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自動車用ガラス セリウムオキシド 磨き粉 サファイアスラム OEM
自動車用ガラスの仕上げ用スローリング 記述について 自動車用ガラスの仕上げ用リッセン磨きスローリーは,特に滑らかな,自動車用ガラスの表面に透明な仕上げレンガ,サイド窓,鏡,ヘッドライトを磨いていると,私たちのスラリーは優れた光学的な透明性を提供し, 傷痕,水の汚れ,霧などの欠陥を削除します.ガラスの表面を傷つけずに. 高精度な自動車ガラスの磨きのために開発された Lichen 溶液は,ガラスの外観と可視性を向上させる 傷痕のない仕上げを保証しますエステティックな魅力と運転者の安全性を向上させる. OEM製造とアフターマーケットの修理の両方のアプリケーションに理想的な,私たちの磨きスローリーは,...
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化学 機械式 平面化 CMP セリウム酸化 磨き粉 ラピダリ
化学機械平面化 (CMP) プロセスのための磨き粉 記述について Lichen Polishing Powder for Chemical Mechanical Planarization (CMP) is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to deliver superior surface planarization and precision polishing in semiconductor wafer processingCMPプロセス中に均質性と平らさを保証し, 材料の除去率を高めるた...
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半導体 CeO2 Ceria スラリー セリウムベースのガラス磨き粉
高純度半導体ウエファー用のカスタムポーリング粉末 記述について Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor manufacturingシリコン・ウェーファーや複合半導体の 磨きであれ 粉末は低粗さ...
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0.2μM 半導体 ウェーファー セリウム酸化 磨き粉 摩擦 化合物 オーダーメイド
高純度半導体ウエファー用のカスタムポーリング粉末記述について高純度半導体ワッフル用のリッセンカスタムポーリングパウダー (Lichen Custom Polishing Powder for High-Purity Semiconductor Wafers) は,セリウムオキシドベースの高度なポーリングパウダーです.高純度半導体ウェーフ製造の要求を満たすために特別に設計されたもの磨き粉は 材料の除去を 卓越した方法で制御し 均質な表面仕上げと 欠陥のない表面を 保ちます 進歩した半導体装置にとって 極めて重要ですこのスローリーは, 特殊なウェーファータイプ,デバイスのアプリケーション,製造要件...
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シリコン・ウェーバーのための3ミクロン製のグラス・ポーリング・ペスト粉末
シリコン・ウェーファー製造用 パーソナライズド・ポーリング・パウダー 記述について Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingこの粉末は半導体産業の厳格な要求を満たすために設計され,材料の除去速度,表面...
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クォーツガラス セリウム酸化 磨き粉 CAS 1306-38-3 カスタマイズ
クォーツガラス基板の磨き用セリウム酸化物 記述について クォーツガラス基板を磨くためのリッヘンセリウム酸化物は,クォーツガラス仕上げの厳しい要求のために特別に開発された高純度セリウムベースの磨き粉である.粒子のサイズ分布が最適化され,化学・機械的な磨き性能が優れている溶融クォーツと合成クォーツ基板の表面の滑らかさと低欠陥密度,一貫した材料除去を可能にします. この製品は,半導体,光子,先進光学製造を含む高光学透明性,次元精度,表面整合性を要求するアプリケーションに広く使用されています. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物組成 低不純度で安定した磨き性能を保証し,石英基板の表面汚染を...
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高純度セリウムオキシド 磨き粉 泥泥 サファイア時計
高純度サファイア時計表を磨くためのセリウム酸化物 記述 高純度サファイア時計表を磨くセリウム酸化物は 高純度サファイア時計表,レンズ,オプティカルコンポーネントこの高性能セリウムオキシードは,サファイア表面の整合性を維持しながら,欠陥のない,傷痕のない仕上げを保証する,例外的な磨き効率を提供します.光学 透明度 の 完璧な バランス を 達成 する ため に 理想 的 です時計製造と高級品産業にとって好ましい選択となっています. 主要 な 特徴 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物から製造されたこの磨き粉は,サファイア表面に最小限の欠陥や汚染を伴う最適な材料除去を保証します. 超細粒子...
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セリアムオキシドセリア フォトマスク用風車ガラス磨き粉 空白宝石2.0μm
低欠陥セリウムオキシド フォトマスクの空白磨き用 記述 低欠陥セリウムオキシドは 半導体製造における フォトマスクのプリキュア・ポーリング用に 特別に作られています欠陥を最小限に抑え 完璧な仕上げを保証するこの高性能セリウム酸化物は 表面の質が重要な photomaskアプリケーションに理想的です. 卓越した磨き効率と表面の整合性を提供します.私たちのセリウムオキシドは,光学的な明晰度と次元精度の最高水準を保証します 写真マスクの空白処理. 主要な特徴: 低欠陥製剤: 粒子汚染と欠陥を減らすために設計されたこのセリウム酸化物は,非常に一貫して均質な表面仕上げを保証します.半導体光立光学に使用さ...
