製品詳細
| 化学式: | CeO₂ | 純度: | ≥99.5% |
|---|---|---|---|
| 粒径(D50): | 0.3～3.0μm（カスタマイズ可能） | 色: | 薄黄色 |
| 水分: | ≤0.5% | かさ密度: | 0.8-1.2 g/cm3 |
| ハイライト |
高純度セリウム酸化物,産業用セリウム酸化物,保証付き 精密セリウム酸化物 |
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製品の説明
高純度セリウム酸化物 精密工業用
製品概要
高純度セリウム酸化物 (CeO2) は,高度な表面活性,制御された粒子の大きさ,優れた化学的安定性を必要とする高度な工業プロセスで広く使用される稀土酸化物である.精密 磨き に 特に 価値 が ある私たちの材料は グローバルな製造環境で一貫した性能のために設計されています
主要 な 特徴
- 超高い純度 (≥99.5%)
- 制御された微小微小およびナノスケール粒子分布
- ガラスとセラミクスの優れた磨き効率
- 強い酸化還元能力 (Ce3+/Ce4+サイクル)
- 高熱安定性と化学抵抗性
- 低汚れ度 (Fe,Si,Caは厳格に制御されている)
粒子の大きさの分布について
申請
- 精密光学ガラスの磨き (レンズ,プリズム,ウエファー)
- TFT-LCDと半導体の表面仕上げ
- 催化コンバーター (自動車用排気処理)
- ガラスの脱色と精製
- 化学機械磨き (CMP) プロセス
- 陶器やコーティングの機能添加物
よく 聞かれる 質問
Q1: なぜセリウム酸化物が磨きに使用されるのか?
A1: 独特の redox 振る舞いと硬さにより,表面損傷が最小限に抑えられる効率的な材料除去が可能になります.
Q2: 粒子の大きさはカスタマイズできますか?
A2: はい,私たちは,磨きや触媒の要求に応じて,調整されたD50分布を提供しています.
Q3: 半導体用途に適していますか?
A3: はい,高純度グレードはCMPおよび精密ウェーファー加工に広く使用されています.
製品 ハイライト
高純度セリウム酸化物 精密工業用 製品概要 高純度セリウム酸化物 (CeO2) は,高度な表面活性,制御された粒子の大きさ,優れた化学的安定性を必要とする高度な工業プロセスで広く使用される稀土酸化物である.精密 磨き に 特に 価値 が ある私たちの材料は グローバルな製造環境で一貫した性能のために設計されています 主要 な 特徴 超高い純度 (≥99.5%) 制御された微小微小およびナノスケール粒子分布 ガラスとセラミクスの優れた磨き効率 強い酸化還元能力 (Ce3+/Ce4+サイクル) 高熱安定性と化学抵抗性 低汚れ度 (Fe,Si,Caは厳格に制御されている) 粒子の大きさの分布について ...
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