Wafer di silicio vetro Terre rare lucidatura Slurry chimico Meccanica planarizzazione CeO2
Dettagli del prodotto
| Dimensione delle particelle: | 1,0±0,2μm | CAS NO.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CeO2: | 99% | Tasso di sospensione: | Alto |
| Intervallo di pH: | 7-10 | Formulazione: | Personalizzato |
| Evidenziare |
Scavo di lucidatura per wafer di silicio,Planarizzazione Slurry di lucidatura delle terre rare,Impianti chimici Slurry di vetro meccanico |
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Descrizione di prodotto
Slam di lucidatura per la lucidatura delle wafer di silicio
Descrizione
Raggiungere la planarità a livello atomico e l'integrità superficiale con la nostra serie di scorie di lucidatura dell'ossido di cerio (CeO2).Specificamente progettati per la pianificazione meccanica chimica (CMP) nella produzione avanzata di semiconduttori, i nostri liquami sono ottimizzati per il passaggio a nodi di processo più piccoli.
Sfruttando la sinergia chimico-meccanica unica della ceria di alta purezza,le nostre formulazioni offrono elevati tassi di rimozione dei materiali (MRR) mantenendo la defectività ultra-bassa richiesta per i dispositivi logici e di memoria di prossima generazione.
Performance eccellenza
Planarità a livello nanometrico: progettata per produrre superfici ultra lisce e ad alto lucente con rugosità media-quadrata inferiore a 0,06 nm a 0,32 nm su film di silicio e dielettrici.
Alta selettività e tassi di rimozione: ottimizzato per applicazioni di isolamento di trincea superficiale (STI) e dielettrico interstrato (ILD), offrendo tassi di rimozione di ossidi di massa superiori a 500 nm/min.
Precisione: progettato per soddisfare i severi requisiti di difettosità per i nodi a tecnologia avanzata, riducendo al minimo i graffi superficiali.
Stabilità avanzata della sospensione: ingegneria proprietaria delle particelle e stabilizzatori assicurano una dispersione uniforme e impediscono l'agglomerazione, riducendo il rischio di micro graffi causati da particelle di grandi dimensioni.
Tecnologia delle risorse sostenibili: le nostre formulazioni sono in linea con le iniziative del settore,offrendo una migliore efficienza delle risorse e compatibilità con le tecnologie di riciclo per ridurre il costo totale di proprietà.
Dati tecnici
| Formula molecolare | Numero CAS. | CeO2 % | D50 (μm) | Apparizione | Applicazione |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 1.0±0.2 | Slagro bianco | Pannello LCD |
Domande e risposte
1Cos'è la polvere di lucidatura delle terre rare?
La polvere di lucidatura delle terre rare è un composto di alta purezza usato per lucidare componenti ottici, wafer semiconduttori e superfici delicate come vetro e lenti.finitura di alta lucidità senza danneggiare il materiale.
2Come scegliere la polvere di lucidatura per terre rare adatta alla mia applicazione?
Per scegliere la polvere di lucidatura ideale, considera fattori quali il materiale che stai lucidando, la finitura richiesta e specifiche come le dimensioni e la purezza delle particelle.Il nostro team di vendita è disponibile per aiutarvi a scegliere il prodotto perfetto per le vostre esigenze.
3Come stoccare la polvere di lucidatura delle terre rare?
Conservare in un luogo fresco e asciutto, lontano dall' umidità e dalla luce solare diretta.in genere dura 1-2 anni.
4Fornisce formulazioni di terre rare su misura?
Sì, offriamo polveri di lucidatura e liquami di terre rare personalizzati, su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, incluse le modifiche alle dimensioni delle particelle, alla composizione chimica o alla consistenza dello liquamo.
5Posso avere un campione prima di fare un ordine in massa?
Assolutamente! Forniamo campioni per la valutazione. Contattate il nostro team per richiedere un campione, e organizzeremo la spedizione.
6Come posso effettuare un ordine?
Per effettuare un ordine, basta contattare il nostro team di vendita, che vi guiderà attraverso il processo e vi fornirà un preventivo.E vi daremo un programma stimato una volta confermato l'ordine..
Caratteristiche del prodotto
Slam di lucidatura per la lucidatura delle wafer di silicio Descrizione Raggiungere la planarità a livello atomico e l'integrità superficiale con la nostra serie di scorie di lucidatura dell'ossido di cerio (CeO2).Specificamente progettati per la pianificazione meccanica chimica (CMP) nella ...
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