سیلیکون وافر شیشه ای زمین های نادر پولیشنگ گلوله شیمیایی مکنولوژیک مسطح سازی CeO2
جزئیات محصول
| اندازه ذرات: | 1.0±0.2μm | Cas no.: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| مدیرعامل: | 99% | نرخ تعلیق: | بالا |
| محدوده Ph: | 7-10 | فرمولاسیون: | سفارشی |
| برجسته کردن |
سیلیکون وافرهای زمین های نادر,سطح بندی خاک های نادر,مواد شیمیایی آبدهی شیشه ی مکانیکی,Planarization Rare Earth Polishing Slurry,Chemical Mechanical glass slurry |
||
توضیحات محصول
آبدهی پولیش برای پولیش وافرهای سیلیکونی
توضیحات
به سطح اتمی و یکپارچگی سطح برتر با سری سیریوم اکسید (CeO2) ما به دست آورید.طراحی شده به طور خاص برای پلاناریزاسیون شیمیایی مکانیکی (CMP) در تولید نیمه هادی پیشرفته، خمیر ما برای انتقال به گره های کوچک تر فرآیند بهینه شده است.
با استفاده از همبستگی شیمیایی مکانیکی منحصر به فردفرمول های ما نرخ های بالا از حذف مواد (MRR) را ارائه می دهند در حالی که عیب پذیری بسیار پایین مورد نیاز برای نسل بعدی دستگاه های منطق و حافظه را حفظ می کنند.
عملکرد عالی
مسطحیت سطح نانومتر: برای تولید سطوح فوق العاده صاف و درخشان با خشکی مربع ریشه به اندازه 0.06 nm تا 0.32 nm در فیلم های سیلیکون و دی الکتریک طراحی شده است.
میزان انتخاب و حذف بالا: برای جداسازی خندق کم عمق (STI) و کاربردهای دی الکتریک بین لایه (ILD) بهینه شده است، که نرخ حذف اکسید عمده بیش از 500 نانومتر / دقیقه را ارائه می دهد.
دقت: طراحی شده برای برآورده کردن الزامات سختگیرانه نقص برای گره های فناوری پیشرفته، به حداقل رساندن خراش سطح.
ثبات تعلیق پیشرفته: مهندسی ذرات اختصاصی و تثبیت کننده ها از پراکندگی یکنواخت اطمینان حاصل می کنند و از تجمع جلوگیری می کنند و خطر خراش های کوچک ناشی از ذرات بیش از حد را کاهش می دهند.
تکنولوژی منابع پایدار: فرمول های ما با ابتکارات صنعت مطابقت دارد،ارائه بهره وری منابع بهبود یافته و سازگاری با فن آوری های بازیافت برای کاهش کل هزینه مالکیت.
داده های فنی
| فرمول مولکولی | شماره CAS | % CeO2 | D50 (μm) | ظاهر | درخواست |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99 درصد | 1.0±02 | خمیر سفید | پانل LCD |
پرسش و پاسخ
1. پودر پاک کننده زمین های نادر چیست؟
پودر پاک کننده زمین های نادر یک ترکیب خالص است که برای پاک کردن اجزای نوری، وافرهای نیمه هادی و سطوح ظریف مانند شیشه و لنز استفاده می شود.یک پایان شفاف بدون آسیب رساندن به ماده.
2چگونه می توانم پودر پاک کننده زمین های نادر مناسب را برای کاربرد خود انتخاب کنم؟
برای انتخاب پودر پولیش ایده آل، عوامل مانند ماده ای که پولیش می کنید، پایان مورد نیاز و مشخصات مانند اندازه ذرات و خلوص را در نظر بگیرید.تیم فروش ما در دسترس است تا به شما در انتخاب محصول مناسب برای نیازهای شما کمک کند.
3چطور بايد پودر پاک کننده زمين نادر رو نگه دارم؟
پودر را در یک مکان خنک و خشک، دور از رطوبت و نور مستقیم خورشید نگه دارید.معمولاً 1-2 سال طول می کشد..
4آیا شما فرموله های زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهید؟
بله، ما پودر ها و خمیرهای پولیشینگ زمین های نادر سفارشی را ارائه می دهیم، که متناسب با نیازهای خاص شما، از جمله تنظیم اندازه ذرات، ترکیب شیمیایی یا ثبات خمیر است.
5ميشه قبل از سفارش دادن يه نمونه بگيرم؟
مطمئناً ما نمونه ها رو براي ارزیابی فراهم ميکنيم تماس با تيم ما براي درخواست نمونه و ما حمل و نقل رو ترتيب ميديم
6چطور می توانم سفارش بدهم؟ زمان تحویل معمول چقدر است؟
برای سفارش دادن، به سادگی با تیم فروش ما تماس بگیرید، که شما را در طول فرآیند راهنمایی می کند و یک پیشنهاد ارائه می دهد. زمان تحویل بر اساس اندازه سفارش، مکان و در دسترس بودن سهام متفاوت است،و بعد از تایید سفارش به شما یک برنامه ی پیش بینی می دهیم.
نکات برجسته محصول
آبدهی پولیش برای پولیش وافرهای سیلیکونی توضیحات به سطح اتمی و یکپارچگی سطح برتر با سری سیریوم اکسید (CeO2) ما به دست آورید.طراحی شده به طور خاص برای پلاناریزاسیون شیمیایی مکانیکی (CMP) در تولید نیمه هادی پیشرفته، خمیر ما برای انتقال به گره های کوچک تر فرآیند بهینه شده است. با استفاده از همبستگی شیمی...
مسحوق تلميع السيريوم بدرجة CMP للبصريات ذات الواقع المعزز، ومصفوفات العدسات الدقيقة، وأجهزة الاستشعار البصرية القابلة للارتداء
CMP-Grade Ceria Polishing Powder For AR Optics, Micro-Lens Arrays & Wearable Optical Sensors Product Overview This CMP-grade ceria polishing powder is engineered for next-generation micro-optical components used in AR wearables, optical sensors, and miniaturized imaging systems. Featuring controlled reactivity and ultra-fine particle engineering, the product enables atomic-level surface finishing required for high-resolution optical performance and advanced photonics
پودر پولیش اکسید سریا فوق ریز برای پرداخت شیشه پوشش دستگاههای پوشیدنی هوشمند و میکرو اپتیک
Ultra-Fine Ceria Oxide Polishing Powder For Smart Wearable Cover Glass & Micro-Optics Finishing Product Overview Developed for high-volume wearable electronics production, this ultra-fine cerium oxide polishing powder enables superior finishing of smartwatch cover glass, AR headset lenses, camera windows, and micro-optical assemblies. The formulation balances chemical activity and mechanical abrasion to deliver mirror-grade surfaces while maintaining high throughput in
پودر پولیش آکسید سیریم با خلوص بالا برای تولید شیشه های هدایت موج AR و لنز های نوری
High Purity Cerium Oxide Polishing Powder For AR Waveguide Glass & Optical Lens Manufacturing Product Overview This high-purity ceria polishing powder is specially engineered for ultra-precision polishing of AR waveguide optics, smart glasses lenses, and advanced wearable optical modules. Designed for next-generation augmented reality manufacturing, the product delivers controlled chemical-mechanical polishing (CMP) performance, achieving exceptional surface flatness and
پودر Cerium Oxalate عناصر واکنش دهنده شیمیایی
Cerium oxalate is an oxalate salt of trivalent cerium and an important rare earth compound, often existing in the form of hydrate. 1. Basic Information English Name: Cerium(III) oxalate, Cerous oxalate Chemical Formula: (usually hydrate, where x is mostly 9 or 10) Molecular Weight (Anhydrous): 544.29 : Anhydrous: 139-42-4 Hydrate: 15750-47-7 2. Physical and Chemical Properties Appearance: White or pale yellow crystalline powder, odorless and tasteless. Solubility: Practically
لطفا از فرم تماس آنلاین در زیر استفاده کنید اگر سوالی دارید، تیم ما در اسرع وقت با شما تماس خواهد گرفت.
