高純度セリウムオキシドの磨き粉,高精度光学部品用
製品詳細
| 純度: | ≥ 99.9% | D50: | 0.8～1.2μm |
|---|---|---|---|
| 粒度分布: | 狭いところ | pH (15% 懸濁液): | 6.5 – 8.5 |
| 外観: | 淡黄色の粉末 | 分散安定性: | 高い |
| ハイライト |
セリウムの酸化物の磨く粉,高純度光学磨き化合物,稀土精密磨き粉 |
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製品の説明
精密光学部品用高純度酸化セリウム研磨剤
製品概要
高純度の酸化セリウム研磨粉は、高度な光学部品の超精密表面仕上げ用に設計されています。高い表面品質要件に合わせて設計されたこの研磨剤は、優れた化学機械相互作用を実現し、要求の厳しい光学製造環境において優れた欠陥制御、高い研磨効率、安定した性能を可能にします。
この製品は、現代の光学製造で使用されるバッチおよび自動研磨システムに適しています。
主な特長
- 効率的な物質除去のための高い化学活性
- キズのない優れた研磨性能
- 狭い粒度分布による表面均一性
- 低欠陥発生と安定した研磨挙動
- ピッチ、ポリウレタン、複合研磨パッドと互換性があります
- 精密光学製造プロセス向けに最適化
粒度分布ション
アプリケーション
- 精密光学レンズ研磨
- カメラと画像光学系
- 光学ガラス仕上げ
- 望遠鏡光学部品の製造
- プリズムと鏡面研磨
- ハイエンドのフォトニクスコンポーネント
よくある質問
Q1: どのような表面品質を実現できますか?
プロセス条件に応じて、Ra 1 nm 以下の表面粗さを実現できます。
Q2: 粉末をスラリー化することはできますか?
はい。この粉末は脱イオン水に容易に分散し、カスタマイズされた研磨スラリーを調製します。
Q3: 自動研磨機に適していますか?
はい、手動研磨システムと CNC 光学研磨システムの両方に最適化されています。
製品 ハイライト
精密光学部品用高純度酸化セリウム研磨剤 製品概要 高純度の酸化セリウム研磨粉は、高度な光学部品の超精密表面仕上げ用に設計されています。高い表面品質要件に合わせて設計されたこの研磨剤は、優れた化学機械相互作用を実現し、要求の厳しい光学製造環境において優れた欠陥制御、高い研磨効率、安定した性能を可能にします。 この製品は、現代の光学製造で使用されるバッチおよび自動研磨システムに適しています。 主な特長 効率的な物質除去のための高い化学活性 キズのない優れた研磨性能 狭い粒度分布による表面均一性 低欠陥発生と安定した研磨挙動 ピッチ、ポリウレタン、複合研磨パッドと互換性があります 精密光学製造プロセ...
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