
4- Dostarczacie specjalne preparaty ziem rzadkich?
Tak, oferujemy niestandardowe proszki do polerowania rzadkich ziem i slurry, dostosowane do Twoich konkretnych potrzeb, w tym dostosowanie wielkości cząstek, składu chemicznego lub konsystencji slurry.
5Czy mogę dostać próbkę przed złożeniem zamówienia?
Zapewniamy próbki do oceny, skontaktuj się z naszym zespołem, aby poprosić o próbkę, a my zorganizujemy przesyłkę.
6Jak mogę złożyć zamówienie?
Aby złożyć zamówienie, po prostu skontaktuj się z naszym zespołem sprzedaży, który poprowadzi Cię przez cały proces i zapewni cenę./Damy ci szacunkowy harmonogram /gdy zamówienie zostanie potwierdzone..
Najważniejsze cechy produktu
Wyroby z tworzyw sztucznych (z wyłączeniem tworzyw sztucznych) Opisna Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingZaprojekto...
Proszek polerowy Ceria klasy CMP do optyki AR, układów mikroobiektywów i noszonych czujników optycznych
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Ultra-drobny proszek polerski z tlenku ceru do wykańczania szkła inteligentnych urządzeń noszonych i mikrooptyki
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Wysokiej czystości proszek polerski tlenku ceru do produkcji szkieł falowodów AR i soczewek optycznych
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Ceriumoksalantowy proszek Elementy reaktora chemicznego
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Uprzejmie prosimy o skorzystanie z naszego formularza kontaktowego online poniżej w przypadku jakichkolwiek pytań. Nasz zespół skontaktuje się z Państwem najszybciej jak to możliwe.
