レーザー光学磨き用のプレミアムセリウム酸化物
製品詳細
| 化学式: | 酸化セリウム (CeO₂) | CeO₂ 純度: | 99.9% |
|---|---|---|---|
| 粒径(D50): | 0.3～3.0μm（カスタマイズ可能） | 色: | 淡黄色の粉末 |
| CAS番号: | 1306-38-3 | OEMサービス: | 利用可能 |
| ハイライト |
酸化セリウム研磨粉、レーザー光学酸化セリウム、希土類研磨剤,laser optics cerium oxide,rare earth polishing compound |
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製品の説明
レーザー光学磨き用のプレミアムセリウム酸化物
製品概要
高純度セリウムオキシド磨き粉は,レーザー光学部品の超精密磨きのために特別に設計された高級稀土磨き材料です.精密に精製されたセリウムオキシッドから製造され,先進的な生産技術を使用する表面の滑らかさ,表面の欠陥が少なく,光学的な透明性が優れている.
この磨き粉は,要求の高い光学仕上げ用途のために設計され,レーザーレンズ,光学窓,鏡,プリズム,ビームスプリッター,他の高精度光学部品粒子のサイズ分布が最適化され,化学純度が高いため,傷や地下の損傷を最小限に抑え,ナノメートルの表面仕上げを必要とするアプリケーションに適しています.
従来のピッチ・ポーリングと現代的なポリウレタン・ポーリング・パッド・システムと互換性がある製品が粉末として供給されるか,自動生産ライン用のパーソナライズされた磨きスラーブとして作られる.
主要 な 特徴
- 高純度セリウム酸化物 (CeO2) 精密光学磨き用
- 安定した材料除去率で優れた磨き効率
- 表面の荒さも極低で 光学透明性が高い
- 傷,穴,地底の損傷を最小限に抑える
- 一貫した磨き性能のために狭く均一な粒子の大きさ分布
- 精巧なスラム分散とススペンション安定性
- 手動,CNC,自動磨き機器に適しています.
- ISO 9001 品質管理の下で連発の質が一貫している
- パーソナライズされた粒子の大きさ,磨き速さ,スローリー製剤が利用可能
- OEM製造とプライベートラベルサービスサポート
粒子の大きさの分布について
申請
- レーザーレンズの精密磨き
- 高功率レーザー光学部品
- 光窓
- レーザー鏡と反射光学
- 電波分断機
- オプティカルプリズム
- 溶融シリカ光学
- クォーツ光学部品
- BK7 光学ガラス
- サファイア光学基板
- 精密光学ガラス製造
- フォトニクスおよびレーザーシステムの部品
- 科学用および実験用光学機器
- 航空宇宙および防衛用光学システム
- 半導体光学部品
よく 聞かれる 質問
Q1: このセリウム酸化物磨き粉はどの光学材料に使用できますか?
溶融したシリカ,クォーツ,BK7光学ガラス,サファイア,光学セラミック,レーザーガラス,および他の多くの精密光学材料を磨くのに適しています.
Q2: 粒子の大きさは,異なる磨きプロセスにカスタマイズできますか?
オーダーメイドの粒子のサイズ分布と ポリシングの配列を 提供します
Q3: 製品が自動磨きシステムと互換性があるか?
はい.粉末は,優れた分散とスラムの安定性を有し,CNC磨き機,ロボット磨きシステム,連続生産ラインに適しています.
Q4: 使う準備済みの磨きスローを供給していますか?
そうです ポリシング粉末に加えて リッセン社は 特定のプロセス要件を満たすために 固体含有量,pH,粘度,粒子のサイズを調整できる セルウム酸化ポリシングスルーを 提供しています
Q5: 表面質は?
最適化された磨き条件で使用すると,この製品はナノメートルの表面荒さ,高い表面整合性,最小限の地下損傷で優れた光学仕上げを生成することができます.最終的な性能は,作業部品の材料に依存するパッドの選択とプロセスパラメータ.
製品 ハイライト
レーザー光学磨き用のプレミアムセリウム酸化物 製品概要 高純度セリウムオキシド磨き粉は,レーザー光学部品の超精密磨きのために特別に設計された高級稀土磨き材料です.精密に精製されたセリウムオキシッドから製造され,先進的な生産技術を使用する表面の滑らかさ,表面の欠陥が少なく,光学的な透明性が優れている. この磨き粉は,要求の高い光学仕上げ用途のために設計され,レーザーレンズ,光学窓,鏡,プリズム,ビームスプリッター,他の高精度光学部品粒子のサイズ分布が最適化され,化学純度が高いため,傷や地下の損傷を最小限に抑え,ナノメートルの表面仕上げを必要とするアプリケーションに適しています. 従来のピッチ・ポ...
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