Qualität Ultrafeine Ceria Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen Fabrik
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Ultrafeine Ceria Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen

Markenbezeichnung: LICHEN
Modellnummer: LC
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO
Mindestbestellmenge: 20 kg
Preis: Contact us
Versorgungsfähigkeit: 3000MT/year

Produktdetails


Reinheit: ≥ 99,95% D50: 0,3 – 0,6 μm
Härte: Kontrollierte mikroabrasive Struktur Empfohlener fester Inhalt: 5 – 15 Gew.-% Aufschlämmung
Aussehen: Hellgelbes Pulver Stabilität der Dispersion: Hoch
Hervorheben

Ceria-Polierpulver für Laserkristalle

,

Ultrafeine Seltene-Erden-Polierverbindungen

,

Cerium-Oxid-Polierpulver für Photonik

Produkt-Beschreibung


Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen

Produktübersicht

Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver wurde zum Polieren von Laserkristallen und fortschrittlichen photonischen Materialien entwickelt, die eine äußerst geringe Beschädigung der Oberfläche und eine außergewöhnliche Oberflächenglätte erfordern. Die Formulierung gleicht mechanischen Abrieb und chemische Reaktivität aus, um ein kontrolliertes Polieren mit minimierten Mikrokratzern zu erreichen.

Es ist ideal für hochwertige optische Substrate, die in der Laser- und Photonikindustrie verwendet werden.

Hauptmerkmale

  • Ultrafeine Partikeltechnik für die Veredelung im Nanometerbereich
  • Poliermechanismus mit geringer Beschädigung der Oberfläche
  • Hohe Verbesserung der Oberflächentransparenz
  • Hervorragende Dispersionsstabilität
  • Reduzierte Polierzeit bei hoher Oberflächenpräzision
  • Konsistente Leistung von Charge zu Charge


Partikelgrößenverteilungtion

Ultrafeine Ceria Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen

Anwendungen

  • Laserkristallpolieren (YAG, Saphir, Quarzglas)
  • Veredelung photonischer Substrate
  • Polieren optischer Wellenleiter
  • Hochleistungslaseroptik
  • Optische Kommunikationskomponenten
  • Wissenschaftliche optische Instrumente

Häufig gestellte Fragen

F1: Welche Oberflächenqualität kann erreicht werden?
Abhängig von den Prozessbedingungen kann eine Oberflächenrauheit unter Ra 1 nm erreicht werden.

F2: Kann das Pulver in eine Aufschlämmung umgewandelt werden?
Ja. Das Pulver lässt sich leicht in entionisiertem Wasser verteilen, um eine individuelle Polieraufschlämmung herzustellen.

F3: Ist es für automatisierte Poliermaschinen geeignet?
Ja, es ist sowohl für manuelle als auch CNC-optische Poliersysteme optimiert.

Produkt-Highlights

Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver für Laserkristall- und Photonikanwendungen Produktübersicht Ultrafeines Ceroxid-Polierpulver wurde zum Polieren von Laserkristallen und fortschrittlichen photonischen Materialien entwickelt, die eine äußerst geringe Beschädigung der Oberfläche und eine außergew...

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