Pâte de polissage au cérium à haut taux d'enlèvement pour verre optique et composants photoniques
Détails de produit
| Matériau abrasif: | CeO2 | Taille des particules (D50): | 0,3 – 0,8 µm |
|---|---|---|---|
| contenu solide: | 5 à 20 % en poids | pH: | 6,5 – 8,5 |
| apparence: | Bouillie blanche | Stabilité de la dispersion: | Excellent |
| Mettre en évidence |
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Description de produit
Pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement pour verre optique et composants photoniques
Présentation du produit
La pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement est conçue pour le polissage de précision du verre optique et des composants photoniques nécessitant un enlèvement rapide de matière avec une qualité de surface contrôlée. La morphologie optimisée des particules permet une planarisation efficace tout en maintenant une excellente intégrité de surface et une stabilité du processus.
Conçue pour la fabrication optique avancée, cette pâte prend en charge la production à haut débit de lentilles, de prismes, d'optiques laser et de substrats photoniques.
Caractéristiques principales
- Taux d'enlèvement de matière élevé pour une productivité accrue
- Excellente douceur de surface et faible dommage en sous-couche
- Dispersion stable avec agglomération minimisée
- Performance de polissage sans rayures
- Compatible avec les systèmes de polissage mécano-chimique et optique automatisés
- Longue durée de vie de la pâte et contrôle stable du pH
Distribution de la taille des particulesApplications
Polissage de lentilles optiques de précision
- Finition de substrats photoniques et de verre optique
- Planarisation de surface de cristaux laser
- Optiques de caméra et systèmes d'imagerie
- Polissage de prismes et de miroirs
- Composants de communication optique
- Foire aux questions
Q1. À quoi sert la pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium ?
La pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium est un matériau de polissage mécano-chimique conçu pour la finition de surface ultra-précise. Elle combine abrasion mécanique et interaction chimique pour obtenir une efficacité d'enlèvement de matière élevée tout en maintenant une excellente douceur de surface.
Q2. Comment sélectionner la pâte de cérium appropriée pour mon application ?
La sélection dépend principalement du type de matériau et de l'objectif du processus.
Notre équipe technique peut aider à optimiser la sélection de la pâte en fonction de la machine de polissage, du type de tampon et des exigences de qualité de surface.
Q3. Quels matériaux peuvent être polis à l'aide de la pâte d'oxyde de cérium ?
La pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium convient à une large gamme de matériaux avancés :
Verre optique
- Saphir
- Tranches de silicium
- Cristaux laser (YAG, etc.)
- Substrats photoniques
- Matériaux semi-conducteurs composés
Points forts du produit
Pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement pour verre optique et composants photoniques Présentation du produit La pâte de polissage mécano-chimique à base d'oxyde de cérium à haut taux d'enlèvement est conçue pour le polissage de précision du verre optique ...
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