Qualità Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio. Fabbrica
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Qualità Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio. Fabbrica
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Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio.

Marchio: LICHEN
Numero di modello: LC
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO
Quantità di ordine minimo: 20KG
Prezzo: Contact us
Capacità di approvvigionamento: 3800MT/ANNO

Dettagli del prodotto


Nome del prodotto: Liquame Ceria CMP Materiale abrasivo: Ossido di cerio (CeO₂)
Dimensione delle particelle: Personalizzato Purezza del CeO₂: ≥99,9%
Contenuti solidi: Personalizzato pH: Personalizzato
Evidenziare

Slurry CMP a base di ceria per wafer di silicio

,

Impianto di lucidatura di nanoossido di cerio

,

Impianto di lucidatura meccanica per terre rare

Descrizione di prodotto


Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio.

Visualizzazione del prodotto

Lo slurry CMP a base di cereale è uno slurry di lucidatura meccanica chimica (CMP) ad alte prestazioni formulato con particelle di nanoossido di cereale di alta purezza.fornisce prestazioni eccellenti di rimozione dei materiali, garantendo allo stesso tempo una qualità superficiale eccezionale e uniformità di lucidatura.

L'impasto offre una dispersione stabile, una distribuzione controllata delle dimensioni delle particelle e una bassa generazione di graffi, il che lo rende adatto per la pianificazione e la finitura di wafer di precisione.

Caratteristiche chiave

  • Abrasivo ad alta purezza di ossido di cerio
  • Dimensione delle nanoparticelle
  • Eccellente efficienza di lucidatura
  • Generazione di difetti di superficie ridotti
  • Dispersione stabile con lunga stabilità di conservazione
  • Tasso di rimozione uniforme del materiale (MRR)
  • Performance eccellenti in materia di rugosità della superficie
  • Contenuto solido e pH personalizzabili
  • per la lavorazione di materiali di acciaio o di ferro

Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione

Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio.

Applicazioni

  • Polizione di wafer di silicio
  • Planarizzazione dei wafer a semiconduttore
  • Fabbricazione di circuiti integrati
  • Fabbricazione di MEMS
  • Trasformazione avanzata dei semiconduttori
  • Polizione di substrato di precisione


Domande frequenti

Q1. Qual è la dimensione delle particelle disponibili?

Il nostro liquido CMP ceria standard usa nano particelle di ossido di cerio.

D. Il liquame può essere personalizzato?

Il contenuto di solidi, il valore del pH e la formulazione possono essere regolati in base alle esigenze di lucidatura del cliente.

D. L'immondizia è adatta alla produzione di semiconduttori ad alto volume?

Sì, l'impasto offre una qualità stabile, una distribuzione delle particelle costante e un'eccellente consistenza batch-to-batch.

Q4. Quali imballaggi sono disponibili?

L'imballaggio può essere personalizzato in base alle esigenze del cliente.

Caratteristiche del prodotto

Ceria CMP Slurry per la lucidatura delle cialde di silicio. Visualizzazione del prodotto Lo slurry CMP a base di cereale è uno slurry di lucidatura meccanica chimica (CMP) ad alte prestazioni formulato con particelle di nanoossido di cereale di alta purezza.fornisce prestazioni eccellenti di ...

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