半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム

ブランド名: LICHEN

モデル番号: LC

原産地: 中国

認証: ISO

最小注文数量: 20KGS

価格: Contact us

供給能力: 3800MT/年

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製品概要

高純度セリアCMPスラーリーは高級セリアオキシドナノ粒子を用いて製造され要求の高い半導体磨きアプリケーションをサポートします慎重に制御された粒子の大きさは,磨き効率と表面品質の最適なバランスを提供します.

先進的なウェーファー製造のために設計されたスローリーは,信頼性の高い磨き性能,優れた分散安定性,および産業生産のための一貫した品質を提供します.

主要な特徴

高純度ナノセリウム酸化物
安定した分散技術
優れた磨き一致性
欠陥が低い
高級の連帯性
高化学純度
精密CMP機器に適している
OEMとカスタマイズされた製剤が利用可能

粒子の大きさの分布について

半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム 0

申請

半導体ウエフリング
シリコン・ウェーバー CMP
オキシード層の磨き
精密電子基板

よく聞かれる質問

Q1. セリアCMPスローリーはどのような利点を持っていますか?

CeriaベースのCMPスローリーは,優れた化学活性,高い磨き効率,低表面荒さ,互換性のあるアプリケーションのための多くの従来の磨削システムと比較して欠陥生成を減らす.

Q2. 配列をカスタマイズできますか?

粒子の濃度,pH,添加物,その他のパラメータを顧客のプロセス要求に基づいて調整できます

Q3.OEM製造は可能ですか?

産業用顧客向けに OEMとプライベート・レーベルの製造サービスを提供しています

製品ハイライト

半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム製品概要高純度セリアCMPスラーリーは高級セリアオキシドナノ粒子を用いて製造され要求の高い半導体磨きアプリケーションをサポートします慎重に制御された粒子の大きさは,磨き効率と表面品質の最適なバランスを提供します. 先進的なウェーファー製造のために設計されたスローリーは,信頼性の高い磨き性能,優れた分散安定性,および産業生産のための一貫した品質を提供します. 主要な特徴高純度ナノセリウム酸化物安定した分散技術優れた磨き一致性欠陥が低い高級の連帯性高化学純度精密CMP機器に適している OEMとカスタマイズされた製剤が利用可能 ...

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