레이저 광학 닦기 위한 프리미엄 세리움 산화물
제품 상세정보
| 화학식: | 산화세륨(CeO₂) | CeO2 순도: | 99.9% |
|---|---|---|---|
| 입자 크기(D50): | 0.3~3.0μm(맞춤형) | 색상: | 밝은 노란색 분말 |
| CAS 번호: | 1306-38-3 | OEM 서비스: | 사용 가능 |
| 강조하다 |
산화 세륨 연마제,레이저 광학 산화 세륨,희토류 연마제 |
||
제품 설명
레이저 광학 닦기 위한 프리미엄 세리움 산화물
제품 개요
고순도 세리움 산화물 뽀로링 파우더는 레이저 광학적 구성 요소의 초정밀 뽀로링을 위해 특별히 설계 된 고급 희토류 뽀로링 재료입니다.고도로 정제된 세리움 산화물로 첨단 생산 기술을 사용하여 제조, 그것은 탁월한 물질 제거 효율을 제공하고 예외적인 표면 매끄러움, 낮은 표면 결함 및 우수한 광학 선명성을 달성합니다.
까다로운 광학 가공 용도로 설계된 이 닦는 분말은 레이저 렌즈, 광학 창문, 거울, 프리즘, 빔 스플리터,그리고 다른 고정밀 광학적 부품최적화된 입자 크기 분포와 높은 화학 순수성은 스크래치와 지하 손상을 최소화하는데 도움을 주며 나노미터 수준의 표면 완공이 필요한 응용 분야에 적합합니다.
전통적인 피치 폴리싱과 현대 폴리우레탄 폴리싱 패드 시스템과 호환됩니다.제품은 가공형 생산 라인에서 분말 또는 맞춤형 닦기 매료로 제조될 수 있습니다..
주요 특징
- 고순도 세리움 산화물 (CeO2)
- 안정적인 물질 제거율과 함께 우수한 닦기 효율성
- 표면 거칠성이 매우 낮고 광학 투명성이 높습니다.
- 긁힌 점, 구멍, 그리고 지표 아래 손상을 최소화 한다
- 일관성 있는 닦기 성능을 위해 좁고 균일한 입자 크기 분포
- 우수한 매일 분산 및 서스펜션 안정성
- 수동, CNC 및 자동 닦기 장비에 적합합니다
- ISO 9001 품질 관리에 따른 일관된 팩에서 팩 품질
- 주문형 입자 크기, 닦기 속도 및 용매 구성이 가능합니다.
- OEM 제조 및 개인 라벨링 서비스 지원
입자 크기 분포의정
신청서
- 레이저 렌즈의 정밀 닦기
- 고전력 레이저 광 부품
- 광학 창문
- 레이저 거울 및 반사 광학
- 빔 스플리터
- 광적 프리즘
- 융합 실리카 광학
- 쿼츠 광 부품
- BK7 광 유리
- 사피어 광적 기판
- 정밀 광학 유리 제조
- 광학 및 레이저 시스템 부품
- 과학 및 실험실 광학 기구
- 항공우주 및 국방 광학 시스템
- 반도체 광 부품
자주 묻는 질문
Q1: 이 세리움 산화물 닦기 분말은 어떤 광학 물질에 사용할 수 있습니까?
그것은 융합 실리카, 쿼츠, BK7 광학 유리, 사파이어, 광학 세라믹, 레이저 유리 및 다른 많은 정밀 광학 재료를 닦는 데 적합합니다.
Q2: 다른 닦기 과정에 대해 입자 크기를 사용자 정의 할 수 있습니까?
네. 우리는 다양한 광학 재료, 닦기 패드, 장비, 그리고 표면 완성 요구 사항에 맞게 맞춤형 입자 크기 분포와 닦기 구성을 제공합니다.
Q3: 제품은 자동 닦기 시스템과 호환됩니까?
그렇습니다. 분말은 뛰어난 분산성과 매료 안정성을 가지고 있어 CNC 닦기 기계, 로봇 닦기 시스템, 연속 생산 라인 등에 적합합니다.
Q4: 사용 준비 된 닦기 매립물을 공급합니까?
네. 릴린은 닦는 분말 외에도 특정 프로세스 요구 사항을 충족시키기 위해 고체 함량, pH, 점착성 및 입자 크기를 조정할 수 있는 맞춤형 세리움 산화물 닦는 매매를 제공합니다.
Q5: 어떤 표면 품질을 달성 할 수 있습니까?
최적화된 닦기 조건에서 사용되면 이 제품은 나노미터 수준의 표면 거칠성, 높은 표면 무결성, 그리고 최소한의 지하 손상을 가진 우수한 광학적 완성도를 낼 수 있다.최종 성능은 작업 조각 재료에 달려 있습니다, 닦는 장비, 패드 선택 및 프로세스 매개 변수
제품 하이라이트
레이저 광학 닦기 위한 프리미엄 세리움 산화물 제품 개요 고순도 세리움 산화물 뽀로링 파우더는 레이저 광학적 구성 요소의 초정밀 뽀로링을 위해 특별히 설계 된 고급 희토류 뽀로링 재료입니다.고도로 정제된 세리움 산화물로 첨단 생산 기술을 사용하여 제조, 그것은 탁월한 물질 제거 효율을 제공하고 예외적인 표면 매끄러움, 낮은 표면 결함 및 우수한 광학 선명성을 달성합니다. 까다로운 광학 가공 용도로 설계된 이 닦는 분말은 레이저 렌즈, 광학 창문, 거울, 프리즘, 빔 스플리터,그리고 다른 고정밀 광학적 부품최적화된 입자 크기 분포와 ...
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