Ceria-Schlamm mit hoher Entfernungsrate für das Polieren von optischem Glas und Halbleitern
Produktdetails
| Schleifmittel: | hochreines Ceroxid | Partikelgröße (D50): | 0,3 – 1,0 μm |
|---|---|---|---|
| solider Inhalt: | 10 – 30 Gew.-% | pH-Wert: | 6,5 – 9,0 |
| Aussehen: | Weiße Gülle | Oberflächenbeschaffenheit: | Ultrapräzision |
| Hervorheben |
Ceria-Schlamm zum Polieren von optischem Glas,Halbleiterpoliermittel mit hoher Entfernungsrate,Schleim für die Polierung von Seltenerd-Ceria |
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Produkt-Beschreibung
Hochleistungs-Ceri-Slurry für die Politur von optischem Glas und Halbleitern
Produktübersicht
Hochleistungs-Ceri-Slurry, entwickelt für die schnelle und effiziente Politur von optischen Glas- und Halbleitersubstraten. Kombiniert exzellente Materialabtragsleistung mit stabiler Oberflächenqualität zur Verbesserung der Produktionseffizienz und Reduzierung der Bearbeitungszeit.
Hauptmerkmale
- Hohe Poliereffizienz und Durchsatz
- Schnelle Materialabtragsfähigkeit
- Exzellente Prozessstabilität
- Reduzierte Polierzykluszeit
- Gleichmäßige Partikelverteilung
- Geeignet für industrielle Großserienpolitur
PartikelgrößenverteilungAnwendungen
Politur von optischem Glas
- Politur von Halbleitersubstraten
- Politur von LCD-Glas
- Präzisionskeramikpolitur
- Herstellung von Großoptiken
- Hochdurchsatz-Polierproduktionslinien
- Warum Lichen als Ihren globalen Lieferanten wählen
Spezialisierter Hersteller von Ceri- und Aluminiumoxid-Polituren
- Stabile Lieferkette für Seltene Erden Rohmaterialien
- Maßgeschneiderte Partikel-Engineering-Fähigkeiten
- Konsistente Chargen-zu-Chargen-Qualitätskontrolle
- Technischer Support für die Optimierung von Polierprozessen
Produkt-Highlights
Hochleistungs-Ceri-Slurry für die Politur von optischem Glas und Halbleitern Produktübersicht Hochleistungs-Ceri-Slurry, entwickelt für die schnelle und effiziente Politur von optischen Glas- und Halbleitersubstraten. Kombiniert exzellente Materialabtragsleistung mit stabiler Oberflächenqualität zur ...
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