"cerium oxide polishing compound"
希少地球化合物 イトリウム酸化物粉末
工場 の 供給 高品質 の イートリウム 酸化 粉 製品説明 製品名 イトリウム酸化物 MF O3Y2 エインエックス 215-233-5 について 外見 白い粉末 MOQ 1kg 詳細は参照してください サンプルとカスタマイズ 支援 配達時間 7〜15日 輸送方法 海上貨物,陸上輸送,航空輸送,急送 パッケージ 標準パッケージ 決済方法 すべて 産地 内モンゴル 中国 ブランド 顧客によってほら 需要 生産能力 4年間000トン 品質 最高 の 品質 ...
光子産業用 グラス オプティカル ポーリング パウダー
フォトニクス産業向けに合わせた磨き粉 記述 超高純度 セリウムオキシド (CeO2) 磨き粉で フォトニクス製造を向上させてください精密な光学と光ファイバーの厳しい要求のために設計された. 高速で複雑な自由形幾何学へと 移動するにつれて信号損失を最小限に抑え デバイスの効率を最大化するために必要な安定性と精度を 提供します. 主要 な 特徴 パーソナル・パーティクル・エンジニアリング: 微細な材料に微小な傷が起こらないように 精密に制御された粒子のサイズ分布 (PSD) を提供します. 高度な純度: フォトニクス級の粉末は,高性能レーザーや画像コンポーネントに穴,霧,または光学異常を引き起こす...
1.0μM 光子産業用稀土磨き粉 PH 中性
フォトニクス産業のための磨き粉 記述 光学産業用の 磨き粉は 光学や光子部品の 製造の要求に応えるように 特別に設計されていますこの高性能粉末はレンズに最適です鏡,プリズム,光ファイバー,波導体など,最先端の光学アプリケーションで使用されます. 主要な特徴: 特殊な純度最高品質の素材で製造された 磨き粉は 最低限の汚染と 最重要な用途でも一貫した結果を提供します 精密アブラシブ光学部品の表面を細かく仕上げながら 光学装置にとって不可欠な 厳格な容量と寸法整合性を維持します 効率的な物質除去:質を損なうことなく 流量を増やす 迅速で均質な磨き作用を提供します 広く互換性グラス,シリカ,サファイア...
Cerium ベースの稀土の磨き粉末材料 平面ガラスの加工用 Cas 1306 38 3
平面ガラスの加工のための磨き材料 記述について 平面ガラスの加工のためのリヘンセリウムベースの磨き材料は,平面ガラスの業界の厳しい要求を満たすために設計された特別に策定された磨材です.建築ガラスの場合でも,高純度セリウムオキシド材料は 優れた磨き効果を表面の荒さが低く,欠陥が最小限である高品質の仕上げを保証する. 表面の滑らかさ,透明性,そして一貫性が不可欠である.リッセン製の磨き材料は,高輝度グラス表面の視覚的および機能的質を向上させる. 主要 な 特徴 と 利点 高純度セリウム酸化物 私たちのセリウムオキシド磨き材は 低不純度で作られ 一貫した性能を保証し 汚染を防ぎます 最適化された粒子...
高精度サファイア光学磨き粉 CAS 1306-38-3 OEM
電子部品のためのセリウム酸化の磨き粉 概要: 精巧に設計され 光学部品に 完璧で高精度な仕上げを 提供していますこの粉末は,繊細な光学表面を磨くのに優れた性能を提供します.レンズ,鏡,プリズマ,または他の光学装置で作業するかどうかにかかわらず私たちの磨き粉は,様々な光学アプリケーションで優れた結果を保証します. 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物:高品質のセリウム酸化物で製造された私たちの磨き粉は,光学表面の整合性を維持しながら,最大限の磨き効率を保証します. 卓越した表面透明性: 表面の欠陥を最小限に抑え,レンズと光学部品の高い透明性と性能を確保するために設計された. 微細粒子の大きさ:粉末...
工業用ラッピング 希少土の磨きスラム 結晶ガラス磨き用
水晶ガラスの磨き用工業用磨材 記述について 水晶ガラス磨き用リッセン工業磨材は,水晶ガラス表面の高精度磨きのために設計されたセリウム酸化物ベースの磨材で,特に製成されている.細晶ガラス器具を磨くかどうか装飾用ガラスや光学結晶など 磨材は完璧で 透明性の高い仕上げを保ち 光学品質と美学的な魅力に 高い基準を満たします リッヒンの磨料は 効率的な材料除去を目的として 設計されており 晶の整合性を損なうことなく 滑らかで欠陥のない表面を 実現します私たちの磨材は制御された磨き作用を提供します完璧な光り,滑らかな仕上げ,そして最も要求の高い結晶グラスアプリケーションのための高品質な結果を可能にします. ...
半導体 CeO2 Ceria スラリー セリウムベースのガラス磨き粉
高純度半導体ウエファー用のカスタムポーリング粉末 記述について Lichen Polishing Powder for Ultra-Flat Semiconductor Surface Finishing is a high-performance cerium oxide-based polishing powder designed to achieve exceptionally flat and smooth surfaces required for advanced semiconductor manufacturingシリコン・ウェーファーや複合半導体の 磨きであれ 粉末は低粗さ...
半導体 ポリシング Ceo2 オキシド スラム 高精度 1.0μm
高精度半導体製造用スローリング 概要: 半導体製造のための 高性能磨きスラリーは 半導体産業の要求に応えるように設計されていますこのスローリーは,ウエフルの表面仕上げにおいて優れた精度を提供します.次世代の半導体装置にとって不可欠な超滑らかな表面を保証します 主要な特徴: 高純度セリウム酸化物:高度なセリウム酸化物技術を活用し,卓越した磨き効率と精巧な表面仕上げを提供します. 優れた除去率:最小限の表面欠陥で精密な材料除去に最適化され,先進的な半導体ウェーバーアプリケーションに最適化されています. 汎用性:シリコン,ガリウムアルセニード (GaAs) および他の化合物半導体を含む幅広い半導体材...
スクラッチフリー自動車ガラス 透明な仕上げのために稀土の磨き粉
透明な仕上げのための自動車ガラス磨き粉記述についてカーガラスの表面をクリアにするためのリッセン自動車ガラスの磨き粉は,自動車ガラスの表面に結晶透明な磨き粉を提供するために特別に策定されたセリウム酸化物ベースのプレミアム磨き粉です.フロントガラスのために設計されたこの磨き粉末は高光学的な透明性を確保し,傷や霧や水の汚れなどの表面の不完全性を除去します.OEMのガラス製造とアフターマーケットの修理の両方に理想的なリッセン・ポールの磨き粉は,優れた,傷痕のない仕上げを達成し,自動車ガラスの美学性と安全性を向上させます.繊細な磨材で,不純度が少ない車のガラスを磨く上で 高性能な結果を求めている人にとっ...
シリコン・ウェーバーのための3ミクロン製のグラス・ポーリング・ペスト粉末
シリコン・ウェーファー製造用 パーソナライズド・ポーリング・パウダー 記述について Lichen Tailored Polishing Powder for Silicon Wafer Manufacturing is a premium cerium oxide-based powder formulated to deliver exceptional performance in the polishing of silicon wafers used in semiconductor manufacturingこの粉末は半導体産業の厳格な要求を満たすために設計され,材料の除去速度,表面...
高純度ポリシング Ceo2 パウダースラー OLEDディスプレイ
OLEDディスプレイのための高純度磨きスラム記述についてOLEDディスプレイ用の高純度リッセン磨きスラーリーは,OLEDディスプレイ生産の厳しい要求を満たすために設計された先進的なセリウム酸化物ベースのスラーリです.超滑らかな仕上げのために設計されたOLEDパネルにとって極めて重要です 高性能の光学性能,色精度,長期的信頼性を保証します高画質のOLEDディスプレイに 必要な表面特性を 精密に調整するのに最適です スマートフォンやテレビや他の電子機器製造者は優れた光伝達と均一性を達成し,OLED技術の全体的な品質を向上させることができます. 主要 な 特徴 と 利点高純度セリウム酸化物リチェン・...
水ベースのCeO2 化学機械的な磨きスラム ガラスの欠陥除去
浮遊ガラス表面の欠陥除去のための磨きスラム記述について浮遊ガラスの表面欠陥除去のためのリッセン磨きスラーリーは,浮遊ガラスの表面欠陥を効果的に除去するために特別に策定されたセリウム酸化物ベースのスラーリです.傷を処理するかどうか表面の透明性を向上させています 表面の透明性を向上させています製造と生産後ガラス表面修復の両方に理想的になります.浮遊ガラス産業で使用するために設計された この磨きスローリーは ガラスの表面が 完璧で滑らかな仕上げを 達成することを保証しますコートやラミネーションなどのさらなる加工に最適です溶液は光学的な透明性を向上させ,望ましくない欠陥を除去し,表面全体に均一性を確保...
