"rare earth compound polishing powder"
工業用稀土化合物 セリウムオキシド Ceo2 ガラスの磨き粉
工場価格 工業用セリウム酸化粉 CAS NO 1306-38-3 CEO2 高純度99.99% ガラスの磨き粉 セリウム酸化物 分子式:CeO2 外見: 淡い黄色の粉末 用途: 磨き材料または触媒として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 ポイント 代表取締役2-3N5C 代表取締役2-4NC 代表取締役2-4N5C 代表取締役2-5NC TREO ((wt%) ≥990 ≥990 ≥990 ≥990 稀土の相対純度 (Wt%) ラ2オー3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 代表取締役2/TREO ≥9995 ≥9999 ...
薬剤のためのカスタムイトリウム稀土化合物粉末溶液
薬剤のためのカスタムイトリウム稀土化合物粉末溶液 概要: 製薬研究と製造の厳格な品質,純度,一貫性要件を満たすために 設計されています先進的な合成と浄化技術の活用特定の製剤,加工,規制のニーズに合わせて パーソナライズされた粉末ソリューションを提供しています 化学成分や粒子の大きさの分布 形態や純度レベルを カスタマイズするために 薬剤会社と緊密に協力し診断用薬剤の製造も 主要 な 特徴 と 利点 高度な純度とバッチ一致性 厳格な品質管理の下で生産され 複製可能性と 医薬品基準の遵守を保証します カスタマイズされた仕様 純度 (超高級まで),粒子の大きさ,表面特性,およびアプリケーション要件に...
50nm レアアース化合物 セリア セリアオキシド Ceo2 ナノパウダー
50 nm 希少土の化合物 セリア (セリアオキシド) CeO2 ナノパウダー 概要: リッセン 50 nm 希少地球化合物 セリア (セリア酸化物) CeO2 ナノパウダーは,精密な粒子のサイズ制御,大きな表面面積,安定した化学性能このナノパウダーは 平均粒子の大きさは約50ナノメートルで 反応性や分散性を高め標準的なミクロンスケールセリウムオキシド粉末と比較して. 高度な磨き,触媒,エネルギー材料,コーティング,およびR&Dで広く使用されており,ナノレベルの材料特性が不可欠です. 主要 な 特徴 と 利点 ナノスケール粒子サイズ (~50nm) 高固有表面積と機能効率を向上させる. 高純度...
白色稀土酸化セリウム粉 石油添加物 磨き化合物
中国 供給 高品質の白色セリウム酸化物 粉末 石油添加物 セリウム酸化物 (白色) 分子式: CeO2 外見: 白い粉末 用途: 磨き材料または他の触媒として使用 ポイント グレード 仕様 CeO2-3N5A CeO2-4NA CeO2-4N5A CeO2-5NA 試験基準 TREO (Wt%) ≥990 ≥990 ≥990 ≥990 稀土の相対純度 (Wt%) La2O3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 GB/T 18115.2 CeO2/TREO ≥9995 ≥9999 ≥99995 ≥99999 Pr6O11/TREO ≤0.01 ≤0.002 ≤0...
希少地球化合物 イトリウム酸化物粉末
工場 の 供給 高品質 の イートリウム 酸化 粉 製品説明 製品名 イトリウム酸化物 MF O3Y2 エインエックス 215-233-5 について 外見 白い粉末 MOQ 1kg 詳細は参照してください サンプルとカスタマイズ 支援 配達時間 7〜15日 輸送方法 海上貨物,陸上輸送,航空輸送,急送 パッケージ 標準パッケージ 決済方法 すべて 産地 内モンゴル 中国 ブランド 顧客によってほら 需要 生産能力 4年間000トン 品質 最高 の 品質 ...
シルコニウム金属粉を磨く スラム 稀土化合物
光学表面の仕上げのための磨き粉 記述 セリウムベースの磨き粉は,光学ガラスと電子基板の高精度仕上げのために特別に設計された高性能稀土化合物です.これらの粉末は,シリカと独特の化学機械的な相互作用のために,業界の標準のままです超滑らかで擦り傷のない表面を生成する一方で,素材をより速く取り除くことができます. 主要な性能特性 高度な除去率効率的なストック除去を可能にします これは眼鏡やフラットガラスなどの大量生産環境にとって重要です 精密仕上げ:先進的なレーザー光学と高解像度のカメラレンズに必要なアングストロムレベルの表面荒さと低散乱の仕上げを達成できる. 絶好の懸垂:現代製剤は,再循環性スラムシ...
ガラス稀土化合物 砂泥 セリウム酸化物 宝石の磨き用
ディスプレイガラス生産における欠陥除去のためのスラム 記述について ディスプレイガラス製造における欠陥除去のためのリッヘンセリウムオキシッドスラーリーは高純度で,水性ポリシングスライス,特にディスプレイガラス製造における欠陥の効率的な除去のために設計された最適化されたセリウム酸化物粒子で作られ,このスローリーは優れた磨き性能を提供し,滑らかで均一な表面を保証し,傷,穴,霧などの欠陥を最小限に抑えます. フラットパネルディスプレイ,タッチスクリーン,光学ガラスの製造に最適このスローリーは,すべてのガラスの基板がディスプレイ技術の適用に必要な厳格な品質基準を満たしていることを保証します.スマートフ...
CMP スーパーセリウムオキシド ポリシング 粉末 サファイア基板のための稀土化合物
サファイア基板のための磨き粉 記述 セリウム酸化物は,主にガラスや柔らかい結晶を磨くための"ゴールドスタンダード"として知られています.砂利の極端な硬さ (モーススケールで9) により,砂利の主要な磨材として単独で使用されることはめったにありません.精密サファイア光学における特定の最終加工段階に使用される. セリウム オキシド が ザファイア 磨き に 与える 役割 最終仕上げ/超磨き:高純度セリウムオキシドナノ粒子は,表面の粗さが非常に低いことを達成するために使用されます. 化学機械磨き (CMP):セリウムオキシドは,サファイアのためのCMPスラーリに使用されるいくつかの重要な磨材の1つで...
砂 CeCl3 セリウム 塩化 希少土産 無色粉末
最良の工場直販 プロの砂セリウム塩化物 サンディセリウム塩化物 分子式: CeCl3·6H2O外見: サンディセリウム塩化物は無色粉末である. 適用:セリウムを含む催化剤の生産のための原材料として,またガスランプのマントルの添加物として使用されます. ポイント 仕様 試験基準 グレード CeCl3-3N5A CeCl3-4NA CeCl3-4N5A CeCl3-5NA / TREO (Wt%) ≥45 ≥45 ≥45 ≥45 / 稀土の相対純度 (Wt%) GB/T 18115.2 La2O3/TREO ≤0.01 ≤0.005 ≤0.003 ≤0.0004 CeO2/TREO ≥9995 ...
MRR CeO2 統合回路製造のための風車窓稀土磨き粉
集積回路の製造のための磨き粉 記述 半導体性能の次世代を可能にします. 特別に設計されたIC製造内の化学機械平面化 (CMP),粉末はノードに最適化されています 多層の相互接続と垂直スケーリングの複雑さは 史上前例のない表面平らさを要求しています高活性セリア粉末は,原子レベルの滑らかさと,高選択性を提供します. ウェファーの出力を最大化し,デバイスの信頼性を高めるために必要です.. 業績基準 平面性: 99%):最も厳格な基準を満たすために精製されています. 技術データ 分子式 CAS番号 CeO2 % D50 (μm) 外見 適用する CeO2 1306-38-3 99% 2.0±02 白い...
工業用ラッピング 希少土の磨きスラム 結晶ガラス磨き用
水晶ガラスの磨き用工業用磨材 記述について 水晶ガラス磨き用リッセン工業磨材は,水晶ガラス表面の高精度磨きのために設計されたセリウム酸化物ベースの磨材で,特に製成されている.細晶ガラス器具を磨くかどうか装飾用ガラスや光学結晶など 磨材は完璧で 透明性の高い仕上げを保ち 光学品質と美学的な魅力に 高い基準を満たします リッヒンの磨料は 効率的な材料除去を目的として 設計されており 晶の整合性を損なうことなく 滑らかで欠陥のない表面を 実現します私たちの磨材は制御された磨き作用を提供します完璧な光り,滑らかな仕上げ,そして最も要求の高い結晶グラスアプリケーションのための高品質な結果を可能にします. ...
TREO オプティカルレンズ セリウムオキシド ポーリングパウダー 純度99%
セリウムオキシド 磨き粉 99% 純度 記述 純度99%のセリウムオキシド磨き粉で 完璧でプロフェッショナルな仕上げをこの高品質の磨料は,例外的な透明性と高輝度を実現するための理想的な解決策ですグラス,光学,そして様々な精密材料の表面に線紋がない. 私たちのセリウム酸化物は 99%の純度で 精密に処理されています この高純度で 化学的・機械的な作用が最適です磨き時間が早くなるために重要です光学製造,自動車修理,半導体生産などの業界における重要なアプリケーションで信頼性があり一貫した結果です 主要 な 特徴 と 利点 99% 保証された純度:要求の高いアプリケーションで最大限の効果と一貫したパフ...
