Slurry à haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs

Nom de marque: LICHEN

Numéro de modèle: LC

Lieu d'origine: Chine

Certification: ISO

Quantité de commande minimale: 20KGS

Prix: Contact us

Capacité à fournir: 3800MT/AN

Les étiquettes

cmp en suspension

Détails de produit

Nom du produit:	Boue de céria CMP	Matériau abrasif:	CeO2
Taille des particules:	Personnalisé	Pureté de CeO₂:	≥99,9 %
Contenu solide:	Personnalisé	pH:	Personnalisé
Mettre en évidence	dépollution par des gaz à effet de serre , déchets de céréales nano pour semi-conducteurs , Lumière de polissage de terres rares avec garantie

Description de produit

Slurry à haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs

Vue d'ensemble du produit

Notre Slurry Ceria CMP de haute pureté est fabriqué à l'aide de nanoparticules d'oxyde de cérium de qualité supérieure pour supporter des applications de polissage de semi-conducteurs exigeantes.La taille soigneusement contrôlée des particules assure un équilibre optimal entre l'efficacité du polissage et la qualité de la surface.

Conçu pour la fabrication avancée de plaquettes, le lisier offre des performances de polissage fiables, une excellente stabilité de dispersion et une qualité constante pour la production industrielle.

Principales caractéristiques

Oxyde de cérium nano de haute pureté
Technologie de dispersion stable
Excellente consistance de polissage
Faible défectuosité
Consistance élevée du lot
Haute pureté chimique
Convient à l'équipement de précision CMP
Des formulations OEM et personnalisées sont disponibles

Distribution de la taille des particulesLe gouvernement

Slurry à haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs 0

Applications

Polissage de plaquettes à base de semi-conducteurs
Plaquettes de silicium CMP
Polissage à la couche d'oxyde
Substrats électroniques de précision

Questions fréquemment posées

Quels sont les avantages offerts par le lisier de ceria CMP?

Les résidus de CMP à base de céréales présentent une excellente activité chimique, une efficacité de polissage élevée, une faible rugosité de surface,et une génération de défauts réduite par rapport à de nombreux systèmes abrasifs conventionnels pour des applications compatibles.

Q2. La formulation peut-elle être personnalisée?

Oui, nous pouvons personnaliser la concentration de particules, le pH, les additifs et autres paramètres en fonction des exigences du client.

Q3. La fabrication OEM est-elle disponible?

Oui, nous offrons des services de fabrication OEM et de marque privée pour les clients industriels.

Points forts du produit

Slurry à haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs Vue d'ensemble du produit Notre Slurry Ceria CMP de haute pureté est fabriqué à l'aide de nanoparticules d'oxyde de cérium de qualité supérieure pour supporter des applications de polissage de semi-conducteurs exigeantes.La taille ...

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