Ossido di cerio ad elevata purezza per applicazioni industriali di precisione
Dettagli del prodotto
| Formula chimica: | CeO2 | Purezza: | ≥99,5% |
|---|---|---|---|
| Dimensione delle particelle (D50): | 0,3-3,0 μm (personalizzabile) | Colore: | Giallo chiaro |
| Umidità: | ≤0,5% | Densità apparente: | 00,8-1,2 g/cm3 |
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Descrizione di prodotto
Ossido di cerio di alta purezza per applicazioni industriali di precisione
Visualizzazione del prodotto
L'ossido di cerio di alta purezza (CeO2) è un ossido di terre rare ampiamente utilizzato in processi industriali avanzati che richiedono un'elevata attività superficiale, dimensioni di particelle controllate e un'eccellente stabilità chimica.È particolarmente apprezzata per la lucidatura di precisioneIl nostro materiale è progettato per prestazioni costanti in ambienti di produzione globali.
Caratteristiche chiave
- Disponibili gradi di purezza ultra elevati (≥99,5%)
- Distribuzione controllata delle particelle su scala nanometrica e submicrona
- Eccellente efficienza di lucidatura per vetro e ceramica
- Forte capacità di ossidazione ridossa (ciclo Ce3+/Ce4+)
- Alta stabilità termica e resistenza chimica
- Basso contenuto di impurità (Fe, Si, Ca rigorosamente controllati)
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione
Applicazioni
- Lustratura ottica di vetro di precisione (lenti, prismi, wafer)
- Finitura di superfici TFT-LCD e semiconduttori
- Convertitori catalitici (trattamento dei gas di scarico delle automobili)
- Decolorazione e raffinazione del vetro
- Processi di lucidatura chimica meccanica (CMP)
- Additivo funzionale nelle ceramiche e nei rivestimenti
Domande frequenti
D1: Perché l'ossido di cerio viene utilizzato nella lucidatura?
A1: A causa del suo comportamento redox e della sua durezza unici, consente una rimozione efficiente del materiale con danni minimi alla superficie.
Q2: La dimensione delle particelle può essere personalizzata?
R2: Sì, offriamo distribuzioni D50 su misura a seconda delle esigenze di lucidatura o di catalizzatori.
D3: È adatto per applicazioni a semiconduttori?
R3: Sì, i tipi ad alta purezza sono ampiamente utilizzati nella lavorazione di wafer di precisione e CMP.
Caratteristiche del prodotto
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