Optik cam ve yarı iletken cilalama için yüksek çıkarma oranı Ceria çamur
Ürün Ayrıntıları
| Aşındırıcı malzeme: | yüksek saflıkta seryum oksit | Parçacık Boyutu (D50): | 0,3 – 1,0 mikron |
|---|---|---|---|
| katı içerik: | ağırlıkça %10 – 30 | PH: | 6,5 – 9,0 |
| Dış görünüş: | Beyaz Bulamaç | Yüzey İşlemi: | Ultra Hassas |
| Vurgulamak |
Optik cam cilalamak için serya çamurları,Yüksek çıkarma hızı olan yarı iletken cilalama hamuru,Nadir topraklı ceria cilalama çamurları |
||
Ürün Tanımı
Optik Cam ve Yarı İletken Parlatma için Yüksek Giderim Oranlı Serium Oksit Çamuru
Ürün Genel Bakışı
Optik cam ve yarı iletken alt tabakaların hızlı ve verimli parlatılması için geliştirilmiş yüksek giderim oranlı serium oksit çamuru. Üretim verimliliğini artırmak ve işlem süresini azaltmak için mükemmel malzeme giderim performansını kararlı yüzey kalitesiyle birleştirir.
Ana Özellikler
- Yüksek parlatma verimliliği ve verimi
- Hızlı malzeme giderim kabiliyeti
- Mükemmel proses kararlılığı
- Azaltılmış parlatma döngü süresi
- Tekdüze partikül dağılımı
- Büyük ölçekli endüstriyel parlatma için uygundur
Partikül Boyutu DağılımıUygulamalar
Optik cam parlatma
- Yarı iletken alt tabaka parlatma
- LCD cam parlatma
- Hassas seramik parlatma
- Büyük ölçekli optik üretim
- Yüksek verimli parlatma üretim hatları
- Neden Lichen'i Küresel Tedarikçiniz Olarak Seçmelisiniz
Özel serium oksit ve alümina parlatma üreticisi
- Kararlı nadir toprak ham madde tedarik zinciri
- Özelleştirilmiş partikül mühendisliği kabiliyeti
- Tutarlı parti-parti kalite kontrolü
- Parlatma proses optimizasyonu için teknik destek
Ürün Özellikleri
Optik Cam ve Yarı İletken Parlatma için Yüksek Giderim Oranlı Serium Oksit Çamuru Ürün Genel Bakışı Optik cam ve yarı iletken alt tabakaların hızlı ve verimli parlatılması için geliştirilmiş yüksek giderim oranlı serium oksit çamuru. Üretim verimliliğini artırmak ve işlem süresini azaltmak için m...
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing
Scratch-Free Ceria CMP Slurry for Semiconductor & Silicon Wafer Polishing Product Overview Scratch-Free Cerium Oxide CMP Slurry is specially formulated for semiconductor wafer and advanced substrate polishing where defect control and ultra-smooth surfaces are critical. The engineered nano-scale ceria particles provide superior defect reduction while maintaining stable removal efficiency. Ideal for silicon wafer finishing and precision semiconductor fabrication processes. Key
Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials
Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry for Laser Crystals & Advanced Optical Materials Product Overview Ultra-Precision Cerium Oxide Slurry is developed for final polishing of high-value optical and laser materials requiring high-level surface quality. The controlled particle distribution enables superior surface finish while preserving material integrity. Optimized for polishing hard and brittle materials used in laser, photonics, and high-performance optical systems. Key
High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components
High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry for Optical Glass & Photonics Components Product Overview High Removal Rate Cerium Oxide CMP Slurry is engineered for precision polishing of optical glass and photonic components requiring fast material removal with controlled surface quality. The optimized particle morphology enables efficient planarization while maintaining excellent surface integrity and process stability. Designed for advanced optical manufacturing, this slurry
Optik cam ve yarı iletken cilalama için yüksek çıkarma oranı Ceria çamur
High Removal Rate Ceria Slurry for Optical Glass and Semiconductor Polishing Product Overview High removal rate ceria slurry developed for fast and efficient polishing of optical glass and semiconductor substrates. Combines excellent material removal performance with stable surface quality to improve production efficiency and reduce processing time. Key Features High polishing efficiency and throughput Fast material removal capability Excellent process stability Reduced
Herhangi bir sorunuz varsa lütfen aşağıdaki çevrimiçi talep iletişim formumuzu kullanın, ekibimiz en kısa sürede size geri dönüş yapacaktır.
