Polvo de pulido para parabrisas de óxido de cerio ceria para fotomasca
Detalles del producto
| Tamaño de partícula: | 2,0 ± 0,2 μm | NÚMERO DE CAS: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO₂: | 99% | Tasa de suspensión: | Alto |
| Rango de pH: | 7-10 | Formulación: | Personalizado |
| Resaltar |
polvo de pulido de parabrisas ceria,2Polvo de pulido para parabrisas de 0,0 μm |
||
Descripción de producto
Óxido de cerio de bajo defecto para el pulido en blanco de la máscara fotográfica
Descripción
Nuestro Óxido de Cerio de Bajo Defecto está específicamente formulado para el pulido de precisión de los espacios en blanco de las fotosimascas en la fabricación de semiconductores.Con un enfoque en minimizar los defectos y garantizar un acabado impecable, este óxido de cerio de alto rendimiento es ideal para aplicaciones de fotomascas donde la calidad de la superficie es crítica.Nuestro óxido de cerio asegura los más altos estándares de claridad óptica y precisión dimensional en el procesamiento en blanco de las fotos..
Características clave:
Formulación baja en defectos: Diseñado para reducir la contaminación de partículas y defectos, este óxido de cerio asegura un acabado de superficie muy consistente y uniforme,Es esencial para los espacios en blanco de las máscaras fotográficas utilizadas en la fotolitografía por semiconductores..
Óxido de cerio de alta pureza: fabricado con óxido de cerio de alta pureza, este polvo de pulido ofrece tasas excepcionales de eliminación de materiales sin comprometer la calidad de la superficie,garantizar un mínimo de defectos y resultados libres de arañazos.
Distribución del tamaño de las partículas finas: El tamaño de las partículas finas del polvo permite un pulido preciso, logrando las superficies lisas y libres de defectos requeridas en la producción de blancos de máscara fotográfica.
Nuestra formulación de óxido de cerio minimiza el riesgo de contaminación por partículas.garantizar que las superficies en blanco de la máscara fotográfica permanezcan libres de residuos no deseados que puedan interferir en el proceso de fotolitografía.
Rendimiento de pulido eficiente: proporciona una eliminación óptima del material al tiempo que preserva la integridad del blanco de la máscara fotográfica, reduciendo el tiempo de pulido y mejorando la eficiencia de producción.
Datos técnicos
| Fórmula molecular | No CAS. | CeO2 en % | D50 (μm) | Apariencia | Aplicación |
| El CeO2 | - ¿Por qué no? | El 99% | 2.0 ± 0.2 | Polvo blanco | Semi-conductores |
Pregunta y respuesta
1¿Qué es polvo de pulido de tierras raras?
El polvo de pulir tierras raras es un compuesto de alta pureza utilizado para pulir componentes ópticos, obleas semiconductoras y superficies delicadas como vidrio y lentes.acabado de alta claridad sin dañar el material.
2¿Cómo puedo elegir el polvo de pulido de tierras raras adecuado para mi aplicación?
Para seleccionar el polvo de pulido ideal, considere factores como el material que está puliendo, el acabado requerido y especificaciones como el tamaño y la pureza de las partículas.Nuestro equipo de ventas está disponible para ayudarle a elegir el producto perfecto para sus necesidades.
3¿Cómo debo almacenar polvo de pulir de tierras raras?
Conservar en un lugar fresco y seco, lejos de la humedad y la luz solar directa.suele durar 1-2 años.
4¿Proporciona formulaciones personalizadas de tierras raras?
Sí, ofrecemos polvos y suspensiones de tierra rara personalizadas, adaptadas a sus necesidades específicas, incluyendo ajustes en el tamaño de las partículas, la composición química o la consistencia de la suspensión.
5¿Puedo obtener una muestra antes de hacer un pedido a granel?
Por supuesto, proporcionamos muestras para su evaluación, póngase en contacto con nuestro equipo para solicitar una muestra, y organizaremos el envío.
6¿Cómo puedo hacer un pedido? ¿Cuál es el tiempo de entrega típico?
Para hacer un pedido, simplemente póngase en contacto con nuestro equipo de ventas, que le guiará a través del proceso y le proporcionará una cotización.Y le daremos un calendario estimado una vez que el pedido sea confirmado..
Lo más destacado del producto
Óxido de cerio de bajo defecto para el pulido en blanco de la máscara fotográfica Descripción Nuestro Óxido de Cerio de Bajo Defecto está específicamente formulado para el pulido de precisión de los espacios en blanco de las fotosimascas en la fabricación de semiconductores.Con un enfoque en ...
Polvo de pulido de Ceria de grado CMP para óptica AR, matrices de microlentes y sensores ópticos portátiles
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
Polvo de pulido de óxido de cerio ultrafino para acabado de vidrio de dispositivos portátiles inteligentes y microópticas
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
Polvo de pulido de óxido de cerio de alta pureza para la fabricación de vidrio de guía de ondas AR y lentes ópticas
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
Polvo de oxalato de cerio, reactivo químico, elementos
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
Por favor, utilice nuestro formulario de contacto de consulta en línea de abajo si tiene alguna pregunta, nuestro equipo se pondrá en contacto con usted tan pronto como sea posible.