-
Καθαριστική σκόνη οξειδίου του κερίου για οχήματα
Λάμψη γυάλωσης για την τελική επεξεργασία γυαλιού αυτοκινήτων Περιγραφέςσε Η λωρίδα για την γυαλίστραψη οχημάτων είναι μια λωρίδα υψηλών επιδόσεων με βάση το οξείδιο του κερίου που έχει σχεδιαστεί ειδικά για να επιτυγχάνει εξαιρετικά ομαλή,διαυγές φινίρισμα σε ένα ευρύ φάσμα επιφανειών γυαλιού αυτοκ...
-
Χημική Μηχανολογική επίπεδωση CMP Cerium Oxide Polishing Powder Lapidary
Χημική μηχανική ισοπεδωτικοποίηση (CMP) Περιγραφέςσε Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingΗ σκόνη γυαλι...
-
Ημιαγωγός CeO2 Ceria Slurry Cerium-based Glass Polishing Powder
Προσαρμοσμένη σκόνη γυαλισμού για ημιαγωγικές πλάκες υψηλής καθαρότητας Περιγραφέςσε Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced ...
-
0.2μM Ημιαγωγός Wafer Cerium Oxide Polishing Powder Rubbing Compound Προσαρμοσμένο
Προσαρμοσμένη σκόνη γυαλισμού για ημιαγωγικές πλάκες υψηλής καθαρότηταςΠεριγραφέςσεΤο Lichen Custom Polishing Powder for High-Purity Semiconductor Wafers είναι μια προηγμένη σκόνη γυάλωσης με βάση το οξείδιο του κερίου,ειδικά σχεδιασμένα για να ανταποκρίνονται στις απαιτητικές απαιτήσεις της κατασκε...
-
Προσαρμοσμένη γυάλινη λιπαντική πάστα σκόνη 3 μικρών για κυψέλες πυριτίου
Προσαρμοσμένη σκόνη γυάλωσης για την κατασκευή κυψελών πυριτίου Περιγραφέςσε Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingΣχε...
-
Κουάρτζιο γυαλί Σέριου οξείδιο σκόνη γυαλιστήρας cas 1306-38-3 Προσαρμοσμένο
Οξείδιο του κερίου για την γυάλωση υποστρωμάτων γυαλιού κουαρτσού Περιγραφέςσε Το Lichen Cerium Oxide for Polishing Quartz Glass Substrates είναι μια σκόνη γυάλωσης υψηλής καθαρότητας με βάση το κερίμιο που αναπτύχθηκε ειδικά για τις απαιτητικές απαιτήσεις της τελικής επεξεργασίας του γυαλιού.Με βελ...
-
Υψηλής καθαρότητας Cerium Oxide Polishing Powder Slurry Σαφείρινο ρολόι
Οξείδιο του κερίου για την γυαλίσθηση των επιφανειών ρολογιών υψηλής καθαρότητας Περιγραφή Το οξείδιο του κερίου μας για την γυάλωση υψηλής καθαρότητας σαφφείρι ρολόι είναι ειδικά διαμορφωμένο για την ακριβή γυάλωση υψηλής καθαρότητας σαφείρι, που χρησιμοποιείται συνήθως σε πολυτελή ρολόι, φακούς,κα...
-
Οξείδιο του κερίου (Cerium oxide ceria), σκόνη γυάλωσης παρμπρίζ για φωτομάσκα, κενός πολύτιμος λίθος, 2,0 μm
Οξείδιο του κερίου χαμηλής ελαττωματικότητας για γυαλιστερή φωτογραφική μάσκα Περιγραφή Το οξείδιο του κερίου χαμηλών ελαττωμάτων είναι ειδικά διαμορφωμένο για την ακριβή γυάλωση των κενών φωτογραφικών μάσκων στην κατασκευή ημιαγωγών.Με επίκεντρο την ελαχιστοποίηση των ελαττωμάτων και την εξασφάλιση ...
