半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム
製品詳細
| 製品名: | セリア CMP スラリー | アブラシブ材料: | CeO₂ |
|---|---|---|---|
| 粒子サイズ: | カスタマイズされた | CeO₂の純度: | ≥99.9% |
| 固形物: | カスタマイズされた | pH: | カスタマイズされた |
| ハイライト |
高純度ナノセリアCMPスラリー、半導体用ナノセリアスラリー、保証付きレアアース研磨スラリー,nano ceria slurry for semiconductors,rare earth polishing slurry with warranty |
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製品の説明
半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム
製品概要
高純度セリアCMPスラーリーは 高級セリアオキシドナノ粒子を用いて製造され 要求の高い半導体磨きアプリケーションをサポートします慎重に制御された粒子の大きさは,磨き効率と表面品質の最適なバランスを提供します.
先進的なウェーファー製造のために設計されたスローリーは,信頼性の高い磨き性能,優れた分散安定性,および産業生産のための一貫した品質を提供します.
主要 な 特徴
- 高純度ナノセリウム酸化物
- 安定した分散技術
- 優れた磨き一致性
- 欠陥が低い
- 高級の連帯性
- 高化学純度
- 精密CMP機器に適している
- OEMとカスタマイズされた製剤が利用可能
粒子の大きさの分布について
申請
- 半導体ウエフリング
- シリコン・ウェーバー CMP
- オキシード層の磨き
- 精密電子基板
よく 聞かれる 質問
Q1. セリアCMPスローリーはどのような利点を持っていますか?
CeriaベースのCMPスローリーは,優れた化学活性,高い磨き効率,低表面荒さ,互換性のあるアプリケーションのための多くの従来の磨削システムと比較して欠陥生成を減らす.
Q2. 配列をカスタマイズできますか?
粒子の濃度,pH,添加物,その他のパラメータを 顧客のプロセス要求に基づいて 調整できます
Q3.OEM製造は可能ですか?
産業用顧客向けに OEMとプライベート・レーベルの製造サービスを提供しています
製品 ハイライト
半導体製造のための高純度ナノセリアCMPスラム 製品概要 高純度セリアCMPスラーリーは 高級セリアオキシドナノ粒子を用いて製造され 要求の高い半導体磨きアプリケーションをサポートします慎重に制御された粒子の大きさは,磨き効率と表面品質の最適なバランスを提供します. 先進的なウェーファー製造のために設計されたスローリーは,信頼性の高い磨き性能,優れた分散安定性,および産業生産のための一貫した品質を提供します. 主要 な 特徴 高純度ナノセリウム酸化物 安定した分散技術 優れた磨き一致性 欠陥が低い 高級の連帯性 高化学純度 精密CMP機器に適している OEMとカスタマイズされた製剤が利用可能 ...
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