"rare earth compound polishing powder"
ホワイト CeO2 セリウムベースのグラスポーリングパウダー 0.5μm OEM
プレートガラスの磨き粉 記述について プレートガラス用リッセン磨き粉は,平面ガラスやプレートガラスの表面仕上げと欠陥修正のために開発された高品質の磨き材料です.細かく制御された粒子の大きさ分布と安定した磨き特性を持つ製剤この磨き粉末は高効率な材料除去,滑らかな表面仕上げ,大きなガラス面の一貫した磨き性能を提供します. 建築用ガラス,家具用ガラス,鏡用ガラス,および工業用フラットガラス加工で広く使用されており,表面の均一性と視覚的透明性が不可欠です. 主要 な 特徴 と 利点 適正 な 磨き 性能 材料の除去速度と表面の滑らかさを平衡する 均一な粒子の大きさ分布 滑らかな操作を保証し 擦り傷を最...
CMP セリウム ポリッシュ 粉 玻璃 ポリッシュ ためのセリウム オキシード シリコン ウェーファー
シリコン・ウェーファーのための磨き粉 CMP 記述 半導体ノードに求められる 極度の平坦性を 達成する為に 先進的なセリウム酸化物 (CeO2) 磨き粉を 開発しました私たちの粉末は,シリコンウエファの大量生産のために設計されています原子レベルのスムーズさを提供し,サブ7nm論理と3DNANDメモリアーキテクチャに不可欠です. 私たちの製剤は 精密に制御された粒子形状を活用し 化学機械的シネージを最大化し 表面の欠陥を最小限に抑えながら 高い物質除去率 (MRR) を確保します 業績基準 平面性: 0.2 nm 未満の表面荒さ値を達成するために設計され,多層薄膜堆積のための完全に平坦な基盤を提...
電子部品用ホワイトCeo2セリウムオキシド 磨き粉パスタ
電子部品のためのセリウム酸化の磨き粉 概要: 繊細な電子部品を磨くために 特別に設計されています 劣悪な化学性能でこの高純度セリウムベースの磨き粉は,様々な電子材料の精密磨きにおいて優れた性能を提供します.オプティカルレンズ,半導体,その他の細工部品を含む. 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物は,表面の欠陥を軽減し,最適な材料除去率で滑らかな仕上げを達成し,優れた磨き結果を提供します. 精密磨き: 繊細な電子部品に一貫した性能を提供し,材料の整合性を損なうことなく細かい表面仕上げを提供します. 低汚染: 離子汚染を最小限に抑え,敏感な電子部品と互換性を確保し,高い清潔度...
セリアムオキシドセリア フォトマスク用風車ガラス磨き粉 空白宝石2.0μm
低欠陥セリウムオキシド フォトマスクの空白磨き用 記述 低欠陥セリウムオキシドは 半導体製造における フォトマスクのプリキュア・ポーリング用に 特別に作られています欠陥を最小限に抑え 完璧な仕上げを保証するこの高性能セリウム酸化物は 表面の質が重要な photomaskアプリケーションに理想的です. 卓越した磨き効率と表面の整合性を提供します.私たちのセリウムオキシドは,光学的な明晰度と次元精度の最高水準を保証します 写真マスクの空白処理. 主要な特徴: 低欠陥製剤: 粒子汚染と欠陥を減らすために設計されたこのセリウム酸化物は,非常に一貫して均質な表面仕上げを保証します.半導体光立光学に使用さ...
半導体用セリウムオキシド光学ガラス磨き粉
高指数赤外線 (IR) 光学を磨くためのセリウム酸化物 記述 高インデックス赤外線 (IR) 光学を磨くためのセリウム酸化物は,赤外線光学部品の要求の高い表面品質要件を満たすために特別に開発されています.高インデックスIR材料に最適化このセリウムベースの磨き製品は,制御された材料除去,超低表面荒さ,およびIRシステムにおける光学性能を維持するために不可欠な表面下部の損傷を最小限にします. 主要 な 特徴 高インデックスIR材料に最適化: 優れたプロセス安定性を持つ密度の高い高屈折率IR基質を磨くために設計されています. 高純度セリウム酸化物: 低汚染レベルと敏感なIR光学のための一貫した磨き性...
高純度セリウムオキシド 磨き粉 泥泥 サファイア時計
高純度サファイア時計表を磨くためのセリウム酸化物 記述 高純度サファイア時計表を磨くセリウム酸化物は 高純度サファイア時計表,レンズ,オプティカルコンポーネントこの高性能セリウムオキシードは,サファイア表面の整合性を維持しながら,欠陥のない,傷痕のない仕上げを保証する,例外的な磨き効率を提供します.光学 透明度 の 完璧な バランス を 達成 する ため に 理想 的 です時計製造と高級品産業にとって好ましい選択となっています. 主要 な 特徴 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物から製造されたこの磨き粉は,サファイア表面に最小限の欠陥や汚染を伴う最適な材料除去を保証します. 超細粒子...
0スマートフォン・タブレット用.
蓋のガラスの仕上げのためのセリウム酸化の磨き粉 記述について カーブグラス仕上げ用リッヘンセリウムオキシドの磨き粉は 高純度で消費電子機器や自動車用ディスプレイで使用されるカバーガラスの最終仕上げのために特別に設計された細粒子の磨き材料優れた表面の滑らかさ,高光り,優れた欠陥制御を保ち,安定して効率的な磨き性能を維持します. この製品は,スマートフォンカバーガラス,タブレットガラス,スマートウォッチガラス,カメラ保護ガラス,自動車ディスプレイカバーパネルの磨きに使用されています.優れた光学透明性と表面の一貫性を確保する. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 慎重 に 制御 さ れ ...
クォーツガラス セリウム酸化 磨き粉 CAS 1306-38-3 カスタマイズ
クォーツガラス基板の磨き用セリウム酸化物 記述について クォーツガラス基板を磨くためのリッヘンセリウム酸化物は,クォーツガラス仕上げの厳しい要求のために特別に開発された高純度セリウムベースの磨き粉である.粒子のサイズ分布が最適化され,化学・機械的な磨き性能が優れている溶融クォーツと合成クォーツ基板の表面の滑らかさと低欠陥密度,一貫した材料除去を可能にします. この製品は,半導体,光子,先進光学製造を含む高光学透明性,次元精度,表面整合性を要求するアプリケーションに広く使用されています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物組成 低不純度で安定した磨き性能を保証し,石英基板の表面汚染を...
半導体ウエファー磨き用のカスタマイズされたセリウム磨き粉末ペスト
超細いウエーファーを磨くための磨き粉 記述について 半導体ガラスの微細平面化のためのリッセンセリウムベースの磨きスラーリーは高純度で半導体製造における先進的なグラス平面化プロセスのために設計された使用準備済みのスラム精密に制御されたセリウムオキシド粒子で作られ,このスローリーは優れた表面平ら性,低粗さ,最小限の欠陥生成を提供します.現代の半導体およびマイクロ電子機器の生産の厳しい要求を満たす. これは,キャリアグラス,インターポーザーグラス,およびディスプレイ関連半導体グラスコンポーネントを含む幅広い半導体グラス基板を磨くのに適しています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウムオキシド磨材 ...
反射防止太陽ガラス セリウムオキシド 磨き粉 材料 CAS 1306-38-3
反射防止太陽ガラスの仕上げ用セリウム酸化物 記述について 反射防止太陽光ガラスの仕上げ用リッセンセリウム酸化物 (Lichen Cerium Oxide for Finishing Anti-Reflective Solar Glass) は,スムーズで透明な,反射防止コーティング付きの太陽光ガラスに要求される欠陥のない仕上げ太陽光パネルのガラスを磨くために設計された この高純度磨き粉は 光伏システムの光学性能を向上させます光の最適伝達と反射損失を最小限に抑える. 私たちのセリウム酸化物溶液は 太陽光モジュールのガラスの表面や 光伏カバーガラスの表面や 反射防止コーティングガラスの表面を磨くの...
自動車用ガラス セリウムオキシド 磨き粉 サファイアスラム OEM
自動車用ガラスの仕上げ用スローリング 記述について 自動車用ガラスの仕上げ用リッセン磨きスローリーは,特に滑らかな,自動車用ガラスの表面に透明な仕上げレンガ,サイド窓,鏡,ヘッドライトを磨いていると,私たちのスラリーは優れた光学的な透明性を提供し, 傷痕,水の汚れ,霧などの欠陥を削除します.ガラスの表面を傷つけずに. 高精度な自動車ガラスの磨きのために開発された Lichen 溶液は,ガラスの外観と可視性を向上させる 傷痕のない仕上げを保証しますエステティックな魅力と運転者の安全性を向上させる. OEM製造とアフターマーケットの修理の両方のアプリケーションに理想的な,私たちの磨きスローリーは,...
1.0μM 光子産業用稀土磨き粉 PH 中性
フォトニクス産業のための磨き粉 記述 光学産業用の 磨き粉は 光学や光子部品の 製造の要求に応えるように 特別に設計されていますこの高性能粉末はレンズに最適です鏡,プリズム,光ファイバー,波導体など,最先端の光学アプリケーションで使用されます. 主要な特徴: 特殊な純度最高品質の素材で製造された 磨き粉は 最低限の汚染と 最重要な用途でも一貫した結果を提供します 精密アブラシブ光学部品の表面を細かく仕上げながら 光学装置にとって不可欠な 厳格な容量と寸法整合性を維持します 効率的な物質除去:質を損なうことなく 流量を増やす 迅速で均質な磨き作用を提供します 広く互換性グラス,シリカ,サファイア...
