레이저 크리스탈 및 광학 응용용 초미세 세리아 롤링 파우더
제품 상세정보
| 청정: | ≥ 99.95% | D50: | 0.3~0.6μm |
|---|---|---|---|
| 경도: | 제어된 미세 연마 구조 | 추천 솔리드 콘텐츠: | 5 – 15 중량% 슬러리 |
| 모습: | 밝은 노란색 분말 | 분산 안정성: | 높은 |
| 강조하다 |
레이저 크리스탈용 시리아 롤링 파우더,초미세 희토류 닦는 화합물,포토닉스 등급의 세리움 산화물 닦기 분말 |
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제품 설명
레이저 크리스탈 및 광학 응용용 초미세 세리아 롤링 파우더
제품 개요
초미세 세리아 롤링 파우더는 레이저 크리스탈 및 초하위 손상과 뛰어난 표면 매끄러움을 필요로하는 고급 광학 물질을 롤링하기 위해 개발되었습니다.이 조식은 기계적 가려움증과 화학적 반응성을 균형을 맞추어 미세한 스크래치를 최소화하여 제어 된 닦기를 달성합니다..
레이저와 광학 산업에서 사용되는 고부가가치 광적 기판에 이상적입니다.
주요 특징
- 나노미터 수준의 가공을 위한 초미세 입자 공학
- 낮은 지표층 손상을 가리는 메커니즘
- 높은 표면 투명성 향상
- 탁월한 분산 안정성
- 높은 표면 정밀도로 닦는 시간을 줄입니다.
- 일괄에서 일괄에 대한 일관성
입자 크기 분포의정
신청서
- 레이저 크리스탈 롤링 (YAG, 사파이어, 녹은 실리카)
- 광학 기판 가공
- 광적 파도 선도자 닦기
- 고전력 레이저 광학
- 광통신 부품
- 과학 광학 기구
자주 묻는 질문
Q1: 어떤 표면 품질을 달성 할 수 있습니까?
표면 거름은 Ra 1 nm 이하로 처리 조건에 따라 달성 할 수 있습니다.
Q2: 파우더가 매료로 변환 될 수 있습니까?
파우더는 이온화된 물에 쉽게 분산되어
Q3: 자동 닦기 기계에 적합합니까?
네, 수동 및 CNC 광학 닦기 시스템 모두에 최적화되었습니다.
제품 하이라이트
레이저 크리스탈 및 광학 응용용 초미세 세리아 롤링 파우더 제품 개요 초미세 세리아 롤링 파우더는 레이저 크리스탈 및 초하위 손상과 뛰어난 표면 매끄러움을 필요로하는 고급 광학 물질을 롤링하기 위해 개발되었습니다.이 조식은 기계적 가려움증과 화학적 반응성을 균형을 맞추어 미세한 스크래치를 최소화하여 제어 된 닦기를 달성합니다.. 레이저와 광학 산업에서 사용되는 고부가가치 광적 기판에 이상적입니다. 주요 특징 나노미터 수준의 가공을 위한 초미세 입자 공학 낮은 지표층 손상을 가리는 메커니즘 높은 표면 투명성 향상 탁월한 분산 안정성 ...
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