Ultrafeine Ceria Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen
Produktdetails
| Reinheit: | ≥ 99,95% | D50: | 0,3 – 0,6 μm |
|---|---|---|---|
| Härte: | Kontrollierte mikroabrasive Struktur | Empfohlener fester Inhalt: | 5 – 15 Gew.-% Aufschlämmung |
| Aussehen: | Hellgelbes Pulver | Stabilität der Dispersion: | Hoch |
| Hervorheben |
Ceria-Polierpulver für Laserkristalle,Ultrafeine Seltene-Erden-Polierverbindungen,Cerium-Oxid-Polierpulver für Photonik |
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Produkt-Beschreibung
Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen
Produktübersicht
Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver wurde zum Polieren von Laserkristallen und fortschrittlichen photonischen Materialien entwickelt, die eine äußerst geringe Beschädigung der Oberfläche und eine außergewöhnliche Oberflächenglätte erfordern. Die Formulierung gleicht mechanischen Abrieb und chemische Reaktivität aus, um ein kontrolliertes Polieren mit minimierten Mikrokratzern zu erreichen.
Es ist ideal für hochwertige optische Substrate, die in der Laser- und Photonikindustrie verwendet werden.
Hauptmerkmale
- Ultrafeine Partikeltechnik für die Veredelung im Nanometerbereich
- Poliermechanismus mit geringer Beschädigung der Oberfläche
- Hohe Verbesserung der Oberflächentransparenz
- Hervorragende Dispersionsstabilität
- Reduzierte Polierzeit bei hoher Oberflächenpräzision
- Konsistente Leistung von Charge zu Charge
Partikelgrößenverteilungtion

Anwendungen
- Laserkristallpolieren (YAG, Saphir, Quarzglas)
- Veredelung photonischer Substrate
- Polieren optischer Wellenleiter
- Hochleistungslaseroptik
- Optische Kommunikationskomponenten
- Wissenschaftliche optische Instrumente
Häufig gestellte Fragen
F1: Welche Oberflächenqualität kann erreicht werden?
Abhängig von den Prozessbedingungen kann eine Oberflächenrauheit unter Ra 1 nm erreicht werden.
F2: Kann das Pulver in eine Aufschlämmung umgewandelt werden?
Ja. Das Pulver lässt sich leicht in entionisiertem Wasser verteilen, um eine individuelle Polieraufschlämmung herzustellen.
F3: Ist es für automatisierte Poliermaschinen geeignet?
Ja, es ist sowohl für manuelle als auch CNC-optische Poliersysteme optimiert.
Produkt-Highlights
Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen Produktübersicht Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver wurde zum Polieren von Laserkristallen und fortschrittlichen photonischen Materialien entwickelt, die eine äußerst geringe Beschädigung der Oberfläche und eine außergew...
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