Alta Velocità di Rimozione Cerium Oxide CMP Slurry per Vetro Ottico e Componenti Fotonici
Dettagli del prodotto
| Materiale abrasivo: | CeO2 | Dimensione delle particelle (D50): | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| contenuto solido: | 5 – 20% in peso | pH: | 6.5 – 8.5 |
| aspetto: | Liquame bianco | Stabilità della dispersione: | Eccellente |
| Evidenziare |
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Descrizione di prodotto
Alto tasso di rimozione di ossido di cerio CMP Slurry per vetri ottici e componenti fotonici
Visualizzazione del prodotto
L'acciaio CMP è progettato per la lucidatura di precisione di vetri ottici e componenti fotonici che richiedono una rapida rimozione del materiale con una qualità superficiale controllata.La morfologia ottimizzata delle particelle consente una pianificazione efficiente mantenendo al contempo un'eccellente integrità superficiale e stabilità del processo.
Progettato per la produzione ottica avanzata, questo liquame supporta la produzione ad alto rendimento di lenti, prismi, ottiche laser e substrati fotonici.
Caratteristiche chiave
- Un elevato tasso di rimozione dei materiali per una maggiore produttività
- Eccellente liscezza superficiale e basso danno sotterraneo
- Dispersione stabile con minima agglomerazione
- Performance di lucidatura senza graffi
- Compatibile con sistemi automatici di lucidatura CMP e ottici
- Lungo tempo di vita dello strato e controllo del pH stabile
Distribuzione della dimensione delle particelleLa Commissione
Applicazioni
- Lustratura di lenti ottiche di precisione
- Substrati fotonici e finiture di vetri ottici
- Pianificazione superficiale dei cristalli laser
- Optica e sistemi di imaging per telecamere
- Polizione di prismi e specchi
- Componenti di comunicazione ottica
Domande frequenti
Q1. A che cosa serve lo slurry CMP dell'ossido di cerio?
Il liquido CMP di ossido di cerio è un materiale di lucidatura chimico-meccanico progettato per la finitura superficiale ad altissima precisione.Combina abrasione meccanica e interazione chimica per ottenere un'elevata efficienza di rimozione del materiale mantenendo un'eccellente liscezza superficiale.
Q2. Come selezionare il giusto liquame di ceria per la mia applicazione?
La selezione dipende principalmente dal tipo di materiale e dal processo di lavorazione.
Il nostro team tecnico può aiutare a ottimizzare la selezione dello slurry in base alle esigenze della macchina di lucidatura, del tipo di pad e della qualità della superficie.
Q3. Quali materiali possono essere lucidati utilizzando lo slurry di ossido di cerio?
L'impasto di CMP di ossido di cerio è adatto a una vasta gamma di materiali avanzati:
- Vetro ottico
- Sapphire
- Ofrelle di silicio
- Cristali laser (YAG, ecc.)
- Substrati fotonici
- Materiali semiconduttori composti
Caratteristiche del prodotto
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