Óxido de cerio de alta pureza para aplicaciones industriales de precisión
Detalles del producto
| Fórmula química: | CeO₂ | Pureza: | ≥99,5% |
|---|---|---|---|
| Tamaño de partícula (D50): | 0,3-3,0 μm (personalizable) | Color: | Amarillo claro |
| Humedad: | ≤0,5% | Densidad aparente: | 0.8-1.2 g/cm3 |
| Resaltar |
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Descripción de producto
Óxido de cerio de alta pureza para aplicaciones industriales de precisión
Descripción general del producto
El óxido de cerio (CeO₂) de alta pureza es un óxido de tierras raras ampliamente utilizado en procesos industriales avanzados que requieren alta actividad superficial, tamaño de partícula controlado y excelente estabilidad química. Es particularmente valorado en pulido de precisión, sistemas catalíticos y aplicaciones de aditivos funcionales. Nuestro material está diseñado para un rendimiento constante en entornos de fabricación globales.
Características clave
- Grados de pureza ultra alta disponibles (≥99,5%)
- Distribución controlada de partículas submicrónicas y nanométricas.
- Excelente eficiencia de pulido para vidrio y cerámica.
- Fuerte capacidad redox (ciclo Ce³⁺/Ce⁴⁺)
- Alta estabilidad térmica y resistencia química.
- Bajo contenido de impurezas (Fe, Si, Ca estrictamente controlado)
Distribución del tamaño de partículasción
Aplicaciones
- Pulido de precisión de vidrio óptico (lentes, prismas, obleas)
- Acabado de superficies TFT-LCD y semiconductores
- Convertidores catalíticos (tratamiento de gases de escape de automóviles)
- Decoloración y refinación del vidrio.
- Procesos de pulido químico mecánico (CMP)
- Aditivo funcional en cerámicas y revestimientos.
Preguntas frecuentes
P1: ¿Por qué se utiliza óxido de cerio en el pulido?
R1: Debido a su comportamiento redox y dureza únicos, permite una eliminación eficiente del material con un daño mínimo a la superficie.
P2: ¿Se puede personalizar el tamaño de las partículas?
R2: Sí, ofrecemos distribuciones D50 personalizadas según los requisitos de pulido o catalíticos.
P3: ¿Es adecuado para aplicaciones de semiconductores?
R3: Sí, los grados de alta pureza se utilizan ampliamente en CMP y en el procesamiento de obleas de precisión.
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