Qualità Slurry di nanoceria CMP ad alta purezza per la produzione di semiconduttori Fabbrica
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Slurry di nanoceria CMP ad alta purezza per la produzione di semiconduttori

Marchio: LICHEN
Numero di modello: LC
Luogo di origine: Cina
Certificazione: ISO
Quantità di ordine minimo: 20KG
Prezzo: Contact us
Capacità di approvvigionamento: 3800MT/ANNO

Dettagli del prodotto


Nome del prodotto: Liquame Ceria CMP Materiale abrasivo: CeO2
Dimensione delle particelle: Personalizzato Purezza del CeO₂: ≥99,9%
Contenuti solidi: Personalizzato pH: Personalizzato
Evidenziare

liquidi di nanoceria di alta purezza

,

liquidi di nanoceria per semiconduttori

,

Slurry di lucidatura delle terre rare con garanzia

Descrizione di prodotto


Slurry di nanoceria CMP ad alta purezza per la produzione di semiconduttori

Visualizzazione del prodotto

La nostra scorie Ceria CMP ad alta purezza è prodotta utilizzando nanoparticelle di ossido di cerio di alta qualità per supportare applicazioni di lucidatura dei semiconduttori.La dimensione delle particelle attentamente controllata fornisce un equilibrio ottimale tra efficienza di lucidatura e qualità della superficie.

Progettato per la produzione avanzata di wafer, il liquame offre prestazioni di lucidatura affidabili, eccellente stabilità di dispersione e qualità costante per la produzione industriale.

Caratteristiche chiave

  • Ossido di cerio nano di alta purezza
  • Tecnologia di dispersione stabile
  • Ottima consistenza di lucidatura
  • Basso grado di difettosità
  • Consistenza elevata del lotto
  • Alta purezza chimica
  • Adatti per apparecchiature CMP di precisione
  • Formulazioni OEM e personalizzate disponibili

Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione

Slurry di nanoceria CMP ad alta purezza per la produzione di semiconduttori 0

Applicazioni

  • Polizione di wafer a semiconduttore
  • Wafer di silicio CMP
  • lucidatura a strato di ossido
  • Substrati elettronici di precisione

Domande frequenti

Q1. Quali vantaggi offre lo slurry ceria CMP?

Le scorie CMP a base di cereale hanno un'eccellente attività chimica, un'elevata efficienza di lucidatura, una bassa rugosità superficiale,e ridotta generazione di difetti rispetto a molti sistemi abrasivi convenzionali per applicazioni compatibili.

D. La formulazione può essere personalizzata?

Possiamo personalizzare la concentrazione delle particelle, il pH, gli additivi e altri parametri in base alle esigenze del processo del cliente.

Q3. È disponibile la produzione OEM?

Si', offriamo servizi di OEM e di produzione per clienti industriali.

Caratteristiche del prodotto

Slurry di nanoceria CMP ad alta purezza per la produzione di semiconduttori Visualizzazione del prodotto La nostra scorie Ceria CMP ad alta purezza è prodotta utilizzando nanoparticelle di ossido di cerio di alta qualità per supportare applicazioni di lucidatura dei semiconduttori.La dimensione ...

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