Cerium-Oxid-CMP-Schlamm mit hoher Entfernung für optische Glas- und Photonikkomponenten
Produktdetails
| Schleifmittel: | CeO2 | Partikelgröße (D50): | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| solider Inhalt: | 5 – 20 Gew.-% | pH-Wert: | 6,5 – 8,5 |
| Aussehen: | Weiße Gülle | Stabilität der Dispersion: | Exzellent |
| Hervorheben |
Ceriumoxid-CMP-Schlamm für optisches Glas,Schleifschlamm mit hoher Entfernungsrate,Seltenerd-CMP-Schlamm für die Photonik |
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Produkt-Beschreibung
Cerium-Oxid-CMP-Schlamm mit hoher Entfernung für optische Glas- und Photonikkomponenten
Produktübersicht
Cerium-Oxid-CMP-Schlamm mit hoher Entfernung ist für die Präzisionspolierung von optischem Glas und photonischen Komponenten ausgelegt, die eine schnelle Materialentfernung mit kontrollierter Oberflächenqualität erfordern.Die optimierte Partikelmorphologie ermöglicht eine effiziente Planarisierung bei gleichzeitiger Erhaltung einer hervorragenden Oberflächenintegrität und Prozessstabilität.
Dieser Schlauch, der für die fortschrittliche optische Fertigung entwickelt wurde, unterstützt die hocheingabefähige Produktion von Linsen, Prismen, Laseroptik und photonischen Substraten.
Wesentliche Merkmale
- Hohe Materialentfernung für eine verbesserte Produktivität
- Ausgezeichnete Oberflächenglattheit und geringe Untergrundschäden
- Stabile Dispersion mit minimaler Agglomeration
- Kratzerfreie Polierleistung
- Kompatibel mit automatisierten CMP- und optischen Poliersystemen
- Lange Lebensdauer des Güllers und stabile pH-Kontrolle
PartikelgrößenverteilungDie
Anwendungen
- Präzisionsoptische Linsenpolieren
- Photonik-Substrate und optische Glasveredelung
- Laserkristalloberflächenplanarisierung
- Kameraoptik und Bildgebungssysteme
- Polstern von Prismen und Spiegeln
- Komponenten für optische Kommunikation
Häufig gestellte Fragen
Q1. Wofür wird Cerium-Oxid-CMP-Schlamm verwendet?
Cerium-Oxid-CMP-Schlamm ist ein chemisch-mechanisches Poliermaterial, das für eine hochpräzise Oberflächenveredelung entwickelt wurde.Es kombiniert mechanischen Abrieb und chemische Wechselwirkungen, um eine hohe Effizienz bei der Materialentfernung zu erzielen und gleichzeitig eine hervorragende Oberflächenglattheit zu erhalten.
F2. Wie wähle ich den richtigen Ceria-Schlauch für meine Anwendung aus?
Die Auswahl hängt hauptsächlich von der Art des Materials und dem Ziel des Verfahrens ab.
Unser technisches Team kann bei der Optimierung der Schlammwahl basierend auf der Poliermaschine, dem Pad-Typ und den Anforderungen an die Oberflächenqualität helfen.
Q3. Welche Materialien können mit Cerium-Oxid-Schlamm poliert werden?
Cerium-Oxid-CMP-Schlamm eignet sich für eine Vielzahl von fortgeschrittenen Materialien:
- Glas für Optik
- Zäphir
- mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm
- Laserkristalle (YAG usw.)
- Photonische Substrate
- Zusammengesetzte Halbleitermaterialien
Produkt-Highlights
Cerium-Oxid-CMP-Schlamm mit hoher Entfernung für optische Glas- und Photonikkomponenten Produktübersicht Cerium-Oxid-CMP-Schlamm mit hoher Entfernung ist für die Präzisionspolierung von optischem Glas und photonischen Komponenten ausgelegt, die eine schnelle Materialentfernung mit kontrollierter ...
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