Óxido de cério ceria vidro de vento Polissagem em pó para fotomasca Pedra preciosa em branco 2,0 μm

Óxido de cério de baixo defeito para polimento em branco de máscara fotográfica

Descrição

O nosso Óxido de Cério de Baixo Defeito foi especificamente formulado para o polimento de precisão de camadas em branco de máscaras fotográficas na fabricação de semicondutores.Com foco na minimização dos defeitos e na garantia de um acabamento perfeito, este óxido de cério de alto desempenho é ideal para aplicações de fotomascas onde a qualidade da superfície é crítica.Nosso óxido de cério garante os mais altos padrões de clareza óptica e precisão dimensional no processamento em branco da máscara fotográfica.

Características principais:

Formulação de baixo grau de defeito: concebido para reduzir a contaminação e os defeitos de partículas, este óxido de cério garante um acabamento de superfície altamente consistente e uniforme,essencial para o uso em branco de máscaras fotográficas na fotolitografia por semicondutores.

Óxido de cério de alta pureza: fabricado com óxido de cério de alta pureza, este pó de polimento oferece taxas excepcionais de remoção de materiais sem comprometer a qualidade da superfície,garantir um mínimo de defeitos e resultados sem riscos.

Distribuição do tamanho das partículas finas: O tamanho das partículas finas do pó permite um polimento preciso, alcançando as superfícies lisas e livres de defeitos necessárias na produção de camadas em branco de máscara fotográfica.

A nossa formulação de óxido de cério minimiza o risco de contaminação por partículas.assegurar que as superfícies em branco da máscara fotográfica permaneçam livres de resíduos indesejados que possam interferir no processo de fotolitografia.

Desempenho eficiente de polimento: proporciona uma remoção de material ideal, preservando a integridade do branco da máscara fotográfica, reduzindo o tempo de polimento e aumentando a eficiência da produção.

Dados técnicos

Perguntas e respostas

1O que é pó de polimento de terras raras?

O pó de polimento de terras raras é um composto de alta pureza usado para polir componentes ópticos, wafers de semicondutores e superfícies delicadas como vidro e lentes.acabamento de alta transparência sem danificar o material.

2Como escolho o pó de polimento de terras raras adequado para a minha aplicação?

Para escolher o pó de polimento ideal, considere fatores como o material que está a polir, o acabamento exigido e especificações como o tamanho e a pureza das partículas.A nossa equipa de vendas está disponível para ajudá-lo a escolher o produto perfeito para as suas necessidades.

3Como devo armazenar o pó de polir de terras raras?

Manter em local fresco e seco, longe da humidade e da luz solar direta.Normalmente dura 1-2 anos.

4Fornece formulações personalizadas de terras raras?

Sim, oferecemos pó e lodos de polir terras raras personalizados, adaptados às suas necessidades específicas, incluindo ajustes no tamanho das partículas, composição química ou consistência da lodo.

5Posso obter uma amostra antes de fazer uma encomenda em massa?

Nós fornecemos amostras para avaliação, entre em contacto com a nossa equipa para solicitar uma amostra e nós vamos organizar o envio.

6Como posso fazer uma encomenda? Qual é o prazo típico de entrega?

Para fazer um pedido, basta entrar em contato com a nossa equipe de vendas, que irá guiá-lo através do processo e fornecer uma cotação.E vamos dar-lhe um calendário estimado assim que a encomenda for confirmada..