سطح بندی Cerium Oxide Slurry آبرایزیو پولیشینگ پاست برای شیشه نیمه هادی
جزئیات محصول
| اندازه ذرات: | 0.8-2.2μm | Cas no.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| مدیرعامل: | 99% | نرخ تعلیق: | بالا |
| محدوده Ph: | 7-10 | کاربرد: | زیرلایه های شیشه ای نیمه هادی |
| برجسته کردن |
آکسید سیریوم خمیر خمیر,مسطح سازی آکسید سیریوم,خمیر شیب دار سیریوم,Planarization Cerium Oxide Slurry,Cerium abrasive polishing paste |
||
توضیحات محصول
آبدهی اکسید سیریوم برای زیربناهای شیشه ای نیمه هادی
توضیحاتدر
لیزین سیریوم اکسید برای زیربناهای شیشه نیمه هادی یک لیز پولیش آب پایه با پاکیزه بالا است که به طور خاص برای کاربردهای شیشه نیمه هادی ساخته شده است.این خمیر باعث می شود که میزان حذف مواد بسیار عالی باشد.، پایان سطح سازگار، و planarization دقیق، باعث می شود آن را ایده آل برای پولیش نیمه رسانا زیربناهای شیشه ای مورد استفاده در بسته بندی سطح وافر، fotomasks،و ساخت مدارهای یکپارچه پیشرفته.
طراحی شده برای استفاده در فرآیندهای مسطح سازی شیمیایی مکانیکی (CMP) ،خمیر سیریوم اکسید Lichen عملکردی پایدار در محیط های تولید حجم بالا را ارائه می دهد در حالی که کیفیت سطح و یکسانی مورد نیاز صنعت نیمه هادی را حفظ می کند.
ویژگی های کلیدی و مزایا
اکسید سیریم با خلوص فوق العاده بالا
محتوای فلزی کاهش یافته از آلودگی فرآیندهای نیمه هادی حساس جلوگیری می کند و پایان سطح برتر را تضمین می کند.
اندازه و توزیع ذرات بهینه شده
خاشاک های خوب و یکنواخت از حذف مواد بدون نقص اطمینان می دهند، نقص ها را به حداقل می رسانند و در طول فرآیندهای CMP محصول را بهبود می بخشند.
مسطح سازی سطح عالی
سطح بسیار صاف با خشکی کم را به دست می آورد، که آن را برای بسته بندی نیمه هادی پیشرفته و برنامه های کاربردی fotomask مناسب می کند.
تولید نقص کم
باعث کاهش خراش های کوچک، حفره های سطحی و سایر نقص هایی می شود که می تواند بر یکپارچگی دستگاه های نیمه هادی تأثیر بگذارد.
عملکرد پایدار و ثابت
سازگاری دسته به دسته نتایج قابل پیش بینی را در تولید نیمه هادی با سرعت بالا تضمین می کند.
داده های فنی
| فرمول مولکولی | شماره CAS | % CeO2 | D50 (μm) | ظاهر | درخواست |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 | 0.8-2.2μm | خمیر سفید | زیرپوشهای شیشه ای نیمه هادی |
توزیع اندازه ذرات..
پرسش و پاسخ
1. پودر پاک کننده زمین های نادر چیست؟
پودر پاک کننده زمین های نادر یک ترکیب خالص است که برای پاک کردن اجزای نوری، وافرهای نیمه هادی و سطوح ظریف مانند شیشه و لنز استفاده می شود.یک پایان شفاف بدون آسیب رساندن به ماده.
2چگونه می توانم پودر پاک کننده زمین های نادر مناسب را برای کاربرد خود انتخاب کنم؟
برای انتخاب پودر پولیش ایده آل، عوامل مانند ماده ای که پولیش می کنید، پایان مورد نیاز و مشخصات مانند اندازه ذرات و خلوص را در نظر بگیرید.تیم فروش ما در دسترس است تا به شما در انتخاب محصول مناسب برای نیازهای شما کمک کند.
3چطور بايد پودر پاک کننده زمين نادر رو نگه دارم؟
پودر را در یک مکان خنک و خشک، دور از رطوبت و نور مستقیم خورشید نگه دارید.معمولاً 1-2 سال طول می کشد..
4آیا شما فرموله های زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهید؟
بله، ما پودر ها و خمیرهای پولیشینگ زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهیم، که متناسب با نیازهای خاص شما، از جمله تنظیم اندازه ذرات، ترکیب شیمیایی یا ثبات خمیر است.
5ميشه قبل از سفارش دادن يه نمونه بگيرم؟
مطمئناً ما نمونه ها رو براي ارزیابی فراهم ميکنيم تماس با تيم ما براي درخواست نمونه و ما حمل و نقل رو ترتيب ميديم
6چطور می توانم سفارش بدهم؟ زمان تحویل معمول چقدر است؟
برای سفارش دادن، به سادگی با تیم فروش ما تماس بگیرید، که شما را در طول فرآیند راهنمایی می کند و یک پیشنهاد ارائه می دهد. زمان تحویل بر اساس اندازه سفارش، مکان و در دسترس بودن سهام متفاوت است،و بعد از تایید سفارش به شما یک برنامه ی پیش بینی می دهیم.
نکات برجسته محصول
آبدهی اکسید سیریوم برای زیربناهای شیشه ای نیمه هادی توضیحاتدر لیزین سیریوم اکسید برای زیربناهای شیشه نیمه هادی یک لیز پولیش آب پایه با پاکیزه بالا است که به طور خاص برای کاربردهای شیشه نیمه هادی ساخته شده است.این خمیر باعث می شود که میزان حذف مواد بسیار عالی باشد.، پایان سطح سازگار، و planarization ...
مسحوق تلميع السيريوم بدرجة CMP للبصريات ذات الواقع المعزز، ومصفوفات العدسات الدقيقة، وأجهزة الاستشعار البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
پودر پولیش اکسید سریا فوق ریز برای پرداخت شیشه پوشش دستگاههای پوشیدنی هوشمند و میکرو اپتیک
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
پودر پولیش آکسید سیریم با خلوص بالا برای تولید شیشه های هدایت موج AR و لنز های نوری
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
پودر Cerium Oxalate عناصر واکنش دهنده شیمیایی
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
لطفا از فرم تماس آنلاین در زیر استفاده کنید اگر سوالی دارید، تیم ما در اسرع وقت با شما تماس خواهد گرفت.
