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Lloras de nanocería CMP de alta pureza para la fabricación de semiconductores

Nombre de la marca: LICHEN
Número de modelo: LC
Lugar de origen: Porcelana
Certificación: ISO
Cantidad mínima de pedido: 20KGS
Precio: Contact us
Capacidad de suministro: 3800TM/AÑO

Detalles del producto


Nombre del producto: Lechada de Ceria CMP Material abrasivo: CeO₂
Tamaño de partícula: Personalizado Pureza del CeO₂: ≥99,9%
Contenido sólido: Personalizado pH: Personalizado
Resaltar

Esparcimiento de CMP de nanoceria de alta pureza

,

Esmerile de nanoceria para semiconductores

,

Esparcimiento de tierra rara con garantía

Descripción de producto


Lloras de nanocería CMP de alta pureza para la fabricación de semiconductores

Resumen del producto

Nuestra Slurry Ceria CMP de alta pureza se fabrica utilizando nanopartículas de óxido de cerio de primera calidad para soportar aplicaciones exigentes de pulido de semiconductores.El tamaño de partículas cuidadosamente controlado proporciona un equilibrio óptimo entre la eficiencia de pulido y la calidad de la superficie.

Diseñado para la fabricación avanzada de obleas, el estiércol ofrece un rendimiento de pulido confiable, una excelente estabilidad de dispersión y una calidad constante para la producción industrial.

Características clave

  • Óxido de cerio nano de alta pureza
  • Tecnología de dispersión estable
  • Excelente consistencia de pulido
  • Baja defectosidad
  • Alta consistencia del lote
  • Alta pureza química
  • Apto para equipos de CMP de precisión
  • Formulaciones OEM y personalizadas disponibles

Distribución del tamaño de las partículasEl

Lloras de nanocería CMP de alta pureza para la fabricación de semiconductores 0

Aplicaciones

  • Polido de obleas de semiconductores
  • Wafer de silicio CMP
  • Polido de capas de óxido
  • Substratos electrónicos de precisión

Preguntas frecuentes

P1. ¿Qué ventajas ofrece la suspensión de ceria CMP?

Las levaduras de CMP basadas en celia proporcionan una excelente actividad química, una alta eficiencia de pulido, una baja rugosidad superficial,y reducción de la generación de defectos en comparación con muchos sistemas abrasivos convencionales para aplicaciones compatibles.

P2: ¿Se puede personalizar la formulación?

Podemos personalizar la concentración de partículas, pH, aditivos y otros parámetros basados en los requisitos del proceso del cliente.

¿Está disponible la fabricación OEM?

Ofrecemos OEM y servicios de fabricación de marca privada para clientes industriales.

Lo más destacado del producto

Lloras de nanocería CMP de alta pureza para la fabricación de semiconductores Resumen del producto Nuestra Slurry Ceria CMP de alta pureza se fabrica utilizando nanopartículas de óxido de cerio de primera calidad para soportar aplicaciones exigentes de pulido de semiconductores.El tamaño de part...

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