품질 세리움 산화물 세리아 풍경 닦기 분말 사진 마스크 텅 빈 보석 2.0μm 공장
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품질 세리움 산화물 세리아 풍경 닦기 분말 사진 마스크 텅 빈 보석 2.0μm 공장
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세리움 산화물 세리아 풍경 닦기 분말 사진 마스크 텅 빈 보석 2.0μm

브랜드 이름: LICHEN
모델 번호: LCR0220
원산지: 중국
인증: ISO9001
최소 주문 수량: 20KGS
가격: NEGOCIABLE
공급 능력: 250MT/월

제품 상세정보


입자 크기: 2.0±0.2μm CAS 번호: 1306-38-3
CEO₂: 99% 정지율: 높은
Ph 범위: 7-10 공식화: 맞춤형
강조하다

세리아 (Ceria) 앞창 가늘보 분말

,

2.0μm 와이드글라드 닦는 분말

,

세리아 보석 닦기 분말

제품 설명

사진 마스크 공백 닦기 위해 낮은 결함 세리움 산화물

설명

우리의 저 결함 세리움 산화물은 반도체 제조에서 사진 마스크 빈장의 정밀 닦기 위해 특별히 만들어졌습니다.결함을 최소화하고 흠없는 완성도를 보장하는 데 초점을 맞추고, 이 고성능 세리움 산화물은 표면 품질이 중요한 사진 마스크 응용 프로그램에 이상적입니다.우리의 세리움 산화물은 광학 명료와 광 마스크 빈 처리에서 차원 정확성의 최고 표준을 보장합니다.

 

주요 특징:

결함이 적은 구식: 입자 오염과 결함을 줄이기 위해 설계 된 이 세리움 산화물은 매우 일관성 있고 균일한 표면 완성도를 보장합니다.반도체 사진 리토그래피에 사용되는 사진 마스크 빈 점에 필수적입니다..

고순도 세리움 산화물: 고순도 세리움 산화물로 제조된 이 닦는 분말은 표면 품질을 손상시키지 않고 예외적인 물질 제거 속도를 제공합니다.최소한의 결함과 스크래치없는 결과를 보장합니다..

미세한 입자 크기 분포: 분말의 미세한 입자 크기는 정확한 닦기를 허용하여 사진 마스크 빈장의 생산에 필요한 부드럽고 결함 없는 표면을 달성합니다.

표면 오염을 줄여서 세리움 산화물은 입자 오염의 위험을 최소화합니다.사진 마스크의 빈 표면이 사진 리토그래피 프로세스를 방해 할 수있는 원치 않는 잔류가 없도록 보장합니다..

효율적인 닦기 성능: 사진 마스크 빈의 무결성을 유지하면서 최적의 재료 제거를 제공하여 닦기 시간을 줄이고 생산 효율성을 향상시킵니다.

 

 

기술 데이터

분자 공식 CAS 번호 CeO2 % D50 (μm) 외모 적용
CeO2 1306-38-3 99% 20.0±0.2 흰색 분말 반도체

 

질문 및 답변

1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?

희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.

2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?

이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.

3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?

시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..

4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?

예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.

5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?

절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.

6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?

주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.

제품 하이라이트

사진 마스크 공백 닦기 위해 낮은 결함 세리움 산화물 설명 우리의 저 결함 세리움 산화물은 반도체 제조에서 사진 마스크 빈장의 정밀 닦기 위해 특별히 만들어졌습니다.결함을 최소화하고 흠없는 완성도를 보장하는 데 초점을 맞추고, 이 고성능 세리움 산화물은 표면 품질이 중요한 사진 마스크 응용 프로그램에 이상적입니다.우리의 세리움 산화물은 광학 명료와 광 마스크 빈 처리에서 차원 정확성의 최고 표준을 보장합니다. 주요 특징: 결함이 적은 구식: 입자 오염과 결함을 줄이기 위해 설계 된 이 세리움 산화물은 매우 일관성 있고 균일한 표면 ...

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