실리콘 웨이퍼 유리 희토류 닦기 슬러리 화학 기계 평형화 CeO2
제품 상세정보
| 입자 크기: | 1.0±0.2μm | CAS 번호: | 1306-38-3 |
|---|---|---|---|
| CEO₂: | 99% | 정지율: | 높은 |
| Ph 범위: | 7-10 | 공식화: | 맞춤형 |
| 강조하다 |
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제품 설명
실리콘 웨이퍼 롤링용 롤링 슬러리
설명
원자 수준 평면성과 우수한 표면 무결성을 우리의 시리즈 세리움 산화물 (CeO2) 닦는 슬러리와 함께 달성합니다.첨단 반도체 제조에 화학 기계 평형화 (CMP) 를 위해 특별히 설계된, 우리의 슬러리는 더 작은 프로세스 노드로의 전환을 위해 최적화됩니다.
고순수 체리아의 독보적인 화학-기계 시너지를 활용함으로써우리의 포뮬레이션은 다음 세대의 논리 및 메모리 장치에 필요한 초저 결함성을 유지하면서 높은 물질 제거율 (MRR) 을 제공합니다..
성능 우수성
나노미터 수준의 평면성: 실리콘 및 다이전트릭 필름에서 0.06 nm에서 0.32 nm까지 낮은 근 평균 제곱 거칠성으로 초연하고 반짝이는 표면을 생산하도록 설계되었습니다.
높은 선택성 및 제거율: STI 및 Interlayer Dielectric (ILD) 애플리케이션에 최적화되어 500nm/min를 초과하는 대량 산화물 제거 속도를 제공합니다.
정밀: 고도의 기술 노드에서 엄격한 결함 요구 사항을 충족하도록 설계되어 표면 경사 현상을 최소화합니다.
첨단 서스펜션 안정성: 독점 입자 공학 및 안정기는 균일한 분산을 보장하고 응집을 방지하여 과대 입자에 의한 미세 경사 위험을 줄입니다..
지속가능한 자원 기술: 우리의 구분은 산업의 시도와 일치합니다.자원 효율성 향상 및 총 소유 비용을 줄이기 위해 재활용 기술과 호환성을 제공합니다..
기술 데이터
| 분자 공식 | CAS 번호 | CeO2 % | D50 (μm) | 외모 | 적용 |
| CeO2 | 1306-38-3 | 99% | 10.0±0.2 | 백색 매물 | LCD 패널 |
질문 및 답변
1희토류 가늘게 닦는 분말이란 무엇입니까?
희토류 가루는 광학 부품, 반도체 웨이퍼, 그리고 유리와 렌즈와 같은 섬세한 표면을 가리는 데 사용되는 고순도의 화합물입니다.소재를 손상시키지 않고 높은 선명성 가공.
2제 응용 프로그램에 적합한 희토류 가루를 어떻게 선택할 수 있습니까?
이상적인 닦는 분말을 선택하려면 닦는 재료, 필요한 완성도, 입자 크기와 순수성 등의 사양을 고려하십시오.우리의 판매 팀은 귀하의 필요에 대한 완벽한 제품을 선택하는 데 도움이 사용할 수 있습니다.
3희토류 가루를 어떻게 보관해야 할까요?
시원하고 건조한 곳에 보관하고, 습기와 직접 햇빛으로부터 멀리 보관하십시오.보통 1~2년 정도 지속됩니다..
4특화된 희토류 제조품을 제공하시나요?
예, 우리는 특화된 희토류 가루와 용액을 제공합니다. 분자 크기, 화학 성분 또는 용액의 일관성을 조정하는 등 귀하의 특정 필요에 맞게 조정됩니다.
5대량 주문하기 전에 샘플을 받을 수 있나요?
절대적으로! 우리는 평가를 위해 샘플을 제공합니다. 샘플을 요청하기 위해 우리의 팀에 연락하고, 우리는 배송을 준비합니다.
6어떻게 주문을 할 수 있나요? 일반적인 배송시간은 얼마인가요?
주문을 하기 위해, 단순히 우리의 판매 팀과 연락, 그들은 과정을 통해 당신을 안내하고 공고를 제공 합니다. 배달 시간은 주문 크기와 위치, 그리고 재고 가용성에 따라 다릅니다.주문이 확정되면 예상 스케줄을 알려드리겠습니다.
제품 하이라이트
실리콘 웨이퍼 롤링용 롤링 슬러리 설명 원자 수준 평면성과 우수한 표면 무결성을 우리의 시리즈 세리움 산화물 (CeO2) 닦는 슬러리와 함께 달성합니다.첨단 반도체 제조에 화학 기계 평형화 (CMP) 를 위해 특별히 설계된, 우리의 슬러리는 더 작은 프로세스 노드로의 전환을 위해 최적화됩니다. 고순수 체리아의 독보적인 화학-기계 시너지를 활용함으로써우리의 포뮬레이션은 다음 세대의 논리 및 메모리 장치에 필요한 초저 결함성을 유지하면서 높은 물질 제거율 (MRR) 을 제공합니다.. 성능 우수성 나노미터 수준의 평면성: 실리콘 및 다이...
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