ปูนแป้งเลืองกระจกที่ปรับแต่ง 3 ไมครอน สําหรับซิลิคอนวอฟเฟอร์
รายละเอียดสินค้า
| ขนาดอนุภาค: | 1.0±0.2ไมโครเมตร | หมายเลข CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| ซีอีโอ: | 99% | อัตราการระงับ: | สูง |
| ช่วงพีเอช: | 7-10 | แอปพลิเคชัน: | การผลิตซิลิคอนเวเฟอร์ |
| เน้น |
ผงเลืองกระจกที่ปรับแต่ง,ผงเลืองกระจกกระจก,ผงแป้งเลือง 3 ไมครอน |
||
คําอธิบายสินค้า
พาวเดอร์เคลือบที่เหมาะสมสําหรับการผลิตซิลิคอนวอฟเฟอร์
คําอธิบายใน
Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingออกแบบมาเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวดของอุตสาหกรรมครึ่งนํา สับนี้ให้การควบคุมที่ไม่มีคู่แข่งกับอัตราการกําจัดวัสดุการให้แน่ใจว่าแต่ละแผ่น จะบรรลุระดับความเรียบร้อยและความแม่นยําที่ต้องการ.
ไม่ว่าคุณจะทํางานด้านด้านหน้า การประมวลผลด้านหลัง หรือการเตรียมผิวแผ่นสําหรับการฝังแผ่นบางให้คุณสมบัติที่สามารถปรับแต่งได้ สําหรับกระบวนการผลิตที่มีความสามารถสูง.
คุณลักษณะและข้อดีสําคัญ
สูตรที่เหมาะสม
พูนเล่ห์ Lichen® สามารถปรับแต่งได้ตามประเภท, ความหนา และอัตราการกําจัดวัสดุที่ต้องการ (MRR)การรับรองว่าสารสกัดผงเหมาะสมกับกระบวนการผลิตของคุณ.
ซีเรียมอ๊อกไซด์ความบริสุทธิ์สูง
น้ํายาปลาของเราทําจากเซเรียมออกไซด์ที่บริสุทธิ์มาก ทําให้พื้นผิวของวอฟเฟอร์เคลือบได้โดยไม่นําสารพิษเข้ามาความบริสุทธิ์นี้มีความสําคัญในการรักษาความสมบูรณ์ของแผ่นแผ่นครึ่งนํา.
การกําจัดวัสดุแม่นยํา
ที่ออกแบบมาเพื่อการเคลือบแผ่นขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดขีดนี้เป็นสิ่งจําเป็นในการปรับปรุงผลผลิตและการทํางานในอุปกรณ์ครึ่งนํา.
อัตราความบกพร่องต่ํา
ขนาดของผงที่ใช้เป็นเศษขัดได้อย่างพิเศษทําให้สามารถผลิตแผ่นซิลิคอนที่มีคุณภาพสูง มีความเรียบร้อยของพื้นผิวที่ดีขึ้น และมีความเสี่ยงในการแตกเล็กน้อยลง.
มีประสิทธิภาพและปรับขนาดได้
ปรับปรุงเพื่อใช้ในระบบเล่ห์แผ่นผงที่มีผลผลิตสูง พูนของเราช่วยให้ผู้ผลิตรักษาประสิทธิภาพการผลิต ลดเวลาในการดําเนินงานและเพิ่มผลผลิตในการผลิตแผ่นครึ่งนําขนาดใหญ่.
ข้อมูลเทคนิค
| สูตรโมเลกุล | หมายเลข CAS | CeO2 % | D50 (μm) | ลักษณะ | การใช้งาน |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 1.0±0.2μm | ขาวผง | การผลิตซิลิคอนวอฟเฟอร์ |
การกระจายขนาดอนุภาคการสื่อสาร
คําถามและคําตอบ
1พูนเลืองดินหายากคืออะไร?
พูนเล่ห์ดินหายาก เป็นสารประกอบความบริสุทธิ์สูง ใช้ในการเล่ห์ส่วนประกอบทางออตติก โวฟเฟอร์ครึ่งตัว และพื้นผิวที่อ่อนแอ เช่น แก้วและเลนส์ปลายความใสสูง โดยไม่ทําลายวัสดุ.
2ผมเลือกปูนเลียร์ดินหายากที่เหมาะสมกับการใช้งานของผมอย่างไร?
เพื่อเลือกผงเคลือบที่เหมาะสม ลองพิจารณาปัจจัยต่างๆ เช่น วัสดุที่คุณเคลือบ ปลายที่ต้องการ และรายละเอียดต่างๆ เช่น ขนาดอนุภาคและความบริสุทธิ์ทีมงานขายของเราพร้อมที่จะช่วยคุณเลือกสินค้าที่สมบูรณ์แบบสําหรับความต้องการของคุณ.
3ผมควรเก็บผงเลืองดินหายากไว้อย่างไร?
เก็บในที่เย็นแห้ง ห่างจากความชื้นและแสงแดดตรง เก็บผงไว้ในถังกันอากาศ เพื่อป้องกันการติดเชื้อและรักษาประสิทธิภาพปกติจะใช้เวลา 1-2 ปี.
4คุณให้อาหารที่ไม่ธรรมดาของดินหายาก?
ใช่ เรานําเสนอผงเลืองดินหายากและสลอร์รี่ที่กําหนดเอง ที่ปรับแต่งให้เหมาะสมกับความต้องการเฉพาะของคุณ รวมถึงการปรับขนาดอนุภาค สารประกอบทางเคมี หรือสม่ําเสมอของสลอร์รี่
5ฉันขอตัวอย่างก่อนสั่งได้มั้ย?
แน่นอน เราจัดส่งตัวอย่างเพื่อการประเมิน ติดต่อทีมงานของเรา เพื่อขอตัวอย่าง
6ผมสั่งได้อย่างไร? เวลาในการจัดส่งทั่วไปคืออะไร?
ในการสั่งซื้อ เพียงแค่ติดต่อทีมงานขายของเรา ซึ่งจะนําคุณผ่านกระบวนการและให้ข้อเสนอราคาและเราจะให้ตารางเวลาประมาณ เมื่อคําสั่งได้รับการยืนยัน.
จุดเด่นของผลิตภัณฑ์
พาวเดอร์เคลือบที่เหมาะสมสําหรับการผลิตซิลิคอนวอฟเฟอร์ คําอธิบายใน Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingออกแบบมาเพื่อต...
ผงขัดเซเรียเกรด CMP สำหรับเลนส์ AR, อาร์เรย์ไมโครเลนส์ และเซ็นเซอร์แสงแบบสวมใส่
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
ผงขัดเซเรียออกไซด์ละเอียดพิเศษสำหรับกระจกฝาครอบอุปกรณ์สวมใส่สมาร์ทและงานตกแต่งไมโครออปติก
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
ขนาดความบริสุทธิ์สูง Cerium Oxide Polishing Powder สําหรับการผลิตกระจกนําคลื่น AR และเลนส์แสง
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
ผงเซเรียมออกซาเลต สารเคมีธาตุ
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
กรุณาใช้แบบสอบถามทางออนไลน์ด้านล่าง หากคุณมีคําถาม ทีมงานของเราจะติดต่อกลับกับคุณในเร็วที่สุด
